资讯
403秒，我国人造太阳创造新世界纪录(2023-04-14)
电，人类有望实现能源自由。
但要造出能实用的“人造太阳”，需要上亿摄氏度的等离子体、超过千秒的连续运行时间和1兆安的等离子体电流，挑战极大。为此，全球科学家们已努力70多年。
形如“巨炉”，一腔......
核心部件完成首件制造，中国“人造太阳”迎来高光时刻！(2022-12-02)
国还是不遗余力在参与这项研究。我国这次的新一代“人造太阳”便是探索可控核聚变的重要一步，未来很多关键技术等待攻关。新一代“人造太阳”等离子体电流突破100万安培是一项重要的科研突破。郑雪表示，实现核聚变，需要离子温度、等离子体......
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰(2023-10-17)
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰;海洋光学（Ocean Optics）长期以来一直为半导体工艺设备供应商的新材料研究提供强大支持，同时协助用户克服等离子刻蚀、沉积、涂层......
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰(2023-10-17)
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰;摘要：海洋光谱仪基于光学发射光谱，助力半导体制程良率提升
海洋光学（Ocean Optics）长期......
美国空军"冷冻射线"技术背后的科学原理(2023-08-03)
美国空军"冷冻射线"技术背后的科学原理;你知道《蝙蝠侠》中的大反派冰冻先生用来"冰冻"敌人的冷冻射线枪吗？弗吉尼亚大学的一位教授认为，他可能已经知道如何在现实生活中制造一把这样的枪了。这一发现令人惊讶地基于发热等离子体......
国家能源集团：新型等离子体稳燃技术首次应用百万机组，可节电超 20%(2022-08-15)
国家能源集团：新型等离子体稳燃技术首次应用百万机组，可节电超 20%;据国家能源集团消息，最新一代 DLZ-HV-200 型高效等离子体点火及稳燃系统近日在国家能源集团江西神华九江发电公司 2 号机......
事关光刻机！美国开发新光源：效率有望提升10倍(2025-01-08 14:03:24)
功耗分别高达1,170千瓦和1,400千瓦，高能耗来自EUV原理，也就是藉由高能激光脉冲，以每秒数万次频率蒸发锡球（约50万°C）以形成等离子体，然后发射13.5纳米波长光。这不仅需庞大雷射基础设施和冷却系统，还需......
理解电弧能的测量、对比和控制方法(2023-03-09)
内的能量大小一直是需要考虑的最重要因素之一。本文引用地址：
本文列出了常见电弧事件的电气特性，描述了可重复测得的方法，提供了一些利用先进等离子体电......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线(2021-04-06)
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线;4月6日消息，中微公司举行了2020年度业绩说明会。会上，中微公司董事长、总经理尹志尧表示，公司的等离子体......
尹志尧：打造全方位高质量的，有国际竞争力的半导体设备公司(2021-09-02)
尹志尧：打造全方位高质量的，有国际竞争力的半导体设备公司;中微半导体设备公司在刻蚀领域和薄膜沉积领域深耕已久，并曾制造出中国第一台电解质刻蚀机。目前它推出的等离子体......
助力晶圆生产工艺改进，海洋光学参加2022中国半导体设备年会(2022-10-25 13:18)
给客户一个包罗万象的工具箱，为客户提供做出创新仪器的全套工具模块，客户用这个工具箱可以在半导体等领域进行自己的开发，实现自己的创新理念。”蚀刻终点监测：等离子体检测系统在半导体行业 , 晶圆是用光刻技术制造和操作的。其中......
引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容(2023-03-29)
工艺流程。可视性沉积的步骤通过在顶端夹止的方式产生空气间隙，然后进行CMP步骤除去多余的氮化硅。空气间隙减少了栅极和源极/漏极之间的寄生电容。空气间隙的大小可以通过改变刻蚀反应物的刻蚀深度、晶圆倾角和等离子体......
引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容(2023-03-28)
间隙减少了栅极和源极/漏极之间的寄生电容。空气间隙的大小可以通过改变刻蚀反应物的刻蚀深度、晶圆倾角和等离子体入射角度分布来控制。
使用SEMulator3D的虚拟测量功能测量以下指标：
1 栅极金属和源极/漏极......
改善半导体的导热性的新方法：使用表面等离子体激元进行传热(2023-07-04)
改善半导体的导热性的新方法：使用表面等离子体激元进行传热;工程师们发现了一种使用表面等离子体激元 (SPP) 的新传热模式，在半导体热管理方面取得了重大突破。 这种新颖的方法将散热提高了 25......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付(2021-06-10)
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付;中微公司官微消息显示，6月9日，中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反......
改进晶圆制造工艺，探索蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案(2022-10-18)
减小尺寸或提高速度来进一步改进几乎是不可能的。相反，制造商专注于晶圆质量、可重复性和整体良率，以及提高产能。目标是满足对智能电子产品不断增长的需求，同时保持生产成本和价格竞争力。
我们的观点微弱等离子体......
射频功率放大器在辉光放电特征及风速测量原理中的应用(2023-03-13)
射频功率放大器在辉光放电特征及风速测量原理中的应用;实验名称：辉光放电特征及风速测量原理
研究方向：辉光放电
测试设备：信号发生器、ATA-8202射频功率放大器，热成像仪、万用表、等离子体......
使医疗器械低温灭菌成为标准规程：relyon plasma 团队的远大抱负(2024-07-24)
以可靠地取代传统灭菌流程。我们从一开始就坚信，我们在低温等离子体技术方面的专业知识可以制造出开创性的灭菌和消毒设备。”
消毒和灭菌方法
医疗器械灭菌和消毒的不同方法的选择取决于温度和使用的化学物质。
当今，大部......
改进半导体制造，海洋光学为晶圆蚀刻提供全光谱等离子监测解决方案(2022-09-15)
保持生产成本和价格竞争力。
我们的观点
微弱等离子体或晶圆光谱的快速分析有助于完善蚀刻工艺参数，同时提高晶圆质量。基于光谱仪的等离子体测量与强大的软件相结合，可以说明等离子体、腔室......
什么是可控核聚变？可控核聚变到底处于什么水平呢?(2023-01-05)
最高的磁约束核聚变研究大科学装置平台。2022年，HL-2M装置创造了国内等离子体运行新纪录，等离子体电流达到115百万安培，意味着该装置未来可以在超过1兆安培的等离子体电流下常规运行，开展前沿科学研究，对我国深度参与ITER实验......
三星研发“智能传感器系统”，用于提高半导体良率和产能(2023-12-26)
半导体良率的关键点之一是，精确控制半导体生产过程中等离子体均匀性和密度，而“智能传感器系统”用于测量晶圆等离子均匀性，准确测量和管理蚀刻、沉积和清洗的工艺性能，有望提高半导体良率和产能。
三星......
三星研发“智能传感器系统”，用于提高半导体良率和产能(2023-12-26 10:26)
三星研发“智能传感器系统”，用于提高半导体良率和产能;三星电子公司正在开发“智能传感器系统”，用于控制和管理半导体工艺。提高半导体良率的关键点之一是，精确控制半导体生产过程中等离子体均匀性和密度，而......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运(2024-03-21)
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运;3月21日，中微公司宣布，公司电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反......
北大集成电路学院PEALD设备采购项目中标结果公示(2022-05-17)
北大集成电路学院PEALD设备采购项目中标结果公示;5月9日，北京大学集成电路学院等离子体增强原子层沉积设备采购项目中标结果公示。该项目中标供应商为西安思密康电子科技有限公司，中标货物为1套等离子体......
Tokamak Energy 正在研究使用球形托卡马克和高温超导 (HTS) 磁体的组合进行聚变(2022-12-24)
降低了未来聚变发电厂的成本——这对于商业化和规模化至关重要技术。
超导磁体在托卡马克系统中用于集中和隔离等离子体，使其能够达到聚变所需的高温。低温......
世界最大核聚变实验装置在日本运行！(2023-12-05)
运行的纪念仪式，这台六层楼高的机器位于东京北部那珂市的一个机库内，包括一个圆环形的“托卡马克”容器，旨在容纳加热至2亿摄氏度的旋转等离子体。
随着中央控制室内的按钮被按下，数秒钟后装置内就产生了超高温等离子体......
光子超材料表现出新物质态特征，符合连续“时间晶体”属性(2023-05-10)
人员使用光子超材料来实现连续的时间晶态。他们使用的系统是由柔性纳米线支撑的二维等离子体元分子阵列，即促进与纳米级光相互作用的人造结构。
结果证明，用与其中所含超分子的等离子体......
三星计划在其芯片工厂实现100%的机器人化：告别人工劳动？(2024-01-04)
所有成功公司所追求的目标。本文引用地址：该系统主要设计用于实时监控和分析生产过程，目前能够自动管理等离子体均匀性。
据DigiTimes报道，随着时间的推移，计划在2030年之前使其工厂实现全，摆脱对人力的依赖。
整个......
北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线(2024-01-11)
北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线;近日，由北方华创自主研发的12英寸高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备Orion Proxima正式进入客户端验证。
北方......
分子“手提钻”利用振动撕裂癌细胞，对实验室培养的人类黑色素瘤细胞疗效达99%(2023-12-27)
厘米，而用来激活纳米钻的可见光的穿透深度仅为半厘米。
这种“手提钻”其实是氨基花青分子，是一类用于医学成像的荧光合成染料。研究发现，该分子的原子在受到近红外光刺激时可一致振动，形成等离子体，从而......
《流浪地球2》那些装备离我们还有多远？ 我们设备人要怎么给那些硬核装备做好维保服务(2023-02-10)
-2M）装置。中核集团核工业西南物理研究院供图
新一代“人造太阳”（HL-2M）装置，其等离子体电流能力提高到2.5兆安培以上，等离子体离子温度可达到1.5亿度。
这是......
Gallium Semiconductor推出首款ISM CW放大器，扩大产品组合(2023-09-19)
Transistor，HEMT）。GTH2e-2425300P可为各类工业、科学和医学（ISM）应用带来全新的效率水平，其中包括半导体等离子体源和用于生产合成金刚石的微波等离子体化学气相沉积（microwave......
华为、哈工大联手：基于硅和金刚石的三维集成芯片专利公布(2023-11-21)
公布。
专利摘要显示，本发明涉及芯片制造技术领域。
该方法包括：制备硅基Cu/SiO2混合键合样品和金刚石基Cu/SiO2混合键合样品后进行等离子体活化处理;将经等离子体活化处理后Cu/SiO2......
可控核聚变的未来谈论，是否能成为我们未来的能源，第一部分(2023-02-09)
以解释为半个世纪的失败，而且确实如此。但在如此严峻的情况下，很难不抱最好的希望，追求融合力量的可能性。坦率地说，最近在融合方面有很多令人鼓舞的发展。
聚变反应堆的几个重要运行参数之一是将等离子体......
中微公司南昌生产研发基地项目正式建成，并投入使用(2023-07-10)
MOCVD设备主要用于氮化镓（GaN）基Mini LED外延片量产，同年其设备订单超100腔，并入选江西省科技成果转化十大典型案例。
中微公司开发的等离子体......
总投资超30亿元！绵阳炘皓新能源将建14GW N型高效电池项目(2024-01-22 10:23)
安装硼扩散、等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）、物理气相沉积设备（PVD）、板式原子层沉积设备（ALD）、烧结炉、光注入、碱抛机、碱制绒机、热水机、烘干炉、镀舟机、插片机、分选机、测试机、冷水......
盛美上海：预计2023年全年营业收入36.5亿元-42.5亿元(2023-01-04)
单片兆声波清洗设备已经交付美国头部客户，调试工作进行顺利。国际销售团队正在积极开拓中国台湾、韩国、欧洲大客户。
盛美上海推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准(2023-05-11)
已顺利导入客户端进行生产线核准。
中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。据悉，中微公司的等离子体......
欧空局推出硬币大小的MEMS火箭推进器(2023-10-11)
帝国理工学院）
非常规的制造方法
该推进器是在伦敦帝国理工学院帝国等离子体推进实验室（Imperial Plasma Propulsion......
国产半导体设备实现关键突破！(2024-09-12)
着中微公司在半导体领域中扩展了全新的工艺应用。
万业企业旗下凯世通半导体：离子注入机基本自主可控！
近日，万业企业旗下凯世通半导体与国内顶尖的集成电路制造企业、中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所等达成战略合作，通过......
半导体制造工艺——挑战与机遇(2024-01-12)
物和氮化物等材料。
第五步：蚀刻
从晶片表面去除部分材质，以产生电子元件所需的形状和结构。可以使用多种技术来进行蚀刻，包括湿式蚀刻、干式蚀刻和等离子蚀刻。这些工艺使用化学物质或等离子体......
受益于半导体设备市场发展，中微公司2021年新签订单量暴增(2022-02-24)
利等国家和地区。
从上面的业绩报告来看，2021年中微公司的新签订单大幅增加也是净利润增长的主要因素之一。
据官方披露，2021年6月，中微公司宣布电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo......
中微公司在针对美商科林研发提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉(2023-07-11)
制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们......
中微半导体设备（上海）股份有限公司声明(2024-02-05)
于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些......
采用TDC-GP1和FPGA器件实现纳秒量级时间间隔测量系统的设计(2023-06-13)
采用TDC-GP1和FPGA器件实现纳秒量级时间间隔测量系统的设计;1 引 言
随着空间探测技术的发展，空间的等离子体成分探测显得越来越重要，尤其对现在正在进行的深空探测，如探月计划。而空间等离子......
芳华十八，砥砺奋发：中微公司成立18周年(2022-08-03)
树立行业标杆
自2004年成立以来，中微致力于开发和提供具有国际竞争力的微观加工的高端设备，现已发展成为国内高端微观加工设备的领军企业之一。
凭借极具竞争优势的高端等离子体刻蚀机和MOCVD设备，中微......
中微公司成功从美国国防部中国军事企业清单中移除(2024-12-23 13:45)
制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包括十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体......
52腔MOCVD设备，中微公司再接大单(2022-03-29)
显示屏等终端产品。
△Source：中微公司
资料显示，中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，开发的离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备。
其中等离子体......
国产半导体设备，传来新消息(2024-11-12)
知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种等离子体刻蚀方法和刻蚀装置”的专利，公开号CN 118919407 A，申请日期为2023年5月。专利摘要显示，本发明提供一种等离子体......
2022年“创造未来”设计大赛圆满成功(2022-11-01 16:17)
-Dressed Spacecraft，可感应振动的压电纤维和冲击等离子体电荷传感导电绒布。• 汽车/交通运输 — Betterfrost Ultra-low Energy Defrost &......
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