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久日新材:年产600吨微电子光刻胶专用光敏剂项目投产;5月31日,天津久日新材料股份有限公司(以下简称“久日新材”)发布公告称,公司控股子公司大晶信息化学品(徐州)有限公司(以下简称“大晶......
业收入分别为6.1亿元、9.7亿元、16.4亿元和19.5亿元。对此中微公司表示,主要受三个因素驱动:等离子体刻蚀机的市场迅速增长、MOCVD设备的市场需求增长和国内集成电路制造产业发展。 2.北方华创 北京北方华创微电子......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是,到现在也没人见过这台国产光刻机,主要原因可能就是上海微电子光......
过科创板上市委会议,这意味着其距离上市又进了一步;上海微电子则专攻光刻机,其技术在中低端领域已达相对较领先水平,产品已实现90nm制程覆盖。 在众多设备领域中,光刻机......
硕博士。团队骨干均为国内首创激光直写光刻设备、激光曝光设备的核心骨干成员。 “有别于传统的创新,我们是完全自主知识产权,用在集成电路制造领域的核心装备,目标是取代进口。”合肥芯碁微电子......
渐进入全面投资阶段。 大基金二期投资转向以设备、材料为重点的投资 下半年6月至今,大基金二期投资涉及企业主要有至微科技、佰维存储、南大光电、格科微、广州慧智微电子中微公司、华润微,总投......
和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
其设备国产化率有明显提高趋势。在中标厂商中,北方华创、中微公司、屹唐、芯源微电子、上海精测、盛美上海等占比较大。分设备看,干法去胶设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入机、抛光设备、涂胶......
投资也主要以这些为主。截至目前,大基金二期已经公开投资的企业包括中芯国际、中芯南方、睿力集成、紫光展锐、中微公司、思特威、珠海艾派克微电子等,总投资金额已达到数百亿元。 此外,华润微于6月7日发布公告称,旗下全资子公司华润微电子......
现了中国政府直面挑战的决心和大国魄力。 巨头垄断,设备推广面临挑战:相对于中国产光刻机的步履维艰,中国产氧化炉、刻蚀机与薄膜沉积设备已初现活力,中国产设备正逐渐打入中芯国际、华力微电子、三安光电、武汉......
三家。中国大陆先进制程设备和技术严重受限,光刻设备获取艰难,自研进程道阻且长,国产化率不足1%。 上海微电子 目前,在光刻机领域被寄予厚望的上海微电子还正在IPO辅导中,此次IPO,上海微电子......
领域所需芯片在全球半导体市场中占比微乎其微,而只有最先进的设备(如光刻机)需要的芯片数量及种类才会越多。 但是据产业链消息反馈,目前设备领域所需的工业MCU、FPGA、嵌入式处理器和其他关键芯片供应紧张,部分......
ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系,当这些子光......
半导体工艺向7nm及以下节点的推进,极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光......
为一体且拥有自主知识产权的科技型企业。上半年,长进微电子光刻胶产品工艺性能指标不断优化,已成功开发出紫外g /i line光刻胶、紫外Lift-off光刻胶、电子束光刻胶、保护胶等产品线,应用于集成电路、分立器件、先进......
为主导。近年来,上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高,虽在光刻机、量测检测设备、离子......
另辟蹊径?俄罗斯拟自研“比ASML便宜”的EUV光刻机;综合CNews、Tom′s Hardware报道,俄罗斯科学院微结构物理研究所(IPM RAS)宣布了一项名为“高性能X射线光刻......
精雕JDMR600数控机床、施耐德DNF7型铠装移开式开关柜、上海微电子光刻机等展品建模85个,视频及灯箱热点600余项。现已有华为、维特根、精雕集团等15家企业与廊坊市达成项目合作。 华为......
国产光刻机巨头,更新上市进展?;近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE,简称 “上海微电子”)IPO动态消息震动产业界,概念股乘势而起,那么实际情况究竟如何? 并未......
国产光刻机最大的希望!上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露,上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市,中信建投是其辅导机构。 根据官方信息,上海微电子......
技术至少落后ASML 15年。所幸的是,近期上海微电子装备宣布,将于年底开始量产28nm immersion式(沉浸式)光刻机,并于2021-2022年交付。从90nm到28nm将极大缩短我国与国际光刻机......
几年高NA EUV光刻机应用后,掩膜制作的计算数据量将提升10倍以上,目前cuLitho软件加速库已经支持高NA EUV光刻可能用到的曲线掩膜、亚原子光致抗蚀剂掩膜等制造。 ......
上海微电子推出新一代先进封装光刻机,首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息,9月18日,上微举行新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源:上海微电子......
巨头ASML也不例外,因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子,自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大,独家垄断了EUV光刻机,占据......
,该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术,当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻,中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成,虽然这种做法技术难度大,良率较低,成本也高出许多。 目前中国大陆国产最先进的仍是上海微电子......
半导体行业分析师张宏周二对《环球时报》表示,上海微电子装备集团(以下简称,上海微电子)一直致力于研发 浸没式光刻机,预计首台国产 SSA/800-10W 光刻机将于 2023 年底交付。 这将......
年5月,建成高档G/I线正胶生产线(500 吨/年)和正胶配套试剂生产线(1000 吨/年);2012年12月,科华微电子建成248nm光刻胶生产线。 科华微电子光刻......
直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限,我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机,产能......
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
学代表表示,该综合体由圣彼得堡理工大学开发,旨在创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机,第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二......
威力科创TokyoElectron)宣布,将于镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产,以维持原本2023年问世的期程。另外,除了东京电子之外,比利时微电子研究中心(IMEC)也是......
亦庄此前报道,作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位,科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称,上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。 该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一......
创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机,第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案,俄媒......
微芯片密度提高近3倍。 据悉,0.55NA光刻机比现售的0.33NA EUV光刻机大出30%,售价约是0.33NA EUV的2倍。目前,为克服技术挑战,ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC......
无论技术还是成本角度,Hyper NA之后该怎么走,谁的心里都没数。 微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示:“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件,只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻,现有的光刻技术必然终结。” ......
片生产线上得到大规模应用。在全球前8家芯片生产公司中,中微的设备已在5家量产,同时正在进入另外2家。 除中微外,另一家国内半导体设备五强企业北京北方华创微电子装备有限公司业绩同样呈现向好趋势。财报显示,北方华创2016......
生产节点的电子束光刻设备的开发,能够掌握外延法(即在单个衬底上生长多层半导体材料的过程)工艺;到2030年,俄罗斯能够自主生产65nm或90nm制程的国产光刻系统,这将显著提高俄罗斯生产微电子......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
胶(Photoresist)是一种对光敏感的混合液体,是微电子技术中微细图形加工的关键材料,由光引发剂(光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶材料剂、单体(活性稀释剂)和其他助剂组成。 从化......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息,近日,华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域,入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日,北京......
心里都没数。 微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示:“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件,只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻,现有的光刻技术必然终结。” ......
是半导体芯片的核心生产部件,是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备,被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等,在国产化的浪潮下,如上海微电子......
市场高度集中,全球掌握该技术的只有少数几家企业,其中荷兰ASML是全球最大的光刻机企业,也是全球最先进的光刻机企业,此外,尼康、佳能、上海微电子装备等公司亦在积极布局光刻机领域。 而用于曝光半导体的极紫外光刻......
莫大康:重启专项加速国产化进程;全国政协委员、中国科学院微电子研究所研究员周玉梅表“十二五”“十三五”期间,我国集成电路产业的快速发展得益于重大专项的部署,显效突出。希望......
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机;比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布,双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻......
必须在真空环境中传输,机械精确度要达到皮秒级,光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发,2000年开始,我国团队参观ASML,遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机,ASML态度......

相关企业

;中微电子;;
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
;襄阳仪波达微电子设备有限公司;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是集科研、制造、销售、服务为一体的高新技术企业。是由一批具有丰富技术经验的和敬业精神的优秀团队所组成,是我国微电子
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临章丘市冠牌电子
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
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