中微光刻机最新消息

半导体光刻机巨头，何去何从？;3月27日消息，据外媒报道，为留住光刻机设备巨头阿斯麦（ASML）继续在荷兰发展，荷兰政府计划向ASML注入至少10亿欧元资金。 本月初，荷兰当地报纸De...

领域所需芯片在全球半导体市场中占比微乎其微，而只有最先进的设备（如光刻机）需要的芯片数量及种类才会越多。 但是据产业链消息反馈，目前设备领域所需的工业MCU、FPGA、嵌入式处理器和其他关键芯片供应紧张，部分...

厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分，半导体设备可分为晶圆制造（前道设备）和封装、测试设备（后道设备）。 前道晶圆制造设备占据了市场80％以上的份额，设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀...

消息称美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备;据外媒最新消息称，美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备。 报道中提到，因对华为开发先进芯片的担忧日益加剧，美国正推动日本、韩国、荷兰...

光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件; “OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们...

的贸易稳定荷兰会想尽办法维系！” 但意外的是，没过多久ASML便官宣了一个新消息，负责人表态：“有能力远程锁定台积电的光刻机！”这也间接暴露了ASML所有售卖的设备都被留有“后门”，随时都可以将它们变成“废铁”。 这就...

国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露，上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市，中信建投是其辅导机构。 根据官方信息，上海...

半导体光刻机巨头，何去何从？;3月27日消息，据外媒报道，为留住设备巨头阿斯麦（）继续在荷兰发展，荷兰政府计划向注入至少10亿欧元资金。本文引用地址：本月初，荷兰当地报纸De Telegraaf揭露...

华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年...

三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于生产最新...

有制造的基础上进行一次新的制造，而且重新制造出来的产品无论是性能还是质量都不亚于原先的新品。 韩国的半导体计划 作为另一个半导体制造重镇，韩国最近在大规模的布局半导体产业。根据最新消息，韩国打算在未来10年花...

进行大规模生产。 此外，据韩联社报道，三星集团此次投资的一部分或将用于确保购入荷兰阿斯麦公司制造的光刻机。据路透社最新消息显示，ASML最新旗舰光刻机售价约为4亿美元。 值得注意的是，在公...

次与中芯国际部分成熟制程工艺设备供应商也在同次获批。 据了解，中芯国际曾以1.5亿美元的价格向荷兰阿斯麦订购了一台最新型的EUV光刻机。一般来说，根据日内瓦协议，本应在2019年初交付的EUV光刻机最终由于美国方面阻扰，未成...

国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未...

量存储芯片等在短期将无法扩产，中长期可能将不得不转用DUV干法光刻机，从而芯片的制造成本上升，导致市场竞争力下降。 不过从最新消息来看，主要限制对华出口的还是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，可能...

国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机...

气相沉积（PVD）和氧化等特定领域，国产化比例已超过50%。但关键的光刻机设备主要还是依赖于进口。 一组统计数据显示，2023年1-6月期间，在中国A股上...

直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限，我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机，产能...

370亿项目搬入光刻机;3月11日，广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目（以下简称“增芯项目”）迎来工厂最核心设备--光刻机搬入，标志...

考虑扩大在刻蚀设备领域的竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。 图片来源：中微公司2020年度业绩说明会视频截图 至于业界关注的光刻机研发计划，尹志尧则表示，公司...

成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。” 据刘...

推测他们所使用的设备应该就是ASML最新一代的0.33NA EUV。光刻机设备与芯片制程工艺相匹配，目前EUV光刻机暂时能满足量产3nm的需要，但是3nm以下工艺却难以胜任。这也是ASML加速研发新的光刻机的原因之一。 据近期外媒消息...

台积电仍是采用传统工艺，结果成本、性能提升并没有想象中那么美好。另外，2nm芯片预计在3年后出现，也是2025年，这意味着芯片制程缩小越来越难了。 ASML已经官宣了High NA EUV光刻机新消息，称...

设备（特别是EUV光刻机）等领域仍存在一定差距，但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域，中国企业已经取得了一定的市场份额，并逐步实现国产化替代。 市场...

晶瑞电材子公司冲关新三板 持续发力光刻胶领域;最新消息，从事光刻胶业务的苏州瑞红电子化学品有限公司（以下简称“苏州瑞红”）拟冲关新三板，持续发力光刻胶领域。 苏州瑞红申请新三板挂牌 5月...

杀器 光刻机之王的桂冠，如今戴在ASML的头上，但正如众人所熟知的那样，20年前这项荣誉属于尼康。 尼康成立于1917年，上世纪60年代涉足半导体业务，得益于上世纪80年代...

25亿一台！英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装：展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息，ASML新任CEO近日公开表示，两台High NA EUV光刻机（单台设备的售价约为3.5亿美...

ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元;6月6日消息，荷兰制造商今年将向交付其最新款。据公司发言人莫尼克·莫尔斯（Monique Mols）透露，首席财务官罗杰·达森（Roger...

TCL成立半导体公司；合肥长鑫产能提前达产；上海新阳再购入光刻机;TCL拟10亿元设立半导体公司 3月10日晚间，TCL科技发布公告，为顺应国内半导体产业的蓬勃发展趋势，进一...

设备基本可以覆盖半导体制造流程的各阶段所需（除光刻机外），各领域设备国产化率及主要厂商如下图所示。 图片来源：全球半导体观察制表 整体上，我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高，在CMP、热处...

双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。 多种 EUV 光刻机共用一个基础平台，在降低开发成本的同时，也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。 根据此前报道，ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机...

微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机...

国内半导体设备新消息：第1000台出机;12月18日，国内集成电路质量控制设备制造商深圳中科飞测科技股份有限公司（以下简称“中科飞测”）发布公告称，近日，公司第1000台集...

ASML：中国已有近1400台ASML光刻机;11月3日消息，毫无疑问，中国厂商正在疯狂抢购ASML的光刻机，但是你知道有多少了吗？ 在第六届中国国际进口博览会上，ASML全球副总裁、中国...

生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机; 由于内存价格暴跌，、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资，降低了产能，然而作为内存一哥不为所动，不仅不打算减产，甚至...

制造设备、光刻机核心部件生产商，激光雷达整机企业，半导体和平板显示设备制造商等提供核心元器件及应用解决方案，产品逐步被应用于先进制造、医疗健康、科学研究、汽车应用、信息技术五大领域。 招股书指出，炬光...

公司年报截图 在年报中，中微公司就刻蚀技术的未来发展作出了分析。分析指出随着芯片制程向5纳米及更先进制程发展，当前浸没式光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用...

可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10...

本次的密访动作似乎显示对这一明确的立场有了新的想法，有可能会修正其既定计划，提前导入High-NA EUV光刻机进行试验和学习。台积电何时使用ASML的最新技术将取决于何时最具成本效益，以及技术成熟度的平衡点。 为什么需要High...

，该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术，当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻，中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成，虽然这种做法技术难度大，良率较低，成本也高出许多。 目前...

技术也将提前到2024年下半年进入大批量制造（HVM）。上述制程或将有部分利用High-NA EUV光刻机。 三星方面，2022年6月外媒消息显示，三星电子副会长李在镕在荷兰ASML总部会见了ASML...

年的某个时候到来。本文引用地址：现有最新消息表明，采用 tGPU“Tiled-GPU”组合设计的 Meteor Lake 将有两种类型，主要用于 2023 年推出的下一代移动产品线。 爆料...

的东京电子、尼康，荷兰的ASML阿斯麦等企业在光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等关键领域拥有核心技术和领先的市场份额。 近年来，随着我国半导体产业的快速发展，对半导体设备的需求也日益增长。国内...

最新，国产光刻胶通过验证！; 据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现...

:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di，此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号光刻机，为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式光刻机。 2023年3月...

ASML声明：2050、2100光刻机出口许可证被部分撤销;1月2日消息，日前，荷兰光刻机巨头ASML在其官网发布声明，称部分光刻机出口许可证被撤销。 根据声明，荷兰政府最近部分撤销了2023年...

AI芯片制造方面，英特尔努力重新取得优势。消息人士还表示，另一对手三星2025年第一季将安装第一套High NA EUV光刻机。 取得ASML最先进的光刻机并不意味着代表企业就能顺利的进入“埃米...

全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新...

金二期投资杭州富芯半导体 据企查查最新消息，国家大基金二期投资了杭州富芯半导体。公开资料显示，杭州富芯半导体成立于2019年，注册资本94.5亿元，主要从事高性能模拟芯片的生产制造。 此前2019年11月15...

台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们; 6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。 报道中提到，ASML首席...