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俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。 2022年10月，CNews又称，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所（ IPF RAS ）在积极研发可生成7nm芯片的光刻机，而当......
已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机。 光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何况现在俄罗斯......
的产量预计为ASML设备的37%，光源功率为3.6千瓦，但这一性能已足够满足小规模生产需求。俄罗斯计划自主7nm芯片光刻机设备在2028年实现全面投产，效率预计比ASML光刻机高1.5-2倍......
俄媒就宣称该研究所将在未来几年内打造出国产 7nm 光刻机的工业样机，测试机将于2026年出现，并在 2028 年之前本土光刻机将获得更强大的辐射源并开始全面工业化应用。 俄罗斯......
移到国家国防公司Rostec的管理层，以保持最低限度的芯片生产能力并尝试制造进口替代产品。另一方面，俄罗斯国内的芯片市场需求有限，难以支撑快速发展。 之前，俄罗斯首台光刻机......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片; 10月10日消息，这对于ASML来说是不是有点魔幻，俄罗斯号称开发出可以替代的芯片制造工具。 据俄罗斯国际新闻通讯社报道，圣彼......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用......
350nm，俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm......
俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！; 12月19日消息，据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将......
人雅科夫·别特连科（Yakov Petrenko）披露，俄罗斯目前至少使用了400种不同型号的半导体制造设备，其中只有12%可以在当地生产。 晶圆制造设备主导市场，光刻机成半导体制造核心支柱 资料......
ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机;8月21日消息，据国外媒体报道称，ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示，世界需要中国生产的'传统芯片'，它们......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管欧洲制裁禁止向俄罗斯......
实体的合作，就连ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的设计师。 为了解决技术被“卡脖子”的问题，俄罗斯当时放下狠话，要自主研发光刻机，并计划在六年内突破芯片核心技术。那么，如今已经过去快三年了，其芯......
俄罗斯或在2028年量产7nm光刻设备;国际电子商情讯，据外媒Tomshardware报道称，俄罗斯一家研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，可以被用于7纳米制程芯片的生产上。 俄罗斯......
传俄罗斯2028年量产7nm光刻设备;据外媒Tomshardware报导，一家俄罗斯研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，预计该设备可以被用于7纳米制程芯片的生产上。整个计划预计在2028......
”，最多128核心。 当然，俄罗斯自身是不具备这种制造能力的，外媒猜测可能找到了其他渠道。 今年5月底的时候，瓦西里·施帕克曾透露，俄罗斯已经完成第一台自研光刻机，可生......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
了可能会在这些产品上留后门。因此，俄罗斯也对芯片进行了相应的研究，然而，在光刻机的问题上他们和当时的我们一样束手无策。没有光刻机就没法批量生产芯片，这样一来设计的芯片再高端也无法用之于民。 众所周知，现在......
IC国家标准发布 俄罗斯首台光刻机完成 三星传出罢工 1 NAND Flash厂商营收排名 根据TrendForce集邦咨询研究，受惠于AI 服务器自二月起扩大采用Enterprise......
EUV光刻新突破，是不是真的？;这几天，关于光刻的迷惑性传言又来了。 事情围绕 EUV而起，传闻者将其包装的“有鼻子有眼”，大概意思就是有总比没有强。发酵愈深，传闻愈悬。 这也引发EEworld坛友......
的技术突破，只能依靠自身培养。然而，这些努力似乎进展缓慢，还需要进一步提高。 至于自研光刻机，此前俄罗斯曾计划于2028年推出首款设备，而现阶段仍在持续研发当中。 ......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
、TWINSCAN NXT:2050i。 报导说，ASML官网上关于TNXT:1980Di介绍中指出，它在分辨率方面不小于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光分辨率，事实上光刻机是......
的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率......
在本次官方禁令范围内。该机器可支持中芯国际、华虹等国内半导体来生产 28nm 以上的成熟工艺。 据悉，该光刻机是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38......
上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT......
并不在限制范围内。 ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是......
在分辨率方面，写到是大于等于38nm，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆......
:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 ......
支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台，大多......
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址：       ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机是......
7nm高端DUV光刻机仍可出口！ASML：全力给中国客户交付;9月1日消息，ASML方面已经表示，将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。 据美国媒体报道称，ASML已经......
的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。 三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺；台积......
上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT......
IC设计厂商TOP10；俄罗斯限制氖气出口;“芯”闻摘要： 深圳发布集成电路“芯”政 IC设计厂商最新排名更新 俄罗斯限制氖气出口 半导体大厂们动作频频 三星访欧 深圳......
购了这家名为Berliner Glas的工厂。 晶圆代工厂疯抢光刻机设备 光刻机是一种制造芯片的关键设备，利用特定波长的光进行辐射，将掩膜版上特定的图像精准的印刻在硅片上。目前，光刻机......
系统的成本可能在 500 至 7 亿美元之间。 目前，俄罗斯最强大的超级计算机是 Yandex 旗下的 Chervonenkis，配备 1,592 个配备 Nvidia A100 GPU 的节点。性能......
也卖不动了，台积电被曝砍单40%订单。 EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的核心设备，全球只有荷兰ASML公司能够生产，售价高达10亿，下一代EUV光刻机会更会涨价到25亿以上，但是......
7nm，这是汽车芯片的主流节点。 具体来看，ASML的浸没式光刻系统ATWINSCAN NXT:2000i DUV(双工作台深紫外光刻机)，它的特殊复合材料来自日本，精密加工技术、镜头......
例，表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。 EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，荷兰对这类尖端设备进行出口管制，限制对华出口。根据日媒报道，日本......
年 目前，全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。其中，仅ASML一家就占据了全球80%以上的市场，是唯一能量产EUV光刻机（波长13.5nm，可生产7nm/5nm的芯片）的厂......
着自主研发的先进EUV光刻机，ASML公司在整个光刻机市场上也赚得是盆满钵满;因为EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备，所以不少芯片都抢着购买EUV光刻机，不过在老美的限制下，我国......
场份额，位居第一。第二名是真我 realme，7 月份的销量占到俄罗斯智能手机市场 17% 的份额，相比上个月的 13.4% 有了一定的增幅。   而第三名三星的市场份额降至 8.5%（6 月为......
约。光刻机是芯片制造的必需设备，EUV光刻机是目前7nm制程以下节点的核心设备，而全球只有荷兰ASML一家企业可生产EUV光刻机。 全球化的供应链遭遇严峻挑战 无论是限制“技术出口”或是“技术......
元之间。 EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，目前各方都在争取机会，以通过高新技术帮助本土芯片制造。此前，据日经中文网消息，日本......
限制 DUV，ASML 出口新规或将于近日实施！; 业内消息，荷兰政府的半导体新规预计最快会在下周开始实施，届时 的 DUV 光刻机将被限制出口。 2023 年 3 月，荷兰......

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