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进行包括极紫外（EUV）光刻机在内的半导体设备禁运，以小芯片等先进封装技术将成熟制程的芯片组合连结后达到先进制程芯片功能的技术，成为中国突破美方科技禁运的重要路线之一，很快......
突破美方封锁 国产小芯片4纳米封装开始量产;据台湾“中时新闻网”1月8日报道，用先进的封装技术连接功能不同的数个芯片以达到先进制程芯片功能的小芯片（又称晶粒）技术，被视为中国突破......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机获重大突破......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
至今无法进入大陆市场，不过DUV光刻机还勉强能进来，即便如此，这对我国芯片产业也非常重要，在国内科研人员的努力之下，我国成功突破了14nm工艺芯片的量产。或许有人不知道，14nm是半导体制程工艺中的一个分水岭，能进......
纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入，使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限，从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中，EUV光刻机......
14nm及以下的芯片制造设备。美媒传出消息，称正在向荷兰方面施压，要求ASML停止向中国芯片企业出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻机。不过，这次ASML反应不一样了，直接表示了拒绝态度。 全球......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
ASML柏林厂大火恐将影响EUV光刻机供应...;市调机构TrendForce在最新调查中指出，占地32,000平方公尺的柏林厂区中，约200平方公尺厂区受火灾影响。而柏林厂区主要制造光刻机中......
路别人是走不通的。 ASML与全球众多的供应链，形成了捆绑关系，像蔡司等与ASML形成了利益共同体，光刻机中，蔡司等厂商至关重要，掌握核心科技，缺少这些供应链，其它厂商不可能制造出EUV光刻机。 所以......
科益虹源光电技术公司日前发生了变化，注册资金从1.2亿元增加到2.02亿元，增长68%，新增投资人包括华为旗下的哈勃投资，占股4.76%，成为第七大股东。科益虹源主要业务是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统，是国......
司三季度业绩表现优于预期，净利润从上年同期的6.27亿欧元增至10.62亿欧元，销售额从上年同期的30亿欧元增至39.58亿欧元。 财报披露，在报告期内能确认销售收入的60台光刻机中，14台为极紫外光刻机，较上......
将获得更强大的辐射源，改进的定位和进给系统，并将开始全面的工作，2028年，这些设备全面运行。 时隔两年，俄罗斯所说的真的实现了——首台光刻机正式制造成功并进入测试。 有实际意义的突破 据塔......
（可生产7nm/5nm的芯片）的厂商。其中，ASML的EUV光刻机采用的零部件约有数十万个，其技术来源于全球各地，其中源自美国的技术超过20%。而目前全球唯二能量产7nm芯片的台积电和三星，均采......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
传 ASML 将提供特供 DUV 给中国，官方回应！; 据业内消息，在荷兰对实施了出口管制措施之后，业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机，近日 ASML 官方......
仅次于光刻！我国突破氢离子注入核心技术 100％国产; 9月11日消息，据国家电力投资集团官方消息，近日，集团所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司核力创芯暨国家原子能机构核技术(功率......
ASML：中国已有近1400台ASML光刻机;11月3日消息，毫无疑问，中国厂商正在疯狂抢购ASML的光刻机，但是你知道有多少了吗？ 在第六届中国国际进口博览会上，ASML全球副总裁、中国......
脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。   半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
着芯片制造技术的提升，一些半导体设备，制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识，只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的，一方......
200平方米厂区受火灾影响。而该厂区主要制造光刻机中所需的光学相关零部件，例如晶圆台、光罩吸盘和反射镜，其中用以固定光罩的光罩吸盘处于紧缺状态。目前该厂零部件以供应EUV机台较多，且以......
DUV光刻机出口许可被撤 ASML：中国订单已全数交付;近日巨头发布公告称，去年2型已获准的出口许可证突然遭到撤销，不过，中国大陆客户预付购买所积压订单基本都已完成交付。本文引用地址： 据指......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
光刻机出货的影响也相对是有限的。 更何况，国内厂商在先进光刻机方面取得了诸多突破，目前已经拿下了国内八成光刻机市场，以及全球四成的封装光刻机市场。 由此可以看出，ASML不放弃中国......
的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
我国突破氢离子注入核心技术 100％国产;据国家电力投资集团官方消息，近日，集团所属国电投核力创芯（无锡）科技有限公司核力创芯暨国家原子能机构核技术（功率芯片质子辐照）研发中心，完成......
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
两年是芯片缺产能，然而今年下半年开始市场需求不足，芯片产能又大增，台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称，由于5nm芯片的利用率下降，台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机，该公......
厂商可以使用现有的旧机器制造更复杂的芯片。 林本坚表示，中国在芯片技术方面已经获得突破，打破了美国旨在遏制其技术进步的限制 。“美国不可能完全阻止中国改进其芯片技术。”相信中国......
台湾地区的南部科学园区建立自己在海外（荷兰之外）的首个培训中心，旨在就近辅导台积电所领导EUV光刻制造集群。 台积电作为ASML最大的客户，自然备受ASML重视，毕竟每年ASML的EUV光刻机中，一大......
康指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展，只能采取从低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机，以及周边设备材料等，EUV......
上了，EUV光刻机有储备。 更具体地说，台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺；预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能；亚利......
进的下一代 EUV 光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML 的下一代 EUV 光刻机试验型号最快明年出货，2025 年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种 EUV 光刻机的售价将达到 4......
成为最重要的三大前道设备之一，所以并不是有了光刻机就能造芯片，光刻只是芯片制造工艺流程的中的一个，还需要其他6大前道工艺设备的支撑，其重要程度与光刻机同等重要。误区二：中国最紧迫的是造出光刻机？误区......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻......
莫大康的介绍，目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度，对于2nm的先进工艺，高数值孔径的EUV技术还亟待开发，光源、掩模工具的优化以及EUV的良率和精度都是实现更先进工艺技术突破......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”，其数值孔径（NA）为0.55，可用于制造5nm及以下（2nm/1nm）芯片产品，预估......
/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。 目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满......
加大在光芯片领域的研发和投入，这也使得ASML光刻机不再是必需品。如今的芯片市场上以电子芯片为主，这些芯片以一个或多个电压来产生信号，从而组成千变万化的数字、模拟电路。但是随着制程不断突破，5nm、4nm......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
魏少军：半导体投资应理性，中国突围不必紧盯光刻机、EDA;投资者应理性看待半导体投资 国际电子商情获悉，中国半导体行业协会副理事长魏少军26日在2020世界半导体大会上指出，如今......
设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。 然而，前不久麻省理工学院(MIT)华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维(2D)材料制造成功的原子，每个......
开消息显示，英特尔目前已获得ASML的先进光刻机，极紫外 (EUV) 光刻机。 据悉4月上旬，英特尔在位于爱尔兰Leixlip的Fab 34工厂，完成了首台极紫外（EUV）光刻机的安装，Fab 34......
衡量工艺进步的就是线宽，常说的xxnm工艺就代表这个，这个数字越小就代表晶体管越小，晶体管密度就越大。现在半导体公司已经进军10nm工艺，但面临的物理限制越来越高，半导体工艺提升需要全新的设备。EUV极紫外光刻机就是制程突破......
的5nm制程的先进半导体制造设备市场，则由ASML的EUV光刻机所垄断，单台价格约1.5亿美元。 对于接下来更为先进的及以下制程的芯片，ASML也推出了成本更为高昂的High-NA EUV光刻机，单台......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！;尽管半导体产业仍处调整周期中，但部分应用市场需求强劲，正吸引半导体厂商积极扩产，而在芯片制造过程中，制造设备不可或缺。近期，为满足市场需要，全球光刻机大厂ASML又有......

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