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SK海力士成功开发出全球首款第六代10纳米级DDR5 DRAM;· 基于世界最高性能的1b工艺扩展平台,以最高效的方法开发出1c工艺 · 以利用新材料、优化EUV工艺确保成本竞争力,通过......
SK海力士第五代10纳米级DDR5 DRAM全球首次开始数据中心兼容性验证;· 实现现有DDR5 DRAM最高运行速度和基于‘HKMG’工艺的超低功耗 · 期待成功完成最高性能的1b DDR5......
进入1x nm时代,DRAM产业举步维艰; 随着美光把台湾南亚科技纳入囊中,DRAM内存产业基本上只有三星、SK Hynix及美光三家在玩了。目前三大厂商的主力制程工艺已经进入20nm,其中......
SK海力士开始量产采用EUV技术的第四代10纳米级DRAM;7月12日,SK海力士宣布已于7月初开始量产适用第四代10纳米(1a)级工艺的 8Gb LPDDR4移动端DRAM产品。 自从10......
代表一片芯片能实现更高的内存容量。 从DRAM三巨头工艺尺寸的发展历程来看,三星、SK海力士、美光在2016-2017年进入1X(16nm-19nm)阶段,2018-2019年为1Y(14nm-16nm......
如何颠覆DRAM原有结构? 摩尔定律放缓,DRAM工艺将重构 1966年的秋天,跨国公司IBM研究中心的Robert H......
DRAM物理局限性的一种方法,据称这将改变存储器行业的游戏规则。 3D DRAM是什么?它将如何颠覆DRAM原有结构? 壹 摩尔定律放缓,DRAM工艺将重构 1966年的秋天,跨国......
局限性的一种方法,据称这将改变行业的游戏规则。本文引用地址:是什么?它将如何颠覆DRAM原有结构? 壹摩尔定律放缓,DRAM工艺将重构 1966年的秋天,跨国公司IBM研究中心的Robert H. Dennard发明......
%左右,并补充说三星提高了先进制造工艺的产量比例。预计2024年第一季度DRAM产量将继续受到严格控制。芯片供应商将更多地依赖先进节点,同时减少成熟工艺的产量。 前三......
高运行速度为8.8Gbps。 另外,公司在此次1b DDR5 DRAM上采用了“HKMG(High-K Metal Gate)”*工艺,与1a DDR5 DRAM相比功耗减少了20......
的竞争力。 除去需求快速增长的HBM生产线,普遍观点是新的DRAM和NAND晶圆前端工艺设施的建设将保守进行。 韩华投资证券研究员 Kim Gwang......
率先使用极紫外(EUV)光刻技术,同年10月便开始批量生产基于EUV的14nm DRAM。在此过程中,三星将其最先进的14nm DDR5上的EUV层数从两层增加到了五层DRAM工艺。 2021年11月......
DDR5 DRAM提供速率从4800MT/s到7200MT/s的现有模块密度,并采用先进的High-KCMOS器件工艺、四相时钟和时钟同步技术,相比上一代产品,性能提升高达50%,每瓦性能提升33......
消息称第六代1c DRAM芯片将成为主流,2024年大规模量产; 【导读】据电子时报报道,三星、SK海力士、美光这三大DRAM原厂,目前都有能力大规模量产第五代10nm 1b 工艺......
三星发布其容量最大的12纳米级32Gb DDR5 DRAM产品; 【导读】三星宣布采用12纳米(nm)级工艺技术,开发出其容量最大的32Gb DDR5 DRAM(DDR5 DRAM:五代......
层数增加至5层,为其DDR5解决方案提供更为优质、先进的DRAM工艺。 图片来源:三星电子官网截图 据介绍,三星电子5层EUV工艺14纳米DRAM具有业界最高的晶圆密度,与上......
SK海力士引领High-k/Metal Gate工艺变革;由于传统微缩(scaling)技术系统的限制,DRAM的性能被要求不断提高,而HKMG(High-k/Metal Gate)则成......
是我们对架构的设想,涉及六个方面:  l  微缩问题 l  堆叠挑战 l  面积缩小 l  创新连接 l  通孔阵列 l  工艺要求   微缩问题   DRAM单元......
的量产。 两家公司都从HBM4开始,将使用代工工艺而不是DRAM工艺来生产逻辑芯片。据报道,二星电子计划使用其4nm代工工艺大规模生产逻辑芯片,而SK海力士计划使用台积电的5nm和12nm工艺......
内存(将在高密度内存和接口会议上亮相),这家韩国科技巨头还将发布一款超高速 DDR5 。这款大容量 DRAM 采用 12 纳米 (nm) 级工艺技术开发,在相同封装尺寸下提供两倍于 16Gb......
已向数多全球客户公司提供了24GB HBM3 DRAM样品正在进行性能验证,据悉客户对此产品抱有极大的期待。 SK海力士封装测试(P&T)担当副社长洪相后表示:“公司以全球顶级后端工艺技术力为基础,接连......
三星电子宣布12纳米级 DDR5 DRAM已开始量产;三星电子最新推出的DRAM将以更高的能效和生产率,优化人工智能应用在内的下一代计算今日,三星电子宣布其采用12纳米级工艺技术的16Gb DDR5......
三星半导体开始量产 12nm 工艺节点 DDR5 DRAM; 21ic 近日获悉,电子表示已经开始批量生产采用 12nm 级工艺节点制造的双倍数据速率 5(DDR5) ,去年......
三星发布其容量最大的12纳米级32Gb DDR5 DRAM产品;在相同封装尺寸下,容量是16Gb内存模组的两倍,功耗降低10%,且无需硅通孔(TSV)工艺即可生产128GB内存......
三星发布其容量最大的12纳米级32Gb DDR5 DRAM产品;在相同封装尺寸下,容量是16Gb内存模组的两倍,功耗降低10%,且无需硅通孔(TSV)工艺即可生产128GB内存......
以来一直是现代计算必不可少的,为各种应用程序提供快速和易失性存储。然而,随着对性能和内存密度的需求不断上升,DRAM 面临着缩小到 10 nm 工艺甚至超过 10 nm 工艺......
的14nm DRAM。在此过程中,三星将其14nm DDR5上的EUV层数从两层增加到了五层DRAM工艺。 2021年11月,三星表示已应用自家 EUV 技术开发 14nm 16Gb 低功......
高的效率。 第6代10纳米级DRAM代表了当前第5代10纳米级顶级产品的下一代产品。这两种工艺都采用了先进的EUV光刻技术,但第6代工艺......
年的P3晶圆厂将新增至少10台EUV,主要用于量产此前发布的12nm级DRAM内存芯片。 12月21日消息,三星宣布全球首发12nm工艺的DDR5内存,核心容量16Gb,并率先完成AMD......
三星开始量产其最薄LPDDR5X内存产品,助力端侧AI应用;三星轻薄型LPDDR5X DRAM的封装厚度仅0.65mm,散热控制能力更强,适合端侧AI在移动端的应用LPDDR封装采用12纳米级工艺......
三星开始量产其最薄LPDDR5X内存产品,助力端侧AI应用;三星轻薄型LPDDR5X DRAM的封装厚度仅0.65mm,散热控制能力更强,适合端侧AI在移动端的应用LPDDR封装采用12纳米级工艺......
三星发布其容量最大的12纳米级32Gb DDR5 DRAM产品;2023年9月1日,宣布采用(nm)级工艺技术,开发出其容量最大的32Gb ( :五代双倍数据率同步动态随机存储器)。这是......
这场DRAM技术困局谁来破?;据全球半导体观察不完全统计,由DRAM与NAND Flash所主导的传统存储市场规模已超过1600亿美元,其中最大的内存细分市场DRAM,正逼近当前技术材料和工艺......
)MR-MUF*和TSV**技术。SK海力士表示,通过先进MR-MUF技术加强了工艺效率和产品性能的稳定性,又利用TSV技术将12个比现有芯片薄40%的单品DRAM芯片垂直堆叠,实现了与16GB产品......
存储大厂先进制程竞赛迎新进展;三星电子官方消息,近期三星已成功开发出其首款采用12纳米(nm)级工艺技术打造的16Gb DDR5 DRAM,并与AMD一起完成了兼容性方面的产品评估。新款DRAM将于......
上引进设备,以加速包括1d DRAM和V11、V12 NAND在内的下一代存储技术发展。 据悉,NRD-K项目是三星电子建设的下一代半导体研发综合体,尖端半导体工艺的研究、生产和分销均在此进行。尖端......
NAND Flash芯片。 DRAM工艺将重构存储格局 数十年来,摩尔定律一直是业界崇尚的黄金法则,也一......
技行业的持续驱动力,而 D1β DRAM 被誉为世界上最先进的 DRAM 工艺节点。 TechInsights 拆解 iPhone 15 Pro 之后,发现了型号为 A3101 的 DRAM 芯片,采用......
程上的突破进展呈现放缓趋势。 “尤其是随着10nm制程的临近,使其在晶圆上定义电路图案已经接近基本物理定律的极限。由于工艺完整性、成本、单元泄漏、电容、刷新管理和传感裕度等方面的挑战,DRAM存储......
144L 3D NAND 成熟:20nm到110nm逻辑,>20nm DRAM 大尺寸:≥130nm工艺......
SK海力士量产全球最大容量的24GB LPDDR5X DRAM; 目前唯一量产24GB封装产品,并供应给全球智能手机制造商 采用HKMG工艺,同时实现超低功耗、高性能 “率先......
与美光、SK海力士分道扬镳,传三星不走3D DRAM路线; 【导读】作为下一代DRAM工艺,3D DRAM正在引起业界的广泛关注,据悉,美光和SK海力士都致力于该技术的研究,美光......
类产品良率出色,一季度合计出货量占美光产品总出货量的绝大部分。 最新技术路线图中,美光表示在DRAM领域将持续发力1β、1γ与1δ工艺,其中美光计划2022年底前推出1β DRAM产品,将可......
SK海力士全球最高速LPDDR5T移动DRAM与高通完成性能验证;25日宣布, 公司开始推进"(Low Power Double Data Rate 5 Turbo) DRAM"的商用化*,其目......
美光推出1β DDR5 DRAM:速度7200MT/s,每瓦性能提高33%; 【导读】美光公司10月11日宣布推出采用1β工艺节点的DDR5 DRAM内存,速度可达7200MT/s,首款......
介质,在防止漏电的同时还可改善电容(Capacitance)的新一代工艺。不仅可以提高内存速度,还可降低功耗。SK海力士去年11月在移动DRAM上全球首次采用了HKMG工艺......
Metal Gate)*工艺,在运行速度和功耗方面都有效提高了性能。由此公司期待,在下一代的LPDDR6 DRAM问世前,LPDDR5T DRAM在移动DRAM市场上占据很大比重。 高通......
TheElec,SK Hynix 计划在第 6 代(1c 工艺,约 10nm)DRAM 的生产中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶(MOR),这是 MOR 首次应用于 DRAM 量产工艺。 消息......
功耗降低23%,三星12nm级DDR5 DRAM成功量产;当地时间5月18日,三星电子宣布其采用12纳米级工艺技术的16Gb DDR5 DRAM已开始量产,可以......
SK海力士推出全球最快移动DRAM——LPDDR5T;· 推出LPDDR5X后,仅隔两个月成功开发出速度提高13%的新产品,兼具高速度和低功耗 · 采用HKMG工艺实现性能的极大化 ·“不断......

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elpida;尔必达;;尔必达(ELPIDA)是日本最主要的DRAM半导体芯片制造厂商,主要生产DRAM颗粒,并且自己制造原产的ELPIDA内存条.Elpida在欧美市场以提供高品质的DRAM类产
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;香港德胜科技;;主营NAND FLASH;DRAM;MCP;TF卡
;嘉盈;;专业精营-DRAM/Flash/Memory Card/Module - Original Brand & OEM HK
;深圳联升达电子公司;;DRAM 内存芯片 内存条
;建设公司;;专业精营-DRAM/Flash/Memory Card/Module - Original Brand & OEM HK