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中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破; 来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。 近日,一种新型的中紫外直接光刻机......
能氩离子刻蚀、红外傅里叶光谱仪、电子陶瓷流延机、磁控溅射机、紫外光刻机等先进检测分析测试及实验设备。该项目集功率半导体产品技术设计、研发、试验生产于一体,承载产业化项目和产业协同,服务......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息,近日,华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域,入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日,北京......
成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们团队整整走了十年。十年磨一剑,就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。” 据刘......
华芯正在发力氮化镓基激光器领域,其全资子公司苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司与中科院苏州纳米所成立了“氮化镓激光器联合实验室”,拓展氮化镓材料的蓝绿激光方向应用。......
信息发生变更,其中注册资本由1.2亿元增至2.02亿元,增幅68%,同时新增哈勃科技和徐州光远股权投资合伙企业(有限合伙)为股东。 △Source:企查查 工商信息显示,目前,科益虹源的大股东和实际控制人均为中科院......
和绿光波段的氮化镓激光器产品,已经在激光加工(有色金属加工、激光直写)、激光显示(激光大屏电视,XR微投影)、激光照明(车载大灯)、特殊通信等领域有广泛应用。 目前,镓锐芯光母公司长光华芯正在发力氮化镓基激光器领域,其全资子公司苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司与中科院......
中国顶尖辩手,正反观点都有颠覆你原本价值观的冲击力。笔者一直在想,如果奇葩说来一次“国产超分辨力光刻机到底牛不牛”的辩题,那到底会是怎样的场景和结局. 辩题背景:中科院光电所超分辨光刻......
突破瓶颈!中国团队研制出高性能单晶硅沟道3D NOR储存器;近日,据中科院官网消息,微电子所集成电路先导工艺研发中心研发团队研制出了一种高性能单晶硅沟道3D NOR储存器。 NOR闪存......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们团队整整走了十年。十年......
体设备国产化现状 半导体设备分类及全球市场格局 根据SIA数据统计,全球半导体设备大致可以分为11大类,50多种机型。前道设备用于晶圆制造过程,覆盖从光片到晶圆的成百上千道工序,主要有光刻机、刻蚀机、薄膜......
胶单体材料的企业。 徐州广播电视传媒集团官微“无线徐州”曾报道,徐州博康实业集团有限公司一直专注于高端电子化学品的研发与生产,先后与中科院微电子所建立了校企联盟,与复旦大学、加拿......
体设备是集成电路产业链自主可控的核心环节,可以分为IC制造设备和封测设备两大类。IC制造设备大致可以分为11大类,50多种机型,其核心有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道......
砷化镓激光器的生产线。 而氮化镓激光器,是第三代半导体光电器件中极具技术难度和产业高度的关键产品,在激光显示、材料加工、光刻直写等诸多领域都有巨大的应用优势,目前在国内还属空白。 据苏州高新区发布消息,近期,苏州半导体激光创新研究院与中科院......
德州大学奥斯汀分校支持成立的半导体联盟,由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成,而TIE将使用NIL光刻机进行研发与试产先进半导体。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案,佳能......
Device Letters 据中科院介绍,微电子所研发团队使用研发的垂直晶体管新工艺制备出单晶硅沟道3D NOR三维阵列,其上下叠置的晶体管既具单晶硅沟道的高性能优势,又有......
光谷传来好消息,宇微光学成功研发计算光刻EDA软件; “OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们......
芯碁微电子装备有限公司相关负责人介绍说,即将投产的激光直写光刻机、双台面激光曝光机,均为进口替代产品。 其中,该公司的MLL及LDW系列光刻设备是国内目前唯一可以替代进口的半导体光刻设备,已有38所、771所、中科......
中科院:上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
成本也更为惊人。 报导分析说,在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下,对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大,这有利于大陆厂商的技术追赶。 但是,在EUV技术......
能是因为美国向荷兰政府施压。 中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片,中科院曾公开表示,中国的光刻机......
全固态电池研究角度切入。 字节跳动携手中科物理院 据了解,字节跳动与中科院物理所吴凡团队合作,提出一种新型超快锂离子导体Li6.8Si0.8As0.2S5I(LASI-80Si)与商业化的FeS2正极......
胶技术 今年4月,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,依托九峰山实验室工艺平台,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。该成果以“Dual......
润式系统TWINSCAN XT:1900,使ASML超越当时的龙头尼康和,成为的全球霸主;2010年,交付了全球第一台光刻机,凭借其极高的技术壁垒,ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机......
介绍”。通俗易懂地讲,ASML是做光刻机的,光刻机是芯片制造所必备的设备,没有光刻机,就没有芯片;没有的高端光刻机,也就做不成许多高端芯片。 作为人类制造水平的巅峰,半导体行业皇冠上的明珠,光刻机......
来源:大和热磁 大和热磁消息显示,富乐华功率半导体研究院项目是由江苏富乐华半导体科技股份有限公司主导投资兴建,联合中科院硅酸盐研究所和上海大学、上海电子科技大学合作建立的新型研发机构。该项......
半导体设备产业也正经历着“四大挑战”。 2015 年全球半导体市场市占率 (Source:拓墣产业研究所整理,SEMI, 2016.9) 中国半导体设备的关键零部件受制于人:以光刻机为例,光刻机......
是两种不同的技术路线。两者的目标相同,简单描述就是将设计好的集成电路图“复制粘贴”到硅片上。而实现方法却大有不同,形象地比喻类似“照相”与“盖印章”。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻......
人民币变更为26612.41万元人民币,增长52.63%。 资料显示,上海微电子装备主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务,是我国极少数具有光刻机......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
华芯等本土知名企业,行业影响力进一步扩大。成都市光刻产业发展迅速,拥有中科院微电子所、中科院光电所等集成电路产业国家队,特别是国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备”通过验收,光刻分辨力达到22纳米,在超分辨成像光刻......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
高额的价格并不是它最大的问题。 EUV最大的问题是电能消耗。其电能消耗是传统193nm光刻机的10倍,因为极紫外光的波长仅有13.5nm,投射到晶圆表面曝光的强度只有光进入EUV设备光路系统前的2......
产业发展迅速,拥有中科院微电子所、中科院光电所等集成电路产业国家队,特别是国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备”通过验收,光刻分辨力达到22纳米,在超分辨成像光刻领域达到国际领先水平。 新型显示方面,形成......
in a cryogenic environment(这一工作相比前人工作取得了重要的进展,尤其是把光纤直接粘贴到光波导上,支持低温环境下的稳定运行)”。论文的共同第一作者是中科院......
设备基本可以覆盖半导体制造流程的各阶段所需(除光刻机外),各领域设备国产化率及主要厂商如下图所示。 图片来源:全球半导体观察制表 整体上,我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高,在CMP、热处......
助力芯片制造,华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日,华中科技大学(华中大)披露,华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。 光刻......
内的芯片研发机构得以率先研发成功硅光芯片并应用于AI计算领域。 对中国芯片行业来说,研发硅光芯片还有助于打破当下光刻机受制于ASML的问题,由于美国的蛮横,ASML至今......
将在今年末将做好风险生产的准备,并在2025年末进入大批量生产。尽管台积电暂未披露相关设备采购计划,但无疑最新型的EUV光刻机是达成2nm制程的必要条件,而英特尔已率先入手ASML的首台High-NA EUV光刻机......
那是技术问题,说高级一点,那是人类芯片进步的阶梯,这种说法够拽了吧。但口罩可是人命问题,没口罩你敢出门吗?敢去工厂里见一见那上亿美金的光刻机吗? 这时你问问荷兰的ASML,造口......
氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备;芯源微中标1台聚合物涂胶显影机;阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。 官方信息显示,上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港,2018年8月开......
光刻机已经落伍?硅光子将成中美新战场!; 半导体是人类科技发展的重要基础,也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权,但随着摩尔定律逼近极限,光刻机......
在研发领域继续保持世界领先地位 。本文引用地址: 该研究团队由中国科学技术大学著名量子物理学家潘建伟、陆朝阳组成,与中科院上海微系统与信息技术研究所、国家并行计算机工程技术研究中心合作, 周三凌晨,中国科学院院士、中科院院士、中科院......
等信息,光刻机将这些图形曝光在涂有光刻胶的晶圆上,然后经过显影、清洗等步骤,就能把图形转移到晶圆上。 由于芯片内部结构复杂,一层掩膜难以包含全部电路信息,所以往往需要多层掩膜协助生产,随着......
(13.5nm)发展,提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前,半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大,KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机应用,日、美企业占据了绝大部分高端光刻......
胶泵及高纯供液系统研发及产业化项目开工仪式在广州举行。 据官网介绍,芯源微成立于2002年,是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业,专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务,致力......
天岳先进科技股份有限公司     北京智慧能源研究院     镭昱光电科技(苏州) 有限公司     常州纵慧芯光半导体科技有限公司     山西中科潞安紫外光电科技有限公司     中科院......
天岳先进科技股份有限公司     北京智慧能源研究院     镭昱光电科技(苏州) 有限公司     常州纵慧芯光半导体科技有限公司     山西中科潞安紫外光电科技有限公司     中科院长春光机所     中国......

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;中科院软件所多媒体中心;;中科院软件研究所
;四川省内江地区资中职业科院有限公司;;本公司为高级职业科研院校的一个附属性公司。
;中科院声学所海洋声学技术实验室;;中科院下属单位
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;中科院 刘政;;
;中科院,固体所;;
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;中科院声学所;;
;中科院光电所;;
;中科院大气所;;