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我国集成电路事业高速发展。 中国科大在无掩膜深紫外光刻技术研究中取得新进展 近日，中国科学技术大学微电子学院特任教授孙海定iGaNLab课题组开发了一种具有光能量自监测、自校准、自适应能力的三维垂直集成深紫外......
产品为16Gb LPDDR5X-8500。美光表示，这代1βDRAM将是美光最后一代采用DUV深紫外光刻机制造的内存芯片，之后将采用EUV极紫外光......
芯鼎盛微控制器MCU典型应用消毒牙刷盒;消毒光源采用UVC+UVA短波LED紫外光，分别为光波长200～275nm和320～420nm的紫外线。UVC深紫外杀菌是目前常用的消杀技术。深紫外......
研发出原子层沉积（ALD）技术，可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻（EUV）工艺步骤需求。 极紫外光刻（EUV）又称作超紫外线平版印刷术，是一种使用极紫外光波长的光刻技术，目前用于 7 纳米......
三安/华中科大等参与，这个国家“十四五”重点研发项目正式获批立项;近日，由山西省科学技术厅推荐、山西中科潞安紫外光电科技有限公司牵头的国家“十四五”重点研发项目“大功率深紫外AlGaN基LED发光......
投资10亿人民币，积极把握当前汽车产业“新能源化和智能化”的发展契机，布局汽车下一代光电子芯片的研发与车规级芯片制造，通过布局InGaN（铟镓氮）基像素化矩阵式智能车大灯光源芯片、AlGaN（铝镓氮）基高效大功率深紫外光......
气体主要应用于半导体微影制程，该制程线宽需进一步微缩至220nm以下时，即开始进入DUV（深紫外光）准分子激光世代，以惰性混合气体与卤素分子混合，藉由电子束能量激发产生深紫外光的波长，将制......
）两种气体均服务于深紫外（DUV）光刻机，适用于产生深紫外光的准分子激光器。综合行业各方消息，工信部此次推广的氟化氩光刻机等用瑞利判据（CD =k1*λ/NA）倒推出该光刻机物镜的NA值为0.75......
内一家独立运营的企业。Cymer公司发明了如今半导体制造中最关键的光刻技术所需的深紫外（DUV）光源，开发、制造和服务深紫外（DUV）光源。产品组合包括使用氟化氩（ArF）或氟化氪（KrF）气体产生深紫外光......
化氪(KrF)气体产生深紫外光的准分子激光器。 凯美特气表示，公司光刻气产品通过Cymer公司的合格供应商认证，是Cymer公司对公司在光刻气生产领域的生产能力、产品质量的认可，也是......
领域，Gigaphoton与ASML旗下的Cymer（2012年被ASML收购）平分市场。做为世界首家研发成功并量产目前本世代深紫外光刻（DUV）技术中最先进的ArF 193 nm准分子激光光源的厂商。在光......
材料技术的开发及其在高功率/高压/高频/高温电力电子器件、射频通信器件、深紫外光电子器件等诸多领域的商业化发展和在国防军工领域的关键应用。 图一 奥趋光电制备的2英寸AlN单晶锭（左）和3英寸AlN单晶锭（右......
一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。  众所周知，ASML是全球最大的光刻机设备厂商，2021年，ASML曾2次提高生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光......
元）。 ASML是全球最大的光刻设备厂商，其对2025年规划的产能目标是，90台EUV极紫外光刻机、600台DUV深紫外光刻机和20台High-NA EUV高数值孔径光刻机。 晶圆......
和业务摘要： EUV（极紫外光）光刻业务：本季EUV系统的出货量和营收都刷新纪录。最新款的NXE:3600D EUV光刻系统在客户的生产线上创下了每小时曝光160片晶圆的记录。 DUV（深紫外光）光刻业务：15......
电晶体可降低电晶体微缩至更小尺寸的需求，作为佐证，深紫外光（DUV）设备有望用于3D DRAM生产。Hwang认为，随着堆叠变得越来越重要，ALD设备需求也将增加。此外，三五族半导体和IGZO半导体的生产也需要ALD设备......
也无法雇用美国公民进行先进芯片研发。 根据统计数据显示，2021年ASML的第一大客户就是中国芯片企业，中国芯片企业为ASML贡献了超过290亿美元。作为全球半导体设备的领先厂商，ASML也必须在中美之间取得平衡。该公司一直都有向中国客户供应深紫外光......
中高压电力电子器件方案的有利竞争者。         （二）垂直注入铝镓氮基深紫外发光器件的晶圆级制备 针对深紫外LED电光转换效率低下的难题，北京大学团队提出了一种基于GaN/蓝宝石模板的深紫外LED制备新技术路线，通过高Al组分......
等几种稀有气体。这是因为光刻气体是产生激光的光源，难以取代。其中氖气主要用于深紫外光刻领域，服务1x nm到180nm芯片的加工。 因为乌克兰占全球氖气供应比例高达70%，所以去年一度，氖气的价格飙升了20......
亿欧元（约合329.1亿元人民币），主要受益于新增的DUV（深紫外光）出货和系统升级收入。 ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示："我们第四季度的销售额超过我们的预期。在第......
（4纳米）制程来生产硅晶圆。 由于这座厂房大量运用极紫外光（EUV）微影设备，其扩充行动势必代价昂贵，因为EUV设备每台要价1.2~1.5亿美元，远高于深紫外光（DUV）设备。 报道称，三星......
铬版光掩模版，KrF、ArF移项光掩模版，前瞻布局深紫外光（DUV）掩膜版；同时聚焦目前国产化率较低、市场需求较大的高端KrF、ArF深紫外线（DUV）光刻胶，力争打造全国规模最大、技术......
试量产线以及百级净化车间，目前中试线设备已到位，本月开始调试及试产测试，具备规模化的量产能力。 消息指出，长进微电子加大在深紫外光刻胶、先进晶圆级封装用光刻胶的研发投入，力争年内开发出KrF正胶......
当时对此进行了报道，该措施实施后会在已经限制深紫外光(EUV)光刻机的基础上，再限制了深紫外光(DUV)光刻机对华出口。 具体来说，出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i......
DUV (深紫外光) 微影系统业务，ASML的TWINSCAN NXT:2000i 浸润式微影系统在客户端达到单日曝光6,300片晶圆的新纪录。行业周知，荷兰......
面临制程微缩的问题。如果使用EUV光刻技术，可减少多重曝光过程，提供更细微的制程精度与良率，进一步减少产品生产时间并降低成本，还可提高效能。 不过，EUV光刻设备每部单价近1.5亿欧元，初期投资成本较深紫外光......
胶用于更多的工艺线，预计根据其表现将决定未来的供应是否增加。 光刻胶是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要......
芯片厂可能为了先获得设备展开激烈竞争。 此前ASML曾表示，计划在2025年到2026年进一步提高产能，包括年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机，同时，在2027年到2028年，增产20......
扩大旗舰EUV设备产量。在2025年到2026年，将年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机。在2027年到2028年，增产20个系统High-NA EUV光刻机。 同时......
A7®能分别实现单腔14片4英寸和单腔34片4英寸外延片加工能力。其中： Prismo A7®设备已在全球氮化镓基LED MOCVD市场中占据领先地位； 公司还研发了用于制造深紫外光LED......
得说。 第一季产品重点摘要 深紫外光（DUV）微影：持续出货NXT：1980浸润式微影系统给记忆体客户及逻辑晶片客户来进行10奈米量产和7奈米制程开发，目前NXT：1980浸润......
储产业的量产应用，并将协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。 DUV(深紫外光)光刻业务方面，TWINSCAN NXT:2000i浸润式光刻系统在客户端达到单日曝光6300片晶......
元。相比之下，分析师平均估计为 64.2 亿欧元。这家欧洲最有价值的科技公司还表示，今年其专用机械的总需求继续超过产能。由于先进的极紫外和深紫外光刻机的收入高于预期，第一季度净销售额为 67 亿欧......
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。 近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;深圳2024年10月18日 /美通社/ -- 由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于......
机将在2025年量产。预计到2021年，EUV全年销售额将达到55亿欧元。 DUV突破：预订量创历史新高 ASML向《科创板日报》记者透露，2020年DUV（深紫外光）光刻......
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业：不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外，还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻......
出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光（DUV）浸入式光刻设备。这一系列设备最高可支持 5 nm 工艺，如台积电就使用 SAQP 和氩......
显出两家公司在半导体产业中重要的地位。家登产品涵盖光罩传载、晶圆传载、机台设备等领域，并且在先进制程的极紫外光(EUV)与成熟制程的深紫外光(DUV)载具居全球指标地位，崇越则是重要材料代理与通路商，都是......
迫于美国限制禁令的压力限制了与半导体有关的先进技术，荷兰政府的该项法令导致 ASML 不得不申请出口许可才能被允许出口自己的先进光刻机系统。 DUV 和 EUV 都被用于半导体芯片制造中的光刻技术，分别代表“深紫外光”(Deep......
，韩国的光刻胶需求高度依赖于日本及从其它国家进口。 公开资料显示，光刻胶是光刻工艺中的关键材料，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要......
的另一个原因是，DUV光刻机对美国技术依赖较低。DUV光刻机使用的是深紫外光源，而全球能够提供深紫外光源技术的供应商有三家，分别是美国Cymer、日本Gigaphoton和中国的科益虹源。 也就是说，DUV光刻......
电也说，极紫外光（EUV）微影设备耗电量是深紫外光（DUV）微影机台的十倍以上。 ......
芯片制造过程的关键部分。它销售的一种机器被称为极紫外（）光刻机，用于制造最先进的芯片，如苹果iPhone。 多年来，ASML一直被禁止向中国出口这台机器。到目前为止，它还没有向中国运送一台机器。 它销售的第二种工具称为浸没式深紫外光......
结论是，UV LED可以说正处于起步阶段，市场尚未大规模应用。近日发布的最新“2020深紫外线LED应用市场与品牌策略”中提及，近来在新型冠状病毒 (COVID-19) 影响之下，品牌......
）、深紫外光刻技术（DUV）和极紫外光刻技术（EUV）不断向前延伸，其波长也从436nm、365nm、248nm，不断向193nm、13.5nm不断延伸。 每个制程技术节点用什么光刻技术，IEEE一直......
暗电流比、1.31×1015 Jones的比检测率和 53 A/W的光响应度，表现出相当优异的对日盲紫外光的探测性能。 同时针对外延薄膜光电探测器暗电流大的不足，研究......
电流、1.31×107的光暗电流比、1.31×1015 Jones的比检测率和 53 A/W的光响应度，表现出相当优异的对日盲紫外光的探测性能。 同时针对外延薄膜光电探测器暗电流大的不足，研究......
产能扩张计划，ASML计划2025年至2026年的年产能提高至90台EUV（极紫外光）光刻系统和600台DUV（深紫外光）光刻系统，同时2027年至2028年High-NA EUV系统......

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