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公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
下降)。 欧洲(3.5%)和美洲(0.3%)的销售额同比增长，但日本(-2.9%)、亚太/所有其他地区(-11.3%)和中国(-12.6%)的销售额下降。 据中国海关总署数据，2022年我国光刻机......
般用于250nm以上工艺，KrF、ArF和EUV光刻胶属于高端光刻胶，KrF一般用于250nm-130nm工艺，ArF一般用于130nm-14nm工艺，EUV光刻胶主要用于7nm及以下工艺。 我国光刻......
算是“比较常用的胶”，需求量比较大，目前对于UV1610产品北京科华、徐州博康等国内厂商有能力生产。 国产光刻胶进程 目前，我国集成电路用半导体光刻胶尤其是高端产品仍高度依赖进口，其中日本是我国光刻......
整个产业链环节，重点的三大“卡脖子”制造环节包括了工艺、装备/材料、设计IP核/EDA。他表示，在半导体材料方面，我国光刻胶、掩膜版、大硅片产品几乎都要依赖进口；在装备领域，世界......
巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据......
就布置下了知识产权壁垒。在此情况下，国内企业需要拥有自己的专利库，并掌握核心技术。 吴汉明表示，集成电路产业链的环节繁多，目前，国内产业发展的短板在装备方面。比如，我国在光刻机......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为在可预见的未来，其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子（SMEE）或华为的竞争。 根据数据显示，ASML先进的标准型EUV光刻机......
的市场需求仍将超出公司的产能，目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来，公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机市场表现，其指出2023年第一季度，中国......
芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
的市场需求仍将超出公司的产能，目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来，公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机......
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址：       ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
供应商设计了一个芯片，然后将其转换为文件格式。然后，在光掩模设备中，基于该格式制造掩模。然后将掩模运送到晶圆厂并放置在光刻机中。光刻机通过掩模投射光，掩模......
半导体设备的薄弱之地，除了上述的上海微电子外，我国还有华卓精科和国科精密等可以生产光刻机零部件。总体来讲，我国光刻机水平与光刻机巨头ASML、佳能、尼康差距较大。当代光刻机代表着芯片性能的先进性，其是我国......
取得了巨大的成功，ASML成为光刻机市场的老大，台积电则在芯片居于全球领先水平，而日本的佳能和尼康则迅速衰落。 自进入5G时代后，我国在诸多科技领域赶上甚至对西方形成了反超，比如华为，这是全球5G核心......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？; 在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
着自主研发的先进EUV光刻机，ASML公司在整个光刻机市场上也赚得是盆满钵满;因为EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备，所以不少芯片都抢着购买EUV光刻机，不过在老美的限制下，我国......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机......
，国产光刻机技术上与之差距太大，根本无法在高端市场上参与竞争，严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道，近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当，每年已经超过2000亿美......
国际和其他委外封测代工厂则是在10%左右。 虽然中国半导体产业已经取得了重大进步，但目前仍依赖于荷兰ASML和日本尼康和佳能的光刻机。有报道称，目前中国光刻......
前荷兰官员的态度来看，荷兰不会跟随美国的脚步，在对中国光刻机的出口方面，荷兰有自己的评估。 国内此前多数业内人士认为，阿斯麦基于自身的利益诉求，也不可能屈从于美国的压力而放弃中国市场的巨额利润。现在......
让ASML彻底陷入了进退两难的境地。 我国已经成为了ASML的第二大市场，荷兰并不打算破坏双方的友好贸易合作，前一段时间荷兰高层还亲自赴华，并表态：“限制光刻机出口并非本意，双方......
细，显然量子芯片才是未来的方向。 其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
中国光刻设备将打破国外垄断？; 版权声明：本文来源 《 中安在线》 《 中国电子报》，如果您认为不合适，请告知我们，谢谢！ 中国芯片制造业高端装备一直以来依赖国外进口，尤其是高端光刻......
也没什么好办法，也只能指望我的国产DUV光刻机可以早日出现，哪怕是28nm工艺，对于我国半导体产业来说，都是巨大的提振。 不过，笔者认为，我们现在也不必太过悲观，我们有全球最大的半导体市场，本身......
技术至少落后ASML 15年。所幸的是，近期上海微电子装备宣布，将于年底开始量产28nm immersion式（沉浸式）光刻机，并于2021-2022年交付。从90nm到28nm将极大缩短我国与国际光刻机......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中......
尼康起诉ASML侵权，曾经光刻巨头的最后挣扎？; 来源：内容来自 新浪科技和知乎 ，谢谢。 尼康今日宣布，已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦（ASML）和德国光......
国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
为主导。近年来，上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高，虽在光刻机、量测检测设备、离子......
-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。 光刻......
12月通过了客户的使用认证，这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。 同时，上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术，本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机......
实施出口管制的六大技术，都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关，尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。 “用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”涵盖EUV光刻......
就需要用到一种设备——光刻机。 目前上海微电子装备公司生产的600系列光刻机代表了中国的最高水平，加工精度只有90nm。而世界上最先进的光刻机，荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）已经可以满足5nm......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
胶价格上涨可能会导致代工厂和整个无晶圆厂行业盈利能力恶化。” 近年来，我国一直加快国产光刻胶替代步伐。就现状来看，我国光刻胶供应链依旧存在着较大的不稳定现象，G/I线国产化率为10%，高端的KrF、ArF 国产化率不足5......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。 光刻......
用小芯片技术设计的芯片，采用的是不同的架构，依赖的是芯片制造的后道环节。传统方法现在依赖的是ASML的光刻机和台积电的制造技术，而小芯片技术则不然，所依赖的是先进封装光刻机和先进封装技术。 上面......
体设备国产化势在必行 据悉，涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一，也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为......
和日本还没有正式公开宣布对华半导体出口限制措施的计划，但随着两国最终确定法律安排，实际实施可能需要数月时间。 ▲相关报道截图 如果上述消息属实，那么预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机......
工艺应用结合的产物，将促进光刻工艺的革命性改进，符合国际光刻设备研究发展趋势，也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。 EUV光刻机，摩尔定律的拯救者 关于EUV技术可以溯源到20......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......

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