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永磁发电机和普通发电机有什么区别？;永磁电机与普通电机的区别 永磁电机与普通电机的区别，永磁电机就是指永磁同步电机、永磁同步电动机、三相稀土永磁同步电机，转子上镶嵌永磁体，具有高效节能，同步......
使得市场人士担心将影响到整体半导体制程的研发状况。 只是，对于ASML在第2代EUV光刻机可能遭遇研发瓶颈，因此将延后问世的情况，如今有来了神队友的救援。外媒报道指出，日本最大半导体镀膜极蚀刻设备公司东京电子（东京......
照被刻蚀材料划分，可以分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀（表2）。由于下游的需求场景较多，介质刻蚀机与硅刻蚀机的市场占比较高，成为市场主流。 2.刻蚀与光刻的区别 有些对工艺不熟悉的业者，很容易将刻蚀机与光刻机......
电机通常由一个电源供电，但它需要一个可变的电路来调整电动机的速度。它常用于空调、冰箱、洗衣机等家用电器中，以及一些工业设备中。 　　双速电机与普通电机有什么区别？ 　　双速电机与普通电机的区别......
年第四季度，ASML共卖出70台光刻机，其中中国大陆地区贡献了多达49％，环比还增加了10个百分点。 Peter Wennink此前还曾明确表态：“没有什么可以阻止我们为中国现有的已安装系统提供服务。” ......
是在破坏全球产业链。”问题是，EUV光刻技术突破意味着什么？ASML为何反应激烈？       在讨论光刻机之前，我们应了解芯片的关键性。没有芯片，将无法实现所谓“梦想”。芯片......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻......
工艺引领摩尔定律向前发展。 对于光刻设备来说，镜头是制约发展的主要瓶颈之一。通过改善光学主镜头来提高光刻机NA的主要途径有两个：一是用弯曲主镜头替代平面镜头。但弯曲主镜头的表面很难控制浸入液体的流动，用于浸入式光刻机有......
国提供部分设备的维修服务。 在业绩电话会上，ASML首席执行官温宁克回应称，“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。” 光刻机是制造芯片的关键设备，中国大陆是ASML的第二大市场。 因此......
创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机，第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案，俄媒......
ASML被禁止维修售华光刻机！CEO：基本不影响赚钱; 4月29日消息，美国对中国的封锁进一步加剧，甚至不想让为已经卖给中国的提供售后维护服务，不过在ASML看来，这么做影响并不大，至少......
美国施压：不准向中国厂商提供光刻机维修服务; 4月18日消息，ASML公开表示，将继续为中国大陆厂商提供设备维修服务。 此前有消息称，美国计划向荷兰施压，试图阻止ASML在中......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
非常复杂，不是申请几项专利就够的。一个EUV光刻机有10万个零部件，还有，EUV光刻机还需要光刻胶等上下游产业链的配合，此外还需要测量台与曝光台(双工件台)、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光......
上了，EUV光刻机有储备。 更具体地说，台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺；预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能；亚利......
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
俄罗斯芯片设计公司大部分的订单都是交由外部供应商生产，比如台积电。如果是在全球化自由贸易的状况下，双方进行交易往来并没有什么问题。但是俄罗斯的情况大家也都清楚，了解西方是怎样的态度。 台积电在大环境背景下，能做......
通过改进透镜和镜台等光学零部件，来提高曝光精度，增加布线密度，从而实现3D光刻，用以满足人工智能领域所需的大型半导体的生产需求，佳能新型3D光刻机有望于明年上半年上市。 TSS 2022亮点......
://bbs.eeworld.com.cn/thread-1258802-1-1.html） 俄罗斯所说的光刻机究竟是什么？国内有吗？ 付斌丨作者 电子工程世界（ID：EEWorldbbs）丨出品 断供......
浅析中美芯片博弈——美国加码对华为禁令，ASML DUV光刻机对华出口或有变;本文引用地址：2019年，无论从那个角度来说，都是最好的一年。在那一年的智能手机消费市场中，手机品牌竞争激烈，纷纷......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
370亿项目搬入光刻机;3月11日，广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目（以下简称“增芯项目”）迎来工厂最核心设备--光刻机搬入，标志......
美国：不准向中国厂商提供光刻机维修服务！ASML回应;4月18日消息，公开表示，将继续为中国大陆厂商提供设备维修服务。本文引用地址：此前有消息称，美国计划向荷兰施压，试图......
消息得到了几家设备制造商的证实：Philoptics生产激光切割机，FNS Tech生产用于薄膜晶体管的湿式蚀刻机，KCTech制造清洗机，HIMS制造......
三个盟国进一步收紧对华出口芯片相关技术和工具的限制。 消息人士表示，美国希望日本、韩国和荷兰更积极地利用现有的出口管制措施，包括禁止本国工程师为中国先进半导体工厂维修芯片制造设备。 在这之前，光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机......
华为海思芯片代工受阻后，曾提出过通过芯片的分层叠加工艺，可以实现14nm工艺达到7nm的芯片集成度。思路和美光在DRAM上的思路有异曲同工之妙：设计芯片的焦点不再是紧盯光刻机的蚀刻纤细程度，而是......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！; 众所周知，作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。 先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机......
DUV光刻机将受限？荷兰拟对华实施半导体出口新限制;据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布了这一决定，称限制措施将在夏季之前出台。信件......
大幅增加。 所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯，和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。 按照的说法，除芯片精细化以外，封装......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
挑战泛林集团，东京电子2025年推新型蚀刻机，可生产超400层堆叠NAND芯片;近日，全球半导体设备龙头东京电子表示，将于2025年开始发货其正在开发的新型蚀刻设备，据悉该新型蚀刻机......
细，显然量子芯片才是未来的方向。 其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
源单次曝光做到22nm，懂点光学的就知道这意味着什么：打破了传统的衍射极限。所以在我看来，这台机器最大的价值是验证了表面等离子体（SP）光刻加工的可行性。 这台SP光刻机与......
额尼康的单机价格更低），单价只相当于ASML价格的三分之一。 下面来个更惨的尼康季度财报： 这个季报里面，尼康精机销售额更少了才354亿日元，即使尼康精机有面板光刻机撑着，断断......
下一代光刻机，万事俱备了吗？;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产；动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣，这要归功于 ASML......
龙芯发布的年代国内缺人缺钱，条件要困难的多。 狭义的看，像兆芯这种其实不算，因为没有什么自主性可言，其实就是VIA，但要是哪天VIA卖给国内也许不是什么坏事，起码可以合法生产x86的CPU了（评论......
工艺的扩产开始了。因为南部的高雄台积电计划设立的是生产7纳米及28纳米制程的晶圆，其中以28nm为主，2022年开始，2024年量产。 可能有网友会不解，台积电扩主28nm有什么奇怪的?大家不都在扩产么?但只......
胶也分为两种——“正性光刻胶”和“负性光刻胶”。 正性和负性光刻胶的主要区别在于材料的化学结构和光刻胶对光的反应方式。对于正性光刻胶，暴露在紫外线下的区域会改变结构，变得......
Electron)的蚀刻机、尼康(Nikon)光刻设备、爱德万测试(Advantest)的测试设备等等十多家半导体公司的产品和业务。 日本经济大臣西村康稔表示，日本......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答; 【导读】近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA......
开发后，将其运送到晶圆厂并放置在光刻机中。光刻机投射光线透过掩膜，将图像曝光在芯片上。 所以掩膜和光刻被绑定在了一起。今天，芯片制造商使用193nm波长光刻技术在芯片上打印微小的特征。实际上，193nm光刻......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答;近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机......
上能够自主可控是个不小的进步。 现阶段的90纳米光刻机与ASML同类相比尚有不小的差距，据客户反馈的数据，在良率及产能可能要下降10-15%。 3. 2022年Q4前十大晶圆代工产值环比减少4.7%，2023跌幅......

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