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首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶，计划2024年6月投产;据中电二公司消息，近日，江苏首芯半导体项目生产厂房主体结构封顶仪式举行。江苏首芯半导体薄膜沉积设备研发及生产项目位于无锡江阴高新区，为集半导体前道制程薄膜沉积高端设备......
传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;据电子时报报道，随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效，业内普遍想知道这将对中国半导体行业产生的影响。此次出口管制共计23品类半导体设备......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等;5月29日，微导纳米发布公告称，公司拟向不特定对象发行可转换公司债券拟募集资金总额不超过11.7亿元，扣除发行费用后募集资金净额将用于半导体薄膜沉积设备......
总投资5亿元 衍梓智能科技薄膜沉积设备项目落户青岛;据莱西经济开发区消息，4月7日，青岛莱西经济开发区管委会与上海衍梓智能科技有限公司（以下简称“衍梓智能科技”）薄膜沉积设备......
（ALD）技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。 ALD设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备，在28nm及以......
握的核心技术平台基础上，公司紧贴客户需求，将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合，形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等半导体核心设备......
2022年下半年开始，嘉芯半导体多次中标客户特色工艺生产线，包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、深槽刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机；高密度等离子薄膜沉积设备（HDP-CVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备......
模组生产与装配基地项目、无锡先研精密制造技术研发中心项目、补充流动资金项目。 资料显示，是国内半导体刻蚀和薄膜沉积设备细分领域关键零部件的精密制造专家，公司形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等半导体核心设备......
芯屏高科技产业园开园，半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约;近日，蓝科·新站芯屏高科技产业园开园，现场5个入园项目集中签约、3家投资基金签订战略合作。 现场，半导体刻蚀机用陶瓷材料、半导体薄膜沉积设备......
科技已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等薄膜设备产品系列，广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。 拓荆科技表示，公司本次新建项目通过提升公司半导体薄膜沉积设备的产能，可以......
KKR收购。其以制造薄膜沉积设备闻名，薄膜沉积工序是在硅晶圆上添加薄膜层，以便形成电路。 封面图片来源：拍信网......
，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备......
基本可以覆盖到半导体制造的各阶段所需，在制造实力上，我国在刻蚀、清洗、薄膜沉积设备方面较为突出，尤其是我国的刻蚀设备，已经成长为我国最具优势的半导体设备领域，逐渐进入到成熟期。而在CMP、光刻、离子注入等设备上，我国......
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。 该公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维......
半导体CVD设备国产化进行到哪步了？;近日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。 CVD设备需求提升 薄膜沉积分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积......
技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。 据官方信息，微导纳米是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准;近日，中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。 Preforma......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW; 【导读】近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
知识产权产品并实施产业化。 资料显示，拓荆科技（上海）有限公司成立于2020年12月，是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积设备......
1999年就开始研制ALD设备。但由于ALD工艺对均匀度要求高，生长薄膜的速度较慢，所以成本很高，过去在半导体制造中被接受度不高。不过随着先进工艺发展对薄膜沉积质量、厚度和精度要求的提高，ALD需求......
等离子刻蚀机、深槽刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机；高密度等离子薄膜沉积设备（HDP-CVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备（SACVD）、钛/氮化钛沉积设备（MOCVD）、铝铜金属溅射设备（Metal......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW; 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;中国上海，2023年5月9日—— 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出......
于荷兰的阿斯麦(ASML)、美国的应用材料公司和泛林集团。 该公司在多个关键设备领域占据市场领导地位，包括涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉和批量沉积设备，同时在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台等设备......
在手订单同比增长244.32%。 二、主要交流问题及回复 1、目前半导体领域内的订单和趋势如何？ 在半导体制造过程中，ALD（原子层沉积）和CVD（化学气相沉积）等薄膜沉积设备是前道工艺的核心设备......
、清洗和金属化，所对应的专用设备主要包括氧化/扩散设备、光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、机械抛光设备等；后道设备包括减薄、划片、打线、Bonder、FCB、BGA 植球、检查......
）有限公司（以最终实际投资金额为准），主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。 拓荆科技（沈阳）有限公司经营范围包括技术服务、技术......
公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备......
。 △Source：拓荆科技公告截图 资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备......
台市场推进。 （四）涂胶显影设备、薄膜沉积设备 涂胶显影 涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤及显影设备，全球涂胶显影设备行业集中度较高，日本东京电子（TEL）、Screen（迪恩士）占据......
现了中国政府直面挑战的决心和大国魄力。 巨头垄断，设备推广面临挑战：相对于中国产光刻机的步履维艰，中国产氧化炉、刻蚀机与薄膜沉积设备已初现活力，中国产设备正逐渐打入中芯国际、华力微电子、三安光电、武汉......
收入较上年同期增长364.87%，主要原因为，受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长，公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售......
机、钉卷机、卷绕机、含浸机、排版机、充磁机、键合机、 雕刻机、光刻机、薄膜沉积设备、离子注入机、分选机、探针台、涂布机、固晶机、划片机、叠层机、冷却设备、换热器、表面处理设备、3D打印......
公开发行后总股本为12,647.8797万股。招商证券为其保荐机构。 拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备领军企业之一，也是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD. SACVD设备厂商。公司主要从事高端半导体专用设备......
电路高端装备产业化应用中心项目、补充流动资金。 微导纳米成立于2015年，公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备......
、刻蚀及薄膜沉积设备等产品，旗下凯世通和嘉芯半导体主要从事集成电路核心装备业务。 其中，凯世通所涉核心装备业务重点应用于集成电路领域，目前营业收入包括自研离子注入机、离子......
研究员许勋表示：“我们开发出了可以在任何时间点观察和分析CVD腔室的薄膜沉积过程的设备”，“不仅可以在半导体领域使用，还可以在OLED材料、二次电池用电极材料、太阳能电池用电极材料等多个领域使用。” 研究组利用拉曼光谱作为分析薄膜材料沉积......
（晶圆制造）和后道工艺设备（封装测试）两大类。 其中，前道工艺设备（晶圆制造）用于晶圆制造环节，设备产品包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、CMP设备等。 后道工艺设备（封装......
to Specialty Chip Makers）和薄膜沉积设备（Deposition Equipment）两个榜单中位列第一。 除在上述两个榜单中赢得客户的最高评价外，中微公司还荣获了以下四个奖项： 十大芯片制造设备......
的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。 普达特科技表示，热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥......
（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积......
是在净加仓规模还是加仓幅度方面，都名列前茅。 技术研发上，目前，北方华创面向300mm晶圆厂的12英寸产品不断突破，TSV硅通孔金属化设备是针对2.5D/3D立体封装和Chiplet芯粒等先进封装领域的薄膜沉积设备......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著提高生产效率，改善......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著......
，截至今日中午收盘，拓荆科技股价报收91.24元，总市值115.4亿元。 资料显示，拓荆科技成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备......
国产化率有所提高。 据悉，2022 年上半年大陆主要晶圆厂共开标765台工艺设备。按照不同工艺设备开标数量从高到低排列，前五名分别炉管设备（119台）、薄膜沉积设备（142台）、刻蚀设备（90台）、清洗设备（86台......
。未来，通过使用狭缝挤压涂布法等工业化兼容的薄膜沉积法，制备具有更大面积的逐层沉积的紫外光掺杂氧化锌薄膜或将助推有机光伏市场化进程。......
于国产光刻机的步履维艰，国产氧化炉、刻蚀机与薄膜沉积设备已初现活力，国产设备正逐渐打入中芯国际、华力微电子、三安光电、武汉新芯等大陆一线厂商。 七星电子的12英寸立式氧化炉，工艺覆盖90~28nm......
三星显示签订了合同。 然而有点意外的是，三星显示公司最初下的订单中，没有沉积设备和光刻机。这两种设备的制造准备时间较长，消息......
立以来，邑文科技从设备翻新业务起步，前瞻性地布局含金量高的特色工艺刻蚀设备领域和薄膜沉积设备领域，聚焦半导体设备的自主创新研发，致力于促进我国半导体设备产业的国产化，并在......

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