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用于 90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内IC行业的快速发展,自主......
时间。 ArF光刻胶是什么? 芯片生产过程中,需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上,而这种辅助的光学材料,就是光刻胶。 从光刻胶的发展历程看,从 20 世纪 50 年代至今,光刻......
堆叠层数的增加,光刻次数也在递增,相应光刻胶的用量随着光刻次数的增加而大幅增长,KrF光刻胶的使用量将显著提升。 ArF光刻胶适用于193nm波长光源,主要用于逻辑芯片和高端存储芯片的制造,可大......
材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等)。 ArF光刻胶的......
产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作,验证进展顺利。从目前测试结果看,ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平,并实现了ArF光刻胶国产化和本土化,打破了被国外长期垄断的被动局面,测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片......
光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表);半导体光刻胶缺货 在价格方面,受下游需求不断增加,芯片价格上涨的影响,光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍,仅在今年1-2月,江苏......
、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。长期以来,国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断,对我国芯片制造具有“卡脖子”风险。尽快实现先进光刻胶......
键量测设备。项目完全达产后,将建成光刻胶研发中心、先进光刻胶的分析测试中心,以及年产 350吨的高纯显影液的生产线。 ArF光刻胶产品的开发和产业化 建立包含高等级超净间在内的ArF光刻胶......
光刻胶国产化的6道坎;材料是半导体大厦的地基,不过,目前中国的这一地基对国外依存度还很高。   2019年,日韩发生冲突,日本封锁了三种关键的半导体材料,分别是氟化氢、聚酰亚胺和光刻胶。这三......
材料包括硅晶圆片、化合物半导体;制造材料包括电子特气、溅射靶材、光刻胶、抛光材料、掩膜版、湿电子化学品;封装材料包括芯片粘结材料、键合丝、陶瓷封装材料、引线框架、封装基板、切割材料。 半导......
一家专门从事高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业,南大光电从2017年开始研发KrF光刻胶,并于今年2月份公布,产品已经成功通过客户认证,为国产光刻胶的发展迈出了重要一步。 晶瑞股份主导产品有超净高纯试剂、光刻胶......
深圳哈勃最新投资的半导体厂商,徐州博康在光刻胶领域可谓实力强劲。 资料显示,徐州博康成立于2010年3月25日,属博康集团旗下材料版块企业,是集研发、生产、经营中高端光刻胶光刻胶单体和光刻胶......
徐州博康:半导体光刻胶获国内主流存储芯片厂客户订单;据华懋科技官方消息,华懋科技旗下徐州博康近期收到某国内主流存储芯片厂商的半导体光刻胶采购订单,此前该产品型号全部依赖于海外进口。 据悉,该产......
市场体量虽小,却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看,光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小,产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高,为了......
经过三年的努力,韩国实现了光刻胶本地化生产; 12 月 4 日消息,据 ETNews 消息,电子首次引入东进世美肯半导体的进入其量产线,这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系......
也分为两种——“正性光刻胶”和“负性光刻胶”。 正性和负性光刻胶的主要区别在于材料的化学结构和光刻胶对光的反应方式。对于正性光刻胶,暴露在紫外线下的区域会改变结构,变得......
深圳哈勃为股东,注册资本从7600.95万元增至8445.50万元,增幅为11.11%。 资料显示,徐州博康成立于2010年3月25日,是一家集研发、生产、经营中高端光刻胶光刻胶单体和光刻胶......
难求”现象愈演愈烈,光刻胶的供应难问题再次引发了业内的广泛关注。 日本地震破坏光刻胶产线 光刻胶是半导体的核心耗材,直接影响着晶圆的良率与品质。此前光刻胶的“涨价风波”对不......
目前主要量产的产品为g线、i线正性/负性光刻胶,可用于LED芯片、分立器件、集成电路芯片等,目前芯片主要客户以6寸及以下的Fab为主,正在积极开拓8寸及12寸客户。随着公司对光刻胶的持续投入,将会逐步进入更高端光刻胶......
之所以能对同样强大的韩国半导体行业进行制裁,是因为其在半导体材料领域,尤其是上述三种产品市场中的统治地位。据资料显示,日本占全球氟聚酰亚胺和光刻胶总产量的90%,且全球半导体企业70%的氟化氢需从日本进口。 以具......
产品尚未实现规模化量产。 而据南大光电7月27日公告信息,宁波南大光电研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证,相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进,为ArF光刻胶的......
光刻胶用于一条工艺线还只是很小的一部分,但对于一种此前100%全部依赖进口的原材料,能用于一条工艺线也有特殊的意义。 由于需要考虑与海外供应商之间的关系等多重因素,目前还不清楚三星是否会将本土EUV光刻胶......
企业任职近10年,在高端光刻胶产品的技术研发、市场开拓及评价实施上拥有丰富经验。据媒体消息,上述光刻胶企业为TOK,陈韦帆曾在TOK担任中国区部长职务。 晶瑞股份表示,此次陈韦帆的加入将会大力提高公司在高端光刻胶的......
因产品而异,约为10%-20%。 光刻胶是半导体制作的关键材料,能够利用光化学反应,经过曝光、 显影等光刻工艺, 将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多,包括EUV光刻胶、ArF......
生产3种光刻胶,全部达产后年产高端光刻胶1.7万升,这个项目启动试生产;4月30日消息,昨日国科天骥举行光刻胶滨州生产园区交付暨试生产仪式。该项目投产后将主要用于高档光刻胶的研发生产,主要生产3种高端光刻胶......
研发项目的必要实验设备,旨在研发出更高端的ArF光刻胶,若研发工作进展顺利,将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越,并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。 晶瑞股份表示,目前......
国产光刻胶,破冰前行; 今年以来,全球半导体产业加速发展,光刻胶作为核心材料,迎来了技术突破与市场扩展的双重契机,尤其是在国内,光刻胶的研发和生产取得了一系列积极进展:此前,由华......
机等已经完成安装并投入使用。 据披露,宁波南大光电已建成年产25吨的ArF(干式和浸没式)光刻胶产品生产线;研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证,相关主要芯片......
工艺测试及产品验证阶段,能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商,能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。 彤程新材表示,公司G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额;I线光刻胶......
南大光电:两款ArF光刻胶已进入批量验证阶段;近日,南大光电发布投资者关系活动记录表,透露旗下已有两款 ArF 光刻胶进入批量验证阶段。 南大光电表示,ArF光刻胶验证阶段主要分为PRS(光刻胶......
信息”)投资建设的年产600吨微电子光刻胶专用光敏剂项目的主体生产设施已具备投产条件,并于当日开始逐步投料运行。 公告显示,大晶信息拟投产的微电子光刻胶专用光敏剂是显示器和半导体封装用光刻胶正胶的关......
干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化,力争于2023年前实现上述产品的产业化,填补国内空白。2021年6月,上海新阳宣布,该公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶......
束、离子束、X 射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。 光刻胶是光刻工艺中的关键材料,主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。 光刻胶品种众多,本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶......
半导体企业的材料保障和物流问题也有了很大缓解。 光刻胶是集成电路生产中的关键性原材料,据“中国民航报”报道,东航物流曾分别于4月20日和4月22日顺利完成了两批共8.9吨光刻胶的航空运输任务。 随着企业复工复产,5月以来,集成......
/3,121.2亿美元。而特气、光掩膜板和光刻胶各约40亿美元以上; 半导体晶圆制造材料的产业态势: 供应高度垄断。供方商高度集中,单一......
是不可或缺的材料,其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下......
晶瑞电材:苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日,晶瑞电材官微宣布,苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示,本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻胶的......
要是受到供需两方面因素影响。 供应端,信越化学、JSR、TOK等大厂今年上半年生产处于不稳定状态,产能受到一定限制,而半导体下游应用市场需求不断提升,产能无法满足当前需求。 今年4月韩媒报道半导体光刻胶的......
干膜、特种油墨、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品等系列感光电子化学品。 容大感光公告指出,感光干膜作为PCB光刻工艺中的关键材料,公司自2018年起即组建研发团队负责该领域的技术攻关;2021年9......
质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。 当半导体制造节点进入到100nm甚至是10 nm以下......
量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下,如何......
和走线的复杂度和密集度大幅度提升,高端制程关键层次需要两次甚至多次曝光来实现。其中,光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。目前,高端光刻胶市场主要由日本和美国光刻胶......
集成电路和新型显示两大重点产业加快发展,合肥正谋划开通“合肥-东京”航空货运新航线。 合肥发布消息显示,光刻胶是芯片、集成电路、液晶显示屏等制造过程中光刻工艺使用的关键材料之一,属我国《危险化学品目录》制品......
质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。 当半导体制造节点进入到100nm甚至是10 nm以下,如何......
ArFi和EUV组合,预计美光和SK海力士也将紧随其后,EUV光刻胶产量不断爬升。 负性EUV光刻胶的使用增加也在推动新的变化,例如负性溶剂的开发,以及光刻胶......
”到芯片(工业用的通常是石英矿石),中间要经过无数的、极精细的、复杂的加工工艺。除了硅片以外,制造芯片所需材料还包括电子气体、掩膜版、光刻胶及辅材、化学试剂、靶材、CMP材料、引线框架、封装基板、塑封......
小伙儿在家自造芯片和光刻机!; 万万没想 到,造芯这件事,竟然还能如此“亲民”: 在22岁的年纪,一个......
光刻胶是集成电路生产中的关键性原材料,报道指出,华虹集团每月空运光刻胶需求约3000瓶左右。而近期受疫情影响,加上光刻胶对运输要求非常高高,华虹集团一度苦于无法找到合适的航班将所需光刻胶......
目旨在通过自主研发,打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线,完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设,满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion光刻胶的成套技术体系并完成产品定型,技术......
市场大部分份额,日本合成橡胶(JSR)、日本东京应化、美国杜邦-罗门哈斯、日本信越化学、日本住友化学、日本富士电子材料六家大厂高度垄断了半导体光刻胶的大部分市场。并且目前日韩、欧美主要厂商已实现高端制程光刻胶的......

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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片光刻胶光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;成都光谱光电技术有限公司;;我公司是专业光学薄膜和光信息化学品生产商,成立于1994年,多年来一直致力于为客户提供高品质的光学薄膜元件和光信息化学品。拥有光学薄膜和光信息化学专业的高素质人才.主要从事紫外正型光刻胶
;盐城经纬化工有限公司;;进出口电子材料包括热致变液晶,显示器液晶,光刻胶,清洗剂等
;引进(香港)发展有限公司;;本公司主要是代理日本三井有关边框胶、显示液、光刻胶、导电铜浆等,本公司在香港成立已经有20年的历史,主要市场是香港和广东地区
名字就代表了用于生产LED芯片和光电二极管芯片的半导体技术领域的专有技术。在接下来的几年中,通过中小批量生产的LED,SMD,光电二极管和客户特定的CoB模块,产品范围得到了扩展和进一步完善。 在2008年至
;深圳容大感光科技股份有限公司;;深圳市容大感光科技股份有限公司成立于1996年,是一家专业生产PCB油墨、LED白油、五金玻璃油墨、正性负性光刻胶、金盐等光电化学材料的专业制造商。公司
YAG激光刻字机、CO2激光刻字机和光纤激光刻字机系列产品。公司的激光刻字机已在大众汽车、日立电器等大公司的多条生产线上使用。很多台资企业也使用本公司生产的激光刻字机。公司的激光刻
;尚盈;;LED芯片和买LED灯饰
;固通无线科技有限公司;;本公司从事无线及嵌入式行业主芯片和周边关键器件代理销售多年,和原厂大代理商保持了良好的合作关系,渠道可靠、价格有竞争力。
;上海扬灵电子有限公司;;我司主要代理合泰,贝岭,复旦微,华微,泉芯等品牌的电子元件。主要优势产品有:合泰的单片机,电源管理芯片;复旦微的存储器;贝岭的功率管;华微的AD转换芯片和音频IC;泉芯