资讯
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？;
在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术;
近日，美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术......
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学(2023-03-24)
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学;2023春季GTC上，NVIDIA与TSMC（台积电）、ASML 和Synopsys（新思科技）联合宣布，完成全新的 AI 加速计算光刻技术......
中国台湾地区半导体产业强化布局EUV技术，引发韩国三星警戒(2021-09-04)
中国台湾地区半导体产业强化布局EUV技术，引发韩国三星警戒;相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术，相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《Business Korea》报导，近期......
美光计划部署纳米印刷技术，降低 DRAM 芯片生产成本(2024-03-05)
出密集存储器阵列外围的虚假结构（dummy structures）。
美光公司表示由于光学系统本身性质，这些 DRAM 层的图案很难用光学光刻技术进行印刷，而纳米打印方式可以用更精细的方式打印出来，且鉴于纳米印刷技术应用成本是沉浸式光刻技术......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
费数十亿卢布。据开发人员称，传统光刻技术需要使用专门掩模版来获取图像，该装置则由专业软件控制，实现完全自动化。
硅的等离子体化学刻蚀设备则用在光刻工序之后，可直接用于形成纳米结构，也可以制作硅模，如用......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计该制程技术......
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术(2024-07-29)
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术;7 月 29 日消息，台媒《电子时报》（DIGITIMES）今日报道称，台积电最快在 2028 年推......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;深圳2024年10月18日 /美通社/ -- 由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子(2023-01-28)
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子;
【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
于相当于从地球上照出手电筒并击中放置在月球上的 50欧分硬币；
EUV系统包含一个重达7600公斤的大型真空室。
那么，不用EUV行吗？ 除了EUV，也不是没有其它技术，全世界对光刻的研究一直都很积极，已经足足有将近60年历史，光刻技术......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限(2024-08-02)
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限;据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本(2024-08-05 09:20)
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本;据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
上海新阳：KrF（248nm）厚膜光刻胶通过客户认证并取得第一笔订单(2021-07-01)
功取得第一笔订单。
公告指出，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻......
Toppan Photomask与EV Group达成合作(2022-09-20)
Toppan Photomask与EV Group达成合作;加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？;
11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV)
对于未来光刻技术......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
方案，Martin van den Brink表示，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不......
探索前沿技术 推动产业发展，东方晶源受邀参加第七届国际先进光刻技术研讨会(2023-10-30)
探索前沿技术 推动产业发展，东方晶源受邀参加第七届国际先进光刻技术研讨会;
10月25日，第七届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
社长御手洗富士夫近日表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
将会在65nm或者45nm的时候遇到障碍，由此亟需下一代的光刻技术，去缩小晶体管的规模，延续摩尔定律。
多年以后，EUV已经成为下一代光刻技术中的佼佼者，其他的竞争技术，如自组装技术、电子束直写和纳米打印技术......
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利(2022-11-25)
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利;近日，据国家知识产权局官网消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。
集成......
英特尔首次采用EUV技术的Intel 4制程节点已大规模量产(2023-10-16)
（）技术大规模量产（HVM）Intel 4制程节点。本文引用地址：据悉，作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术......
ASML已交付第三代EUV，用于制造2nm芯片！(2024-03-19)
光刻技术在性能（每小时处理的晶圆数量）和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度，相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%，将来......
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知(2023-07-05)
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知;近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在......
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展(2021-06-11)
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
行业向更高级别的芯片制程转型，EUV技术显现出的短板和局限性逐渐暴露，这也迫使行业重新审视未来技术发展的路径与方向。
其他的光刻技术陆续出现，像BEUV技术、X射线光刻技术、NIL纳米压印技术等。尤其NIL技术，已经不再是实验室技术......
为减少资本支出，美光将基于 EUV 光刻的 1γ nm 制程 DRAM 技术推迟到 2025 年(2022-12-23)
制造技术上的增长速度。
据了解，该公司最新的 1β 制造节点 —— bit 密度提高了 35%，电源效率提高了 15%，不过这一技术依然依赖于深紫外线（DUV ）光刻技术。
相比之下，三星......
为减少资本支出，美光将基于 EUV 光刻的 1γ nm 制程 DRAM 技术推迟到 2025 年(2022-12-26 09:51)
制造技术上的增长速度。据了解，该公司最新的 1β 制造节点 —— bit 密度提高了 35%，电源效率提高了 15%，不过这一技术依然依赖于深紫外线（DUV ）光刻技术。
相比之下，三星和 SK......
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知(2023-09-18)
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知;近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在......
为减少支出，美光1γnm DRAM推迟到2025年(2022-12-26)
到2025年。
美光1γnm制程工艺的DRAM采用将EUV光刻技术，因为要减少资本开支，因此该技术将推迟到2025年，同时232层的NAND节点也被推迟。
今年Q3季度，美光......
TSMC 和 Synopsys 将NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
持。
NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“计算光刻技术是芯片制造的基石。我们与 TSMC 和 Synopsys 围绕 cuLitho 展开合作，通过加速计算和生成式 AI 为半......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
到其软件、制造工艺和系统中，在加速芯片制造速度的同时，也加快了对未来最新一代 NVIDIA Blackwell 架构 GPU 的支持。
NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“计算光刻技术......
热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产(2024-10-10)
优化过的工具和算法的库，其速度比当前基于CPU的方法快几个数量级。
据官方介绍，cuLitho在GPU上运行时，性能比目前的光刻技术（在硅片上创建图案的过程）提高了40倍，加速了目前每年消耗数百亿CPU小时......
10nm后，DRAM有这些发展方向(2023-06-13)
池涉及在服务器平台上绑定多个 CXL 内存块以形成池，并允许主机根据需要从块中分配内存。这种方法最大限度地提高了效率并降低了运营成本。
美光将通过 EUV 光刻技术......
【倒计时3天】一张图了解“2021势银光刻胶产业大会”(2021-06-22)
【倒计时3天】一张图了解“2021势银光刻胶产业大会”;6月24日-25日，2021光刻胶产业大会将在上海举办，大会将覆盖光刻胶及其配套材料、光刻技术、关键设备等三大主题。京东方、维信诺、TCL......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
Blackwell 架构 GPU 的支持。NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“计算光刻技术是芯片制造的基石。我们与 TSMC 和 Synopsys 围绕 cuLitho 展开合作，通过......
制程升级压力，三大DRAM厂商EUV竞争白热化？(2022-05-27)
率先使用极紫外（EUV)光刻技术，同年10月便开始批量生产基于EUV的14nm DRAM。在此过程中，三星将其最先进的14nm DDR5上的EUV层数从两层增加到了五层DRAM工艺。
2021年11月......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
-90nm。由于光波衍射的缘故，光刻电路是一个弥散的光斑，其特征尺寸大约是光波长的一半，更小特征尺寸的光刻电路意味着更高的光刻分辨率。为了得到更高的分辨率，目前主流光刻技术......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产,“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-12)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。本文引用地址：
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-11)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-13)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
美光出货全球最先进的1β技术节点DRAM(2022-11-02)
和产品执行副总裁Scott DeBoer表示：“1β DRAM产品融合了美光专有的多重曝光光刻技术、领先的制程技术及先进材料能力，标志着内存创新的又一次飞跃。全球领先的1β DRAM制程技术......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
展开深入的研究。
2002年以前，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是......
晶瑞股份之后，这家公司与ASML签署了批量购买协议(2021-01-22)
架构已经成为全球300mm和200mm晶圆量产生产线中的先进光刻技术代表 。
英诺赛科将在今年第二季度搬入首批光刻机，这是第三代半导体领域首次量产应用先进的ASML TWINSCAN......
台积电首次提及 1.4nm 工艺技术，2nm 工艺按计划 2025 年量产(2023-12-14)
-2028 年时间段为 A14 制程采用 High-NA EUV 光刻技术，考虑到届时英特尔（以及可能其他芯片制造商）将采用和完善下一代数值孔径为 0.55 的 EUV 光刻机，台积......
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;上海勋川机电设备有限公司;;上海鼎川机电设备有限公司是集研制、开发、生产于一体的专业雕刻设备厂家。公司自成立以来，便紧跟世界雕刻技术发展潮流，始终致力于CAD/CAM雕刻技术、CNC数控技术、激兴雕刻技术
;金辉达激光科技有限公司;;深圳德英激光科技有限公司 我司专业从事激光刻字，激光LOGO，范围如下： 1. U盘，MP4/3/5外壳激光雕刻， 2. 闪存卡激光刻字。包括SD卡外壳，CF卡外壳，TF
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