自主研发光刻机

来自东方晶源官网) 东方晶源自2014年成立之初即预见性地提出GPU加速的全芯片反向光刻掩模优化技术,从根本上异于其他公司的技术路线。历经九年自主研发,已经形成PanGen 计算光刻...

直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限，我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机，产能...

仍需要大量的核心技术理论验证，该技术被率先应用在DUV光刻领域要更高，可以以此推动国产DUV光刻机在芯片制程精度上的迭代。 众所周知，在光刻机领域里，ASML公司是一家独大的，依靠着自主研发...

还有很长的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。这需要SSMB EUV光源的持续科技攻关，也需要上下游产业链的配合，才能获得真正成功。 攻关...

、生产，不再能像硅基芯片时代一样，像光刻机、EDA等等设备，全部掌握在美国手中，被卡住脖子。 所以一直以来，在量子计算领域，国内的科学家、机构、企业们就一直坚持自主研发，要将...

另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是...

所有先进晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作，就连ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的设计师。 为了解决技术被“卡脖子”的问题，俄罗斯当时放下狠话，要自主研发光刻机，并计划在六年内突破芯片核心技术。那么，如今已经过去快三年了，其芯...

亦庄此前报道，作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位，科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称，上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机...

胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻...

超大规模集成电路用半导体级高纯硫酸生产能力。 而集成电路制造用高端光刻胶研发项目总投资4.89亿元，拟使用募集资金3.13亿元，由晶瑞电材负责实施建设、运营，建设期限为36个月。 该项目旨在通过自主研发...

胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为...

必须在真空环境中传输，机械精确度要达到皮秒级，光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发，2000年开始，我国团队参观ASML，遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机，ASML态度...

交付入厂仪式在增城区广东越海集成技术有限公司（以下简称“越海集成“）举行。 本次交付入厂的国内首台大芯片先进封装专用光刻机由星空科技自主研制，可以为Chiplet和2.5D/3D大芯片的集成制造提供光刻...

的ASML XT 1900 Gi型光刻机，现已全部到厂。 目前，其自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，光刻胶项目取得重大突破。 同日，上海新阳发布公告称，公司...

子系统、核心零部件自主研发项目，以及补充流动资金项目。 公开资料显示，芯碁微装是国内直写光刻技术产业化应用的头部企业，自主研发生产的直写光刻设备主要应用于下游集成电路、平板...

元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。 2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表...

市场实力，尼康还将推出适应3D堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力。 佳能 研发3D技术光刻机、满足生产需求 无独有偶，另一大日本光刻机企业佳能也被报道在研发光刻机...

激发了中国自力更生、自主研发的斗志。 这不，近日就传来一则好消息——1月31日，中国第一条量子芯片生产线在安徽合肥首次向公众亮相了。我国最新量子计算机“悟空”即将在这里面世，当前...

创新成功案例，具备自主研发、工艺落地、生产运营、市场开拓、经营管理等关键能力，能够为客户提供一站式存储解决方案。 随着公司重点项目的快速推进，至讯创新的发展将步入新的阶段。与此同时，更具有创新力、竞争...

半导体核心封装设备制造商科瑞尔完成新一轮融资；广州粤升半导体碳化硅外延设备大批量出货... 具体来看，11月22日，研微半导体自主研发的首台国内先进纳米制程原子层沉积设备发车出厂，交付国内头部客户。研微半导体创始人、CEO林兴...

经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国...

化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。 国产光刻胶新突破！ 另外，值得肯定的是，国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例，该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年...

前已经实现了各大类（除 EUV）光刻胶的突破，实现了厚积薄发的现状。 去年12月，宁波南大光电发表公告称，公司自主研发的 ArF 光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。 据南大光电介绍，“ArF 光刻...

胶，预计三年内完成并量产。 上海新阳拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用，并于近期成功购买了ASML-1400光刻机，用于研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶，及配...

胶还与IC制造工艺紧密结合，因此厂商要想研发光刻胶，首先就需要有一台光刻机。光刻机的价值之高想必大家都有所耳闻。在2021数博会上，中国工程院院士吴汉明公开表示，一台高端EUV光刻机价值1亿美元。根据...

特定对象发行可转换公司债券已经创业板上市委审议通过，并已经中国证监会同意注册。此次拟募集资金不超过5.23亿元，集成电路制造用高端光刻胶研发项目为募投项目之一。 △Source：晶瑞电材公告截图 该项目旨在通过自主研发...

晶圆有怎样的市场需求呢？布局成熟工艺芯片有何意义？; 中国芯是指由中国自主研发并生产制造的计算机处理。实施“中国芯”工程，采用动态流水线结构，研发生产了一系列中国芯。 通用...

光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件; “OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们...

看来，美国的态度占了上风，荷兰妥协了，暂时不清楚美国哪种说辞以及协议最终说服了荷兰，从DUV光刻机到EUV光刻机，荷兰都不再向中国出口。 这意味着，美国的管制范围扩大了，中国的光刻机自主研发...

佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机...

佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机...

胶最新发展 虽然实现光刻胶国产化阻力重重，但是最近一年时间，国产光刻胶也迎来了黄金期。先是南大光电宣布公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过了武汉新芯的使用认证，各项性能满足工艺规格要求，良率...

的产量预计为ASML设备的37%，光源功率为3.6千瓦，但这一性能已足够满足小规模生产需求。俄罗斯计划自主7nm芯片光刻机设备在2028年实现全面投产，效率预计比ASML光刻机高1.5-2倍...

于量子点膜和量子点扩散板，由于QD-LED中的量子点材料与蓝光LED芯片直接接触，受到光和热的影响成几何级别增加，对量子点可靠性的要求更为苛刻。量子点芯片封装采用纳晶自主研发...

子点可靠性的要求更为苛刻。量子点芯片封装采用纳晶自主研发的新一代超稳定型量子点材料，材料性能大幅提升，可按需求实现NTSC、DCI-P3、BT2020等标准体系下的高色域，其中NTSC色域可达115...

芯片的生产，一台的售价就高达上亿欧元。 即便不考虑价格，从外国购买现在也变得几乎不可能。因为技术封锁，国外禁止将先进的光刻机销售给中国。 光靠自主研发，紫光展锐虽然成功完成了6nm芯片...

本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发光刻胶，但它们还没有达到可靠性验证的水平。 光刻胶产业有着极高的行业壁垒。首先它对树脂和感光剂等原材料要求较高，并且制作技术壁垒高，在研发...

中企能够从ASML采购到足量的DUV光刻设备，自然也就没有了必须进行自主研发的理由。 ▲相关报道截图 另外，他还表示自己只是个商人，希望公司能够正常进行交易。限制...

储器晶圆制造基地项目提前达到预期产能，实现了从投产到量产再到批量销售的关键跨越。 在集团主导推动下，长鑫项目实现股权多元化，成功引入国家大基金、省三重一创基金等战略投资，完成156亿元融资，为下一步自主研发...

的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已...

本宣布该消息的当天，日本外相林义政表示将会在今明这两天访问中国，同中国外长秦刚讨论一系列的问题，以建立建设性以及稳定的外交关系。 半导体产业分析人士表示，此举会加速中国在半导体领域的自主研发...

测试中心、 中控室及配套附属设施用房等建筑（构筑物）面积约19.2万平方米，采用企业自主研发的先进工艺技术，实现液晶材料、OLED材料、聚酰亚胺（MPI等）浆料、平板显示用光刻胶、半导体光刻胶及半导体用光刻...

华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。 光刻...

，CNews称，莫斯科电子技术学院 (MIET）承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。 研发光刻机计划达到EUV级别，但技...

。因此JBD推出了“混合集成半导体”技术，不同于传统的巨量转移技术，实现了显示芯片的小型化、高亮度。诺视科技则自主研发的WLVSP™（晶圆级垂直堆叠像素）技术。就在今年4月，诺视科技点亮全球首款XGA...

内又一次对中国企业单位的一种限制和封锁。在国防、半导体等重要核心领域，加强核心设备、零部件自主研发，培育完整国产供应链时不我待，尤其涉及前道刻蚀用光刻机，长期...

日本成功引入首台ASML EUV光刻机...

探针台”可实现量子比特电阻快速精准测量，就像孙悟空的“火眼金睛”一样近乎零损伤识别量子芯片的质量优劣，从而进一步提高量子芯片良品率。 据了解，该无损探针台由合肥本源量子计算科技有限责任公司完全自主研发...

俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！; 12月19日消息，据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容...

华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年...