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纳加工、量子光源、生物监测等领域大放光彩。 据悉,集成化、微型化、多功能化是未来激光器的发展方向,但传统光学晶体很难在有限厚度内高效产出激光,因此......
ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系,当这些子光......
激发了中国自力更生、自主研发的斗志。 这不,近日就传来一则好消息——1月31日,中国第一条量子芯片生产线在安徽合肥首次向公众亮相了。我国最新量子计算机“悟空”即将在这里面世,当前生产线正在紧锣密鼓生产量子......
半导体光刻机巨头,何去何从?;3月27日消息,据外媒报道,为留住光刻机设备巨头阿斯麦(ASML)继续在荷兰发展,荷兰政府计划向ASML注入至少10亿欧元资金。 本月初,荷兰当地报纸De......
、NPO、LPO、LRO等各类光模块产品中,预计近期可以实现高端硅光芯片的批量商用。 中国团队研制出全球首个氮化镓量子光源芯片 据“上海嘉定”4月底介绍,电子科技大学信息与量子实验室、清华......
消息称美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备;据外媒最新消息称,美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备。 报道中提到,因对华为开发先进芯片的担忧日益加剧,美国正推动日本、韩国、荷兰......
量存储芯片等在短期将无法扩产,中长期可能将不得不转用DUV干法光刻机,从而芯片的制造成本上升,导致市场竞争力下降。 不过从最新消息来看,主要限制对华出口的还是16/14nm及以下先进制程芯片的制造,可能......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是,到现在也没人见过这台国产光刻机,主要原因可能就是上海微电子光......
半导体工艺向7nm及以下节点的推进,极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光......
的贸易稳定荷兰会想尽办法维系!” 但意外的是,没过多久ASML便官宣了一个新消息,负责人表态:“有能力远程锁定台积电的光刻机!”这也间接暴露了ASML所有售卖的设备都被留有“后门”,随时都可以将它们变成“废铁”。 这就......
一代激光技术奠定理论和材料基础。 据了解,光学晶体可以实现频率转换、参量放大、信号调制等功能,是激光技术的“心脏”。而激光技术是我们当前科技文明的基石,在微纳加工、量子光源、生物监测等领域大放光彩。 虽然......
科学家通过两个量子光源首次实现量子力学纠缠;丹麦和德国科学家在最新一期《科学》杂志上发表论文指出,他们携手解决了一个困扰量子科学家多年的问题——在两块纳米芯片上,首次同时控制两个量子光源,并让其实现量子......
国产光刻机最大的希望!上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露,上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市,中信建投是其辅导机构。 根据官方信息,上海......
另辟蹊径?俄罗斯拟自研“比ASML便宜”的EUV光刻机;综合CNews、Tom′s Hardware报道,俄罗斯科学院微结构物理研究所(IPM RAS)宣布了一项名为“高性能X射线光刻......
半导体光刻机巨头,何去何从?;3月27日消息,据外媒报道,为留住设备巨头阿斯麦()继续在荷兰发展,荷兰政府计划向注入至少10亿欧元资金。本文引用地址:本月初,荷兰当地报纸De Telegraaf揭露......
科学家通过两个量子光源首次实现量子力学纠缠;丹麦和德国科学家在最新一期《科学》杂志上发表论文指出,他们携手解决了一个困扰量子科学家多年的问题——在两块纳米芯片上,首次同时控制两个,并让其实现。最新进展对量子......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心;最新消息显示,尽管全球经济将放缓,但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备(),用于生产最新......
有制造的基础上进行一次新的制造,而且重新制造出来的产品无论是性能还是质量都不亚于原先的新品。 韩国的半导体计划 作为另一个半导体制造重镇,韩国最近在大规模的布局半导体产业。根据最新消息,韩国打算在未来10年花......
进行大规模生产。 此外,据韩联社报道,三星集团此次投资的一部分或将用于确保购入荷兰阿斯麦公司制造的光刻机。据路透社最新消息显示,ASML最新旗舰光刻机售价约为4亿美元。 值得注意的是,在公......
世界首个!我国团队研制出氮化镓量子光源芯片;4 月 18 日消息,综合电子科技大学新闻网、《四川日报》报道,电子科技大学信息与量子实验室研究团队与清华大学、中国......
几年高NA EUV光刻机应用后,掩膜制作的计算数据量将提升10倍以上,目前cuLitho软件加速库已经支持高NA EUV光刻可能用到的曲线掩膜、亚原子光致抗蚀剂掩膜等制造。 ......
次与中芯国际部分成熟制程工艺设备供应商也在同次获批。 据了解,中芯国际曾以1.5亿美元的价格向荷兰阿斯麦订购了一台最新型的EUV光刻机。一般来说,根据日内瓦协议,本应在2019年初交付的EUV光刻机最终由于美国方面阻扰,未成......
源,可完整地安装在芯片上,发射频率纠缠的量子位态。整个量子光源比一枚一欧元硬币还小,最新设备有望成为可编程光子量子处理器的基本组件,有助于降低量子应用的生产成本。 ......
国产光刻机巨头,更新上市进展?;近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE,简称 “上海微电子”)IPO动态消息震动产业界,概念股乘势而起,那么实际情况究竟如何? 并未......
尺寸缩小到1/1000以下,纠缠量子光源在芯片上集成;德国和荷兰科学家组成的国际科研团队首次将能发射纠缠光子的量子光源完全集成在一块芯片上,将量子光源的尺寸缩小到目前设备的1/1000以下,实现......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
芯片生产线上投入使用。 安徽省量子计算工程研究中心副主任贾志龙博士介绍,就像光刻机是传统芯片制造的工业母机,这台仪器也是量子芯片的工业母机之一,是生产量子芯片的必要工具,可以大大缩短量子......
推测他们所使用的设备应该就是ASML最新一代的0.33NA EUV。光刻机设备与芯片制程工艺相匹配,目前EUV光刻机暂时能满足量产3nm的需要,但是3nm以下工艺却难以胜任。这也是ASML加速研发新的光刻机的原因之一。 据近期外媒消息......
台积电仍是采用传统工艺,结果成本、性能提升并没有想象中那么美好。另外,2nm芯片预计在3年后出现,也是2025年,这意味着芯片制程缩小越来越难了。 ASML已经官宣了High NA EUV光刻机新消息,称......
晶瑞电材子公司冲关新三板 持续发力光刻胶领域;最新消息,从事光刻胶业务的苏州瑞红电子化学品有限公司(以下简称“苏州瑞红”)拟冲关新三板,持续发力光刻胶领域。 苏州瑞红申请新三板挂牌 5月......
华为公布EUV光刻新专利!;公开消息显示,近日,华为公布了一项新专利,展示了一种《反射镜、光刻装置及其控制方法》, 专利申请号为CN202110524685.X。 据悉,该专......
25亿一台!英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装:展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元;6月6日消息,荷兰制造商今年将向交付其最新款。据公司发言人莫尼克·莫尔斯(Monique Mols)透露,首席财务官罗杰·达森(Roger......
TCL成立半导体公司;合肥长鑫产能提前达产;上海新阳再购入光刻机;TCL拟10亿元设立半导体公司 3月10日晚间,TCL科技发布公告,为顺应国内半导体产业的蓬勃发展趋势,进一......
双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。 多种 EUV 光刻机共用一个基础平台,在降低开发成本的同时,也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。 根据此前报道,ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机......
ASML:中国已有近1400台ASML光刻机;11月3日消息,毫无疑问,中国厂商正在疯狂抢购ASML的光刻机,但是你知道有多少了吗? 在第六届中国国际进口博览会上,ASML全球副总裁、中国......
可能实现有机芯片与硅基芯片的功能集成,进一步拓展硅基芯片的应用。 新型光刻胶成膜树脂 化学放大光刻胶是目前集成电路制造应用最广泛的光刻材料。通过构建光酸催化的酸解反应,光刻胶的灵敏度可以实现数量级的提升,弥补了光刻机......
生产最新12nm芯片,三星逆势计划新增10台EUV光刻机; 由于内存价格暴跌,、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资,降低了产能,然而作为内存一哥不为所动,不仅不打算减产,甚至......
精雕JDMR600数控机床、施耐德DNF7型铠装移开式开关柜、上海微电子光刻机等展品建模85个,视频及灯箱热点600余项。现已有华为、维特根、精雕集团等15家企业与廊坊市达成项目合作。 华为......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
国脖子的设备有很多,但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说,5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为,当金属间距缩小到30nm以下(对应工艺节点超越5nm),光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
本次的密访动作似乎显示对这一明确的立场有了新的想法,有可能会修正其既定计划,提前导入High-NA EUV光刻机进行试验和学习。台积电何时使用ASML的最新技术将取决于何时最具成本效益,以及技术成熟度的平衡点。 为什么需要High......
技术也将提前到2024年下半年进入大批量制造(HVM)。上述制程或将有部分利用High-NA EUV光刻机。 三星方面,2022年6月外媒消息显示,三星电子副会长李在镕在荷兰ASML总部会见了ASML......
国际首次,中国芯片再突破!;据四川日报报道,成都电子科技大学信息与量子实验室研究团队与清华大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所合作,在国际上首次研制出氮化镓量子光源芯片,这是电子科技大学“银杏......
年的某个时候到来。本文引用地址:现有最新消息表明,采用 tGPU“Tiled-GPU”组合设计的 Meteor Lake 将有两种类型,主要用于 2023 年推出的下一代移动产品线。 爆料......
:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di,此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号光刻机,为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式光刻机。 2023年3月......
ASML声明:2050、2100光刻机出口许可证被部分撤销;1月2日消息,日前,荷兰光刻机巨头ASML在其官网发布声明,称部分光刻机出口许可证被撤销。 根据声明,荷兰政府最近部分撤销了2023年......
AI芯片制造方面,英特尔努力重新取得优势。消息人士还表示,另一对手三星2025年第一季将安装第一套High NA EUV光刻机。 取得ASML最先进的光刻机并不意味着代表企业就能顺利的进入“埃米......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...; 近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新......
金二期投资杭州富芯半导体 据企查查最新消息,国家大基金二期投资了杭州富芯半导体。公开资料显示,杭州富芯半导体成立于2019年,注册资本94.5亿元,主要从事高性能模拟芯片的生产制造。 此前2019年11月15......

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;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
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刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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的顾问委员会主席由国际著名的光电子科学家林清隆教授担任。顾问委员会为公司的发展提供最新的技术动态,以保证公司的正确发展方向。公司是一家致力于量子信息、生物光子学、医疗仪器以及高精密光电子设备和仪器的研究和开发的高技术企业。
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