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惠伦晶体：TCXO产品价格较去年产生较大幅度上涨(2021-04-16)
惠伦晶体：TCXO产品价格较去年产生较大幅度上涨;惠伦晶体(300460)4月15日在互动平台表示，因TCXO用IC供货紧张及市场供需不平衡，受多种市场因素影响，TCXO产品......
振荡器概念强势爆发！郭明錤：AI服务器光模块带动振荡器需求增长(2023-06-21)
oscillator），单价较一般服务器/消费电子的振荡器高约10-20倍，毛利率为50-60％以上。
受此消息影响，惠伦晶体、泰晶科技、晶赛科技、东晶......
小小晶振为何能撑起电子设备供能，高端晶振是否已全面国产化？(2023-03-24)
我们常说的高端晶振之一， 目前国内厂商中的惠伦晶体、泰晶科技具有高基频晶振的量产能力。
中国大陆厂商以中低端晶振市场为主，高端晶振市场国产替代需求强烈。 日本厂商凭借领先的技术......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
方案，Martin van den Brink表示，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不......
盘点晶振产业链35家主要企业(2021-03-04)
场供不应求的情况下，本土厂家也陆续宣布涨价。以泰晶科技为例，它在2020年2月、8月、10月和11月先后四度涨价，部分产品提价20%~50%，最紧张的时候甚至停止接单以保障优质客户供应。另一家国产大厂惠伦晶体......
Gigaphoton将在SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会发布技术解决方案;公司将在半导体光刻技术盛会上发表论文
半导体光刻......
CITE2024即将拉开帷幕，抢先一睹电子信息产业的未来趋势(2024-04-08)
。显然，电子元器件产业正迎来极为广阔的发展前景。
值得一提的是，作为本届电博会重要的板块，“电子元器件展区”将汇聚英麦克、潮州三环、风华高科、是德科技、惠伦晶体、湘怡电子、通茂电子、门拓电子、永星......
CITE2024即将拉开帷幕，抢先一睹电子信息产业的未来趋势(2024-04-07)
科技、惠伦晶体、湘怡电子、通茂电子、门拓电子、永星电子、广东科信、飞虹半导体、桦沣实业、广东场效应、中国兵器214所等500多家电子元器件企业，竞相展示最新产品和技术成果。
例如，英麦......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）(2021-03-23)
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
分工正面临着巨大的挑战，同时，各国更重视本土半导体供应链的建设，但半导体材料领域的光刻胶，面临一些市场障碍和技术壁垒，对部分企业来说缺乏足够的动力。
美国电子材料市场调查公司TECHCET数据预估，2021年全球半导体光刻......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
体材料皇冠上的明珠”。
02
各“线”神通
一直以来，摩尔定律的进步始终驱动着半导体行业的发展，半导体光刻技术的进化也牵动着光刻胶材料不断革新，其中光刻胶曝光波长也在不断地缩短以满足需要。
按曝......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
时间。
ArF光刻胶是什么？
芯片生产过程中，需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上，而这种辅助的光学材料，就是光刻胶。
从光刻胶的发展历程看，从 20 世纪 50 年代至今，光刻技术......
Toppan Photomask与EV Group达成合作(2022-09-20)
Wimplinger称：“我们很高兴与Toppan Photomask合作，将纳米压印光刻技术引入主流制造应用。作为以最高质量标准著称的领先半导体光掩模供应商，Toppan Photomask在使......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
效的微芯片至关重要。随着半导体行业不断突破摩尔定律的极限，EUV光刻技术已成为一项关键技术，可实现以前无法实现的7nm以下晶体管的大批量生产。
封面图片来源：拍信网......
英特尔首次采用EUV技术的Intel 4制程节点已大规模量产(2023-10-16)
（）技术大规模量产（HVM）Intel 4制程节点。本文引用地址：据悉，作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术......
日本能主导全球芯片制造吗？(2023-06-15)
Electronics)、索尼(Sony)和东芝(Toshiba)等老牌公司。日本在精密制造、材料科学和芯片设计方面的专长使其成为接管半导体生产的有力竞争者。
同时，日本在半导体光刻技术......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
技术的进一步发展。NA代表数值孔径，表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体......
台积电首次提及 1.4nm 工艺技术，2nm 工艺按计划 2025 年量产(2023-12-14)
-2028 年时间段为 A14 制程采用 High-NA EUV 光刻技术，考虑到届时英特尔（以及可能其他芯片制造商）将采用和完善下一代数值孔径为 0.55 的 EUV 光刻机，台积......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产,“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-12)
生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术正在驱动着算力需求最高的应用，如AI、先进移动网络、自动驾驶及新型数据中心和云应用。此外，对于......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-11)
生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术正在驱动着算力需求最高的应用，如AI、先进移动网络、自动驾驶及新型数据中心和云应用。此外，对于......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-13)
生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术正在驱动着算力需求最高的应用，如AI、先进移动网络、自动驾驶及新型数据中心和云应用。此外......
韩国半导体厂商周星工程研发 ALD 新技术，降低 EUV 工艺步骤需求(2024-07-16)
研发出原子层沉积（ALD）技术，可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻（EUV）工艺步骤需求。
极紫外光刻（EUV）又称作超紫外线平版印刷术，是一种使用极紫外光波长的光刻技术，目前用于 7 纳米......
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利(2022-11-25)
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利;近日，据国家知识产权局官网消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。
集成......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-13 09:32)
生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术正在驱动着算力需求最高的应用，如AI、先进移动网络、自动驾驶及新型数据中心和云应用。此外，对于......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域，在其制造过程中半导体光刻机必不可少。随着数字技术的迅速发展，佳能的半导体光刻机也在不断升级。
首台日本产半导体光刻机PPC-1
佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上，英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作，将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中，并推出用于计算光刻......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产(2022-12-15)
应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、 平板显示光刻胶和PCB光刻胶，其技术壁垒依次降低。 相应地， PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的，
LCD光刻胶替代进度相对较快，半导体光刻胶目前国产技术较国外先进技术......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？;
11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV)
对于未来光刻技术......
Intel 4工艺官宣大规模量产 第一次采用EUV极紫外光刻(2023-10-12)
Intel 4工艺官宣大规模量产 第一次采用EUV极紫外光刻;Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了(2024-06-17)
目总监Kurt
Ronse就悲观地表示：“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件，只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻，现有的光刻技术必然终结。”
......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-18)
子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt
Ronse就悲观地表示：“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件，只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻，现有的光刻技术必然终结。”
......
“争议”摩尔定律，英特尔反驳英伟达“结束论”(2023-03-28)
定律所推崇的“两年处理能力加倍”的实现开始变得乏力。
在业内看来，不断逼近物理极限的晶体管加工早已让现有的光刻技术“不堪重负”，CPU晶体管和能量大幅上升导致应用性能只有小幅增长，Dennard(登纳......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
半导体整个产业而言都是营收增长点，尤其一些功率器件。
相关半导体光刻机的部分，这次佳能于进博会期间介绍的技术和产品，有两点是我们认为格外值得一提的。
首先是近期佳能在推一个叫Lithography Plus的半导体光刻......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-17)
还是成本角度，Hyper NA之后该怎么走，谁的心里都没数。
微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示：“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件，只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻，现有的光刻技术必然终结。”
......
国产光刻胶，破冰前行(2024-12-10)
）、电子束光刻胶等品类。
全球光刻胶市场高度集中，核心技术主要掌握在日、美等国际大公司手中。其中合成橡胶（JSR）、东京应化、信越化学、住友化学、富士胶片、杜邦等多家领先企业，几乎占据了全球半导体光刻......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
nanowire ）技术。
上图显示了不同工艺节点用到的技术，据此不同的工艺节点用到的掩膜层数如下图所示：
新的光刻技术
从20nm节点开始，为了使用传统光刻技术......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了(2024-06-17)
心里都没数。
微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示：“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件，只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻，现有的光刻技术必然终结。”
......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
将会在65nm或者45nm的时候遇到障碍，由此亟需下一代的光刻技术，去缩小晶体管的规模，延续摩尔定律。
多年以后，EUV已经成为下一代光刻技术中的佼佼者，其他的竞争技术，如自组装技术、电子束直写和纳米打印技术......
全球首发！紫光展锐6nm EUV工艺芯片年内量产(2020-06-18)
基于马卡鲁2.0平台，单芯片集成5G基带，采用了已量产最先进的6nm EUV工艺制造，拥有多层极紫外光刻技术加持，相比初代7nm晶体管密度提高18％，芯片功耗则可降低8％。
CPU方面，虎贲T7520......
光刻胶国产化的6道坎(2021-05-06)
这种原材料主要掌握在国外企业手中，全球的年产量为6万吨，国内产业约为5000吨。而且，均苯四甲酸二酐的纯度关乎于聚酰亚胺的成败，如果纯度不够，更容易产生副反应，导致生产的聚酰亚胺纯度不达标。
专利壁垒
如今的光刻技术......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品
通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产
佳能将于2023年1......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
2023半导体制造工艺与材料论坛(2023-08-30 15:16)
微电子/韦尔半导体
设备篇
先进制造工艺&装备技术助力半导体产业升级—半导体核心微纳加工工艺技术进展：光刻、薄膜沉积、刻蚀、CMP、清洗 —光刻技术突破：2.5D/3D......
提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品(2023-02-21)
提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品;提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品
在日趋复杂的先进半导体制造工序中实现高精度的校准测量
佳能将于2023年2月21日推......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
（0.35μm）光刻机是哪种类型光刻机，此前俄媒曾提到过基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，而从目前来看350nm（0.35μm）的波段达到i线（365nm）。
各个工艺节点和光刻技术......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
半导体寒冬下，这一关键材料却陷供应紧缺，交期为往常4至7倍(2022-11-11)
重新转向短缺。
公开资料显示，在半导体制造流程中，需使用光蚀刻技术，在芯片上形成图形。而为了将图形复制在晶圆上，必须借助光掩膜的帮助——这一流程类似与冲洗相片时，利用底片将图像复制至相片上，因此光掩膜也被称为光刻......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
行业向更高级别的芯片制程转型，EUV技术显现出的短板和局限性逐渐暴露，这也迫使行业重新审视未来技术发展的路径与方向。
其他的光刻技术陆续出现，像BEUV技术、X射线光刻技术、NIL纳米压印技术等。尤其NIL技术，已经不再是实验室技术......
相关企业
;广东惠伦晶体科技股份有限公司;;广东惠伦晶体科技股份有限公司是专业研发、生产、销售“频率控制与选择元器件”表面贴装型（SMD）、插件型（DIP）石英晶体谐振器，表面贴装型（SMD）振荡器的国家级高新技术企业和中国电子元件百强企业。
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;众众立体光栅材料厂;;众众立体光栅材料厂主要从事立体光栅的生产、立体光栅销售，立体光栅技术开发，立体光栅照片制作，立体光栅技术的培训。众众立体光栅材料厂本着以立体光栅与客户相互提携，共同发展立体光
、半导体光刻镜头和光刻激光照明系统成为美国BALL半导体公司指定采购产品；其它产品已投放市场多年，经得到国内外用户的高度评价。 目前，北京紫晶视讯电子技术有限公司已经具备了科技创新、研发设计、光学
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
摄影仪）为一体，专业化从事立体光栅及相关器材的生产厂家,精粹国内外先进光栅的技术精华,不断研发创新产品,始终保持在国内立体光栅技术的领先地位,并获有多项国家专利。
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
司常年提供各种立体膜材柱镜光栅、立体狭缝光栅、板材立体光栅、片材立体光栅、最先进的立体软件、最精湛的立体技术。为促进立体行业的发展，众邦立体光栅材料厂这支强大的队伍精心编制出的立体教程、立体
;河南省鹤壁市三阳立体光栅材料厂;;三阳立体光栅材料厂是一家专业化的立体图象及立体光栅生产公司，立体图象可以做成翻动、旋转、闪电、爆破、渐变、放大、缩小、立体等各种混合特效效果，具有
;河南卓特立体科技有限公司;;卓特立体光栅材料厂是一家专业生产立体光栅材料的大型企业。我公司常年提供各种柱镜光栅、板材立体光栅、片材立体光栅、立体软件（PSDTO3D立体软件）。我公司有着雄厚的技术