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元件尺寸以及优化器件电路设计。 △Source：英伟达官网 其中，元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下，光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻......
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻......
Zeloof的介绍过程中，“自制（homemade）”这次被提及了许多次。 这因为在他车库里的几乎所有设备，大到光刻机、显微镜，小到瓶瓶罐罐的试剂、溶液，都是Zeloof从eBay......
时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。 光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶。如之前介绍的那样，当光线照射到光刻胶上时，会产......
实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商们就是这么做的：他们将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长，直到光谱上的紫外线端。 但是，EUV 技术是非常困难的。在使......
各半导体厂家依然会继续“争抢”光刻机。据说，由于很难采购到光刻机，三星电子领导人在2020年秋季奔赴ASML谈判后，于2021年成功引进了15台。 近日，一家由日本开发银行、伊藤......
ASML计划离开荷兰，网友：请来中国;光刻机是近年最热的话题之一，众所周知，荷兰的光刻机巨头阿斯麦（ASML）掌握着全球半导体命脉，而在最近，这一巨头正在考虑将总部搬离荷兰。一时间，引发......
了从技术开发到成果转化的全链条打通。 据悉，该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片，但实际上已经有点力不从心了：三星采用了全新的GAA工艺，性能和功耗提升明显，但良品率成了最大的问题；台积电采用传统工艺，良品率得到......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
ASML两款光刻机出口许可被撤销;1月2日，全球龙头在官网发布声明称，荷兰政府最近撤销了此前颁发给其2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i的部分出口许可证，这将......
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机......
地避开了当时EUV光刻机的不完善和高昂成本，直到EUV的稳定性和成熟性得到确认，相较之下，虽然三星率先采用EUV但由于良率问题反而让台积电后来居上；对于GAAFET台积电也并没有急于使用，而是......
回尖端制造工艺王座，在EUV光刻机都无法满足其生产需求的情况下，根本就是无从谈起的。 不光是EUV光刻，前不久ASML刚刚发出警示信号今年只会有60%的DUV（深紫外光）光刻机订单得到满足。在致......
道工艺的高密度封装也备受关注，而实现高密度的先进封装则对精细布线提出了更高要求。同时，近年来半导体光刻机得到广泛应用，这一背景下，半导体器件性能的提升，需要通过将多个半导体芯片紧密相连的2.5D技术※3及半......
成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态。 据光刻机龙头ASML介绍，计算光刻将算法模型与光刻机、测试晶圆的数据相结合，从而生成一个和最终曝光图案完全不同的掩模版设计，但这正是ASML想要达到的，因为只有这样才能得到......
在半导体制造的前道工艺中实现电路的微细化十分重要，在后道工艺的高密度封装也备受关注，而实现高密度的先进封装则对精细布线提出了更高要求。同时，近年来半导体光刻机得到广泛应用，这一背景下，半导体器件性能的提升，需要......
，而缺陷检测得到的缺陷数量非常庞大，但实际上并非每个缺陷都会使光刻产生坏点，因此需要进行验证。验证的方法是使用光刻机的真实光照条件来模拟光刻机曝光，通过......
胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶。且光刻......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
积电也将在下半年开始量产3纳米。但近日，台积电方暗示4nm、3nm等产能将趋于紧张，原因显示可能是先进制造设备到货延期，这直接指向DUV和EUV光刻机。业界猜测，受到光刻机设备短缺影响，近两......
离子型光酸协同增强响应的化学放大”技术。 据介绍，该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案......
胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶。且光刻......
离子型光酸协同增强响应的化学放大”技术。本文引用地址：据介绍，该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案......
由基板和不透光材料组成，起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带作用。 收购该业务后，三井化学将在日本国内拥有两个防护膜制造基地：岩国大竹工厂（山口县和木町）和目前的旭化成延冈工厂（宫崎......
致ASML等光刻机企业，不可能也不会向中国厂商放货先进设备，所以中国厂商在7nm及其以下工艺暂时没办法得到全面提升。 此外，谈到美国建厂成本高昂问题，刘德音称，美国建厂成本势必比中国台湾高，但台......
三星显示签订了合同。 然而有点意外的是，三星显示公司最初下的订单中，没有沉积设备和光刻机。这两种设备的制造准备时间较长，消息......
所用的光源不够“细致”,在光刻过程中光线发生衍射效应,设计的掩模版经光刻机成像会产生一些模糊和失真的现象,导致得到的图形与设计版图存在很大偏差。而计算光刻......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
/年的产能支持。 掩模版制造是半导体产业链的关键环节，而掩模版则是连通芯片设计和制造的纽带，其作用在于承载设计图形，通过光线透射将设计图形转移到光刻胶上，是光刻工艺中不可或缺的部件。 国内......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
其他因素，如定位误差（overlay）和整体设备效率（OEE）。定位误差涉及到光刻机将各种掩膜层精确对准的能力。根据加州大学伯克利分校的理论，OEE是指完成的工作量除以总时间。 加州......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
个半导体设备市场而言，晶圆制造设备为主体占比81%，封装设备占比6%，测试设备占比8%，其他设备占比5%。其中，晶圆制造设备里涉及到光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备皆为核心设备，大约分别占晶圆制造环节设备成本的24......

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