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传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制(2023-08-28)
传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;据电子时报报道,随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效,业内普遍想知道这将对中国半导体行业产生的影响。此次出口管制共计23品类......
首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶,计划2024年6月投产(2024-01-19)
首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶,计划2024年6月投产;据中电二公司消息,近日,江苏首芯半导体项目生产厂房主体结构封顶仪式举行。江苏首芯半导体薄膜沉积设备研发及生产项目位于无锡江阴高新区,为集半导体前道制程薄膜沉积......
半导体设备高光时刻来临,景气度有望拉满第三年(2022-10-08)
厂商景气度连涨两年
按照工艺流程划分,半导体设备可分为晶圆制造(前道设备)和封装、测试设备(后道设备)。
前道晶圆制造设备占据了市场80%以上的份额,设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀......
原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程(2023-08-31)
原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程; 本文引用地址:
在半导体工艺中,薄膜沉积是在半导体原材料硅晶圆上分阶段生长薄膜的核心工艺。它在半导体电路之间起到区分、连接和保护作用。由于......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等(2024-05-30)
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等;5月29日,微导纳米发布公告称,公司拟向不特定对象发行可转换公司债券拟募集资金总额不超过11.7亿元,扣除发行费用后募集资金净额将用于半导体薄膜沉积......
总投资5亿元 衍梓智能科技薄膜沉积设备项目落户青岛(2022-04-12)
总投资5亿元 衍梓智能科技薄膜沉积设备项目落户青岛;据莱西经济开发区消息,4月7日,青岛莱西经济开发区管委会与上海衍梓智能科技有限公司(以下简称“衍梓智能科技”)薄膜沉积......
消息称苹果正测试 ALD 工艺,为下一代 iPhone Pro 镜头添加抗反射光学涂层(2024-04-16)
(Atomic layer deposition,ALD)是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术,将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积......
先锋精科科创板IPO成功过会(2024-08-19)
握的核心技术平台基础上,公司紧贴客户需求,将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合,形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品,重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积......
又一半导体设备公司上市,首日开盘涨652%(2024-12-13)
先研设备模组生产与装配基地项目、无锡先研精密制造技术研发中心项目、补充流动资金项目。
资料显示,是国内半导体刻蚀和薄膜沉积设备细分领域关键零部件的精密制造专家,公司形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品,重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积......
募资10亿,国产设备厂商微导纳米科正式闯关科创板(2022-03-04)
(ALD)技术为核心,主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售,向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。
ALD设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备,在28nm及以......
国内半导体设备频传佳音:签单、合作…(2023-09-05)
是中车时代首次批量采购国产设备。
邑文科技成立于2011年,主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造,公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备,应用于半导体(IC及OSD)前道工艺阶段,尤其......
聚集集成电路领域,嘉芯半导体与嘉善复旦研究院达成战略合作(2023-08-18)
半导体设备上市公司万业企业携手全球产业专家共同投资成立,总投资规模达20亿元,用地面积109亩,公司研发及制造刻蚀、薄膜沉积、快速热处理等等集成电路成熟工艺的关键设备,产品范围覆盖芯片制造核心设备的多个重要品类。
据了解,自......
应用材料停止收购日本国际电气(2021-03-30)
KKR收购。其以制造薄膜沉积设备闻名,薄膜沉积工序是在硅晶圆上添加薄膜层,以便形成电路。
封面图片来源:拍信网......
芯屏高科技产业园开园,半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约(2023-12-04)
芯屏高科技产业园开园,半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约;近日,蓝科·新站芯屏高科技产业园开园,现场5个入园项目集中签约、3家投资基金签订战略合作。
现场,半导体刻蚀机用陶瓷材料、半导体薄膜沉积......
东华大学在透明导电薄膜材料方面取得进展(2022-10-24 10:36)
。未来,通过使用狭缝挤压涂布法等工业化兼容的薄膜沉积法,制备具有更大面积的逐层沉积的紫外光掺杂氧化锌薄膜或将助推有机光伏市场化进程。......
拓荆科技拟投资2.5亿元建设高端半导体设备产业化基地建设项目(2024-03-04)
科技已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等薄膜设备产品系列,广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。
拓荆科技表示,公司本次新建项目通过提升公司半导体薄膜沉积设备的产能,可以......
设备业繁荣期冲进世界前十,ASM的ALD和EPI有何特色?(2023-01-07)
设备(Atomic Layer Deposition, ALD)的高速增长。
原子层沉积技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积方法。通俗来说,可以将一层层亚纳米厚的薄膜......
普达特科技进军CVD设备领域 前期投入1.4亿元(2022-10-17)
的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备,公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。
普达特科技表示,热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中,在该过程采用的产品中,发挥......
北方华创携手睿科微赋能全球首颗嵌入式RRAM显示驱动芯片(2024-08-28 08:50)
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面,北方华创eVictor系列薄膜沉积系统,在同一平台上集成多类薄膜加工腔室,单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺,显著提高生产效率,改善......
1.8亿!四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
集成电路制造前道生产线的国产设备公司。据悉,2023年上半年,微导纳米通过原有的薄膜沉积类产品研发、推广和产业化的经验,成功推出了半导体集成电路薄膜沉积CVD产品,已在客户端验证。
盛美上海是一家半导体设备制造商,主要......
太阳能发电材料技术迎来突破 浙大成果登上《自然》(2023-07-05)
使得反应都沿着能量最低的方向进行。该取向成核机制为开发针对性的钙钛矿薄膜质量提升策略及其规模化沉积方案提供了一定的理论依据和技术探索。
研究团队基于此优化了钙钛矿薄膜沉积策略,在两步法和一步法沉积......
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW(2023-05-09)
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;
【导读】近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,)推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
北方华创携手睿科微赋能全球首颗嵌入式RRAM显示驱动芯片(2024-08-27)
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面,北方华创eVictor系列薄膜沉积系统,在同一平台上集成多类薄膜加工腔室,单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺,显著......
在爱旭、隆基的BC类电池生产线中,他的ALD占比保持领先(2024-01-03 09:29)
设备是前道工艺的核心设备。伴随国内本土半导体产业的发展和技术进步,这些设备在半导体设备国产化进程中扮演越来越重要的角色。目前,随着下游客户新增资本开支和设备产线迭代,国产薄膜沉积设备需求正迅速增加。
公司在保持ALD产品市场竞争力和占有率的......
半导体CVD设备国产化进行到哪步了?(2023-07-24)
半导体CVD设备国产化进行到哪步了?;近日,微导纳米发布官方消息,公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。
CVD设备需求提升
薄膜沉积分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积......
上海微系统所在300mm SOI晶圆制造技术方面实现突破(2023-10-20)
。团队基于集成电路材料全国重点实验室300 mm SOI研发平台,依次解决了300 mm RF-SOI晶圆所需的低氧高阻晶体制备、低应力高电阻率多晶硅薄膜沉积、非接触式平坦化等诸多核心技术难题,实现......
上海微系统所在300 mm SOI晶圆制造技术方面实现突破(2023-10-23)
晶圆。团队基于集成电路材料全国重点实验室300 mm SOI研发平台,依次解决了300 mm RF-SOI晶圆所需的低氧高阻晶体制备、低应力高电阻率多晶硅薄膜沉积、非接触式平坦化等诸多核心技术难题,实现......
工业大盘点的风吹到了半导体设备(2024-02-06)
MOCVD设备收入受到终端市场波动影响营收下降34.0%,2022年收入7亿元,约占总收入的14.77%,2023年则预计收入4.6亿元。
总体来看,中微公司也有往平台型企业发展的趋势。当前正从刻蚀设备拓展到薄膜沉积......
碳化硅,跨入高速轨道(2024-08-19)
指出,纳设智能成立于2018年10月,坐落于深圳市光明区留学人员创业园。公司主要从事第三代半导体碳化硅、新型光伏材料、纳米材料等先进材料领域所需的薄膜沉积设备等高端设备的研发、生产和销售。
6......
使用新一代高度可调的低介电薄膜来解决串扰、隔离等制造挑战(2023-08-04)
降低硅氧键的密度。即使对于在不同温度下沉积的薄膜,相比于薄膜中的碳密度或碳总量,交联碳的量才是影响刻蚀选择性的主要因素。此外,这些SiCO薄膜在稀氢氟酸和热磷酸等典型湿法化学物质中的湿法刻蚀速率为零,因此......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目, 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
备,包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等;拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积......
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW(2023-05-10)
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW;
近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,)推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW(2023-05-09)
中微公司扩充业务产品线,推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;中国上海,2023年5月9日—— 近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,)推出......
产品应用于国内晶圆厂14nm及以上制程产线 拓荆科技叩响科创板大门!(2021-07-13)
存储、FLASH闪存集成电路制造各技术节点产线SiO2、SiN、SiON、BPSG、TEOS等多种通用介质材料薄膜沉积工序,并具备向更先进技术节点拓展的延伸性。基于现有PECVD产品平台,拓荆......
上海交大无锡光子芯片研究院光子芯片中试线5月将全线贯通(2024-01-09)
迈入全新发展阶段。
2023年10月项目主体结构正式封顶,仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分,主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法......
盛美上海进军PECVD市场,首台PECVD设备将于几周内交付(2022-12-13)
化产能的同时,支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中,每个腔体都安装有多个加热卡盘,以优化工艺控制并提高产能。
封面图片来源:拍信网......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备,已导入客户端进行生产线核准(2023-05-11)
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备,已导入客户端进行生产线核准;近日,中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。
Preforma......
半导体不景气?不慌,先拿下那台设备(2022-07-11)
显发现大陆半导体厂的设备国产化率有所提高。
据悉,2022 年上半年大陆主要晶圆厂共开标765台工艺设备。按照不同工艺设备开标数量从高到低排列,前五名分别炉管设备(119台)、薄膜沉积设备(142台)、刻蚀设备(90台)、清洗设备(86台......
比亚迪再扩大投资版图,入股嘉芯半导体(2023-07-12)
。
据当时消息,嘉芯半导体将设立6个子公司,2个事业部,主要从事刻蚀机、快速热处理、薄膜沉积、单片清洗机、槽式清洗机、尾气处理、机械手臂等8寸和12寸半导体新设备开发生产及设备再制造等相关业务,产品......
理解电弧能的测量、对比和控制方法(2023-03-09)
理解电弧能的测量、对比和控制方法;随着薄膜产品对品质和性能指标要求的增加,现代等离子体薄膜沉积工艺必须考虑到电弧不可避免的影响,并将尽可能减轻电弧导致的损坏。对于大多数等离子体工艺而言,识别、测量和限制打弧发生期间传输到等离子体内的能量大小一直是需要考虑的最重要因素......
拓荆科技(上海)半导体先进工艺装备研发与产业化项目封顶(2024-04-29)
知识产权产品并实施产业化。
资料显示,拓荆科技(上海)有限公司成立于2020年12月,是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积......
2023年最新国产半导体设备厂商名录(2023-02-21)
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专......
ReRAM即将跨入3D时代(2017-07-04)
光电子能谱仪进行分析的结果(右)。(来源:MIPT)
虽然ALD的生长缓慢,但它能实现3D结构的共形涂层,取代MIPT和其他研究实验室迄今所使用的奈米薄膜沉积技术。其关键的区别在于ALD依次......
大基金持股26.48%,这家半导体设备厂商拟冲刺IPO(2021-02-20)
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业,专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。
该公司拥有12英寸PECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)、3D NAND PECVD(三维......
半导体专用设备商拓荆科技拟5亿设立全资子公司(2023-01-29)
)有限公司(以最终实际投资金额为准),主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动,从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。
拓荆科技(沈阳)有限公司经营范围包括技术服务、技术......
应用材料35亿美元收购国际电气接近终止(2021-03-23)
元授权的回购计划。
据了解,国际电气于2018年从日立国际电气独立,随后纳入了美国投资公司KKR集团旗下。国际电气以制造用于薄膜沉积的设备而闻名,该设备是在硅晶片上添加薄膜薄层以形成电路的工艺。2019年7月......
总投资约3.2亿元 合肥升滕半导体正式投产(2021-10-18)
、零部件翻新及新品制造的高新技术企业。该公司主要从事产线泵、通道连接件、气体分配件、阀门、运输腔管路、制程腔体等化学气相沉积工艺设备、离子薄膜沉积工艺设备、半导体蚀刻工艺设备的关键零部件的国产化。主要......
多家上市公司释放信号,半导体设备产业复苏态势已现?(2024-05-16)
体设备市场复苏态势逐渐凸显。
据悉,参加此次业绩说明会的厂商包括微导纳米、华兴源创、华峰测控、晶升股份、耐科装备、芯碁微装等十余家上市公司,覆盖清洗、薄膜沉积、测试等关键环节。
其中,耐科......
半导体设备,烽烟四起(2024-11-29)
显示,半导体设备是指用于制造、处理或测试半导体材料和器件的设备,分为前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试):在前道晶圆制造中,分为7大工艺,包括氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积......
北方华创:今年Q1同比预增75.77%-102.81%(2024-04-15)
业界变动,北方华创表示,公司主营业务发展良好,应用于集成电路领域的刻蚀、薄膜沉积、清洗和炉管等数十种核心工艺装备市场认可度持续提升,工艺覆盖度及市场占有率显著增长,产品销量同比大幅度增加。
同日,北方......
相关企业
的石英晶体膜厚控制仪,传感器。其主要产品有:SC系列石英晶片(5MHz,6MHz),S,D,B,R系列晶振传感头(单晶,双晶,6晶,可烘烤,可调节),TM-100,TM-350,TM-400薄膜沉积监测仪,MDC-360C
塑料加工行业木材加工行业卫生消毒巴式杀毒微波炉行业食品加工行业食品技术化学实验硫化工艺工业烘干草药/香料加工木材工业陶瓷烧结工艺溶济回收相片处理薄膜蒸镀(PVD/CVD)蚀刻技术等离子清洁ECR等离子处理反应性离子蚀刻技术下游等离子技术蚀刻工艺薄膜沉积
过程都在设备控制和模具中调试确定,其质量控制完全排除掉操作工人的影响因素,其整个生产过程中产品合格率可达99.99%以上,目前我公司现有客户成品率均在100%。此设备的优势在于底投入、底成本、高可
;天津兴阳商贸有限公司;;本公司是一家商贸公司,主要从事电解电容,和薄膜电容器以及慈片等的商贸公司,目前产品供货与三星,现代,四通等大型电子生产厂商.产品的性能与价格在全国有一定的影响力.
闭状态容器内部活动多余物的检测,此产品获得过科工委科学进步奖; (二)代理国际知名品牌的半导体材料制备和分析检测设备,例如: 超高真空薄膜沉积系统;分子束外延系统;脉冲激光沉积系统;感应
高品质的产品,先进的技术,过硬的质量和周到的技术服务,DE公司正在稳步向前发展。 十几年来,DE已成功地为国内近百家企业、高校实验室和科研院所提供了全球最先进的真空镀膜沉积设备和优质的技术服务。
覆砂造型机及造型生产线为公司主要技术工程师历时二十多年精心研发出的一种高新技术设备。在铸造生产中,已替代翻砂工艺和其他工艺,通过铁模覆砂,全部过程都在设备控制和模具中调试确定,其质量控制完全排除掉操作工人的影响因素
同时交通车辆行使时产生的噪声污染,对周围环境的影响也将日趋严重,尤其对沿线居民的生活环境干扰的时间长危害大,势必严重影响到人们正常的工作和生活。应采取必要的噪声防治措施来降低噪声对沿线居民的影响和危害,改善居民的生活环境。
;常熟市金羊天平仪器厂;;公司具有多年的产品开发和研发经验,2004年通过ISO9000认证,在同行业中有较好的影响
企业,监狱看守,仓库重地,别墅小区,动物圈养,贵重养殖,军事设施等所有须要重点保护的场地。 其特点: **高适应性和低误报率 系统不受环境和气候的影响,内置智能常见误报因素排除机制, 有效