资讯
英特尔首次采用EUV技术的Intel 4制程节点已大规模量产(2023-10-16)
（）技术大规模量产（HVM）Intel 4制程节点。本文引用地址：据悉，作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性能、能效和晶体管密度方面均实现了显著提升。极紫外光刻技术......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？;
11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV)
对于未来光刻技术......
韩国半导体厂商周星工程研发 ALD 新技术，降低 EUV 工艺步骤需求(2024-07-16)
研发出原子层沉积（ALD）技术，可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻（EUV）工艺步骤需求。
极紫外光刻（EUV）又称作超紫外线平版印刷术，是一种使用极紫外光波长的光刻技术，目前用于 7 纳米......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产,“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-12)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。本文引用地址：
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-11)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-13)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
制程升级压力，三大DRAM厂商EUV竞争白热化？(2022-05-27)
汽车DRAM。
今年2月，三星官方表示其基于极紫外（EUV）光刻技术的1z-nm工艺的DRAM已完成了量产。业界消息显示，三星还将继续为下一代DRAM增加EUV步骤，其三星的P3工厂......
英特尔宣布Intel 4已大规模量产，“四年五个制程节点”计划又进一步(2023-10-13 09:32)
模量产的如期实现，再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将其应用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计该制程技术......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元(2024-06-06)
机器每台成本为3.5亿欧元（约3.8亿美元），重量与两架空客A320飞机相当。ASML是全球唯一的极紫外线光刻技术制造商，其产品需求被视为该行业发展的晴雨表。
台积电曾对这款机器的价格表示了担忧。台积......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
康宁将获美国芯片法案3200万美元补贴(2024-11-11)
玻璃的极低热膨胀系数保证了在EUV环境下的高一致性。鉴于EUV光刻技术对精度和稳定性的极高要求，康宁的新玻璃能够承受高强度的极紫外光，从而显著提高芯片设计和制造的性能。
康宁公司最近在加州蒙特雷举办的SPIE光掩模技术......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。
众所周知，ASML是全球最大的光刻机设备厂商，2021年，ASML曾2次提高生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光......
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限(2024-08-02)
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限;据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
Intel 4工艺官宣大规模量产 第一次采用EUV极紫外光刻(2023-10-12)
Intel 4工艺官宣大规模量产 第一次采用EUV极紫外光刻;Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而......
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本(2024-08-05 09:20)
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本;据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
）、深紫外光刻技术（DUV）和极紫外光刻技术（EUV）不断向前延伸，其波长也从436nm、365nm、248nm，不断向193nm、13.5nm不断延伸。
每个制程技术节点用什么光刻技术，IEEE一直......
亚洲半导体的霸主：三星OR台积电？(2017-06-15)
（EUV光刻）」技术进行量产。极紫外光刻能大幅提高电路形成工序的效率，台积电技术长孙元成介绍说，（通过极紫外光刻技术）成本竞争力和性能都将超过原产品。
另一方面，分析认为三星计划最早在2018年开......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
的成本和物理极限的挑战限制了EUV光刻机的进一步发展，围绕光刻分辨率提升，光刻机走过了紫外光、深紫外光乃至如今的极紫外光技术路线，未来光刻机又将如何进一步提升，极紫外光势必不是光刻光源的终点所在。随着......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%(2023-05-19)
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们也需要为客户培训更多的维护及维修技术......
全球首发！紫光展锐6nm EUV工艺芯片年内量产(2020-06-18)
基于马卡鲁2.0平台，单芯片集成5G基带，采用了已量产最先进的6nm EUV工艺制造，拥有多层极紫外光刻技术加持，相比初代7nm晶体管密度提高18％，芯片功耗则可降低8％。
CPU方面，虎贲T7520......
台积电7nm样品已流片，三星加速追赶(2017-07-18)
始首次采用「极紫外光刻（EUV光刻）」技术进行量产。极紫外光刻能大幅提高电路形成工序的效率，台积电技术长孙元成介绍说，（通过极紫外光刻技术）成本竞争力和性能都将超过原产品。
另一方面，分析......
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶(2023-06-27)
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶;在三星电子尝试重构EUV光刻胶供应链的推动下，东进世美肯所研发的极紫外光刻胶，已在去年年底被用于他们的一条量产工艺线。而相关媒体最新的报道显示，所研发的极紫外光刻......
台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们(2024-06-06)
元)，重量相当于两架空中客车A320。ASML 是世界上唯一一家生产极紫外光刻技术的公司。
台积电此前宣布，其2nm节点进展顺利，并计划于2025下半年推出N3X、N2制，并将在2026下半......
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利(2022-11-25)
电路制造中，光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节，决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量，是集成电路制造的关键技术之一。随着半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外(extreme......
台积电今年将拿到最新款光刻机(2024-06-06)
尚不清楚最大的EUV客户台积电何时会收到设备。
据悉，这些机器每台造价3.5亿欧元（3.8亿美元），重量相当于两架空中客车A320。ASML 是世界上唯一一家生产极紫外光刻技术的公司。
台积电此前宣布，其......
ASML 回击质疑：High－NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-04 09:58)
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻技术......
接受了荷兰当地媒体 Bits&Chips 的采访。在采访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻......
ASML 回击质疑：High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-02)
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）仍是未来最经济的选择。本文引用地址：SemiAnalysis 之前刊发文章，认为......
中国商务部会见荷兰 ASML 全球总裁(2023-03-31)
Ultraviolet)和“极紫外光”(Extreme
Ultraviolet)，其中后者技术上更为先进，是一种波长较短的电磁辐射，可以比传统的光刻技术实现更高的分辨率和更复杂的芯片结构，但技术......
美光积极准备EUV技术，争取与三星及SK海力士竞争(2020-12-24)
美光积极准备EUV技术，争取与三星及SK海力士竞争;根据韩国媒体《Etnews》报导指出，目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光（Micron），因日......
商务部部长会见ASML全球总裁，都说了啥？(2023-03-29)
通过向中国出售产品并将收益进行再投资来保持领先地位。
但在这些事件发生了以后，谈践表示，中国别无选择，只能尝试制造类似的机器。
身为欧洲最大半导体生产设备制造商，ASML自2019年以来一直被限制向中国出售其最先进，对制造某些先进芯片至关重要的极紫外光刻......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
存储芯片制造商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。
与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而......
复旦团队发明晶圆级硅基二维互补叠层晶体管(2022-12-12)
复旦团队发明晶圆级硅基二维互补叠层晶体管;传统集成电路技术使用平面展开的电子型和空穴型晶体管形成互补结构，从而获得高性能计算能力。其密度的提高主要通过缩小单元晶体管的尺寸来实现。
例如7nm节点以下业界使用极紫外光刻技术......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
等于是经过历史层层筛选，最终胜出的技术，并从紫外光刻技术（UV）、深紫外光刻技术（DUV）和极紫外光刻技术（EUV）不断向前延伸，其波长也从436nm、365nm、248nm，不断向193nm、13.5nm不断延伸。除了光学光刻......
侧目！三星10/14nm推进到新一代LPU工艺：性能激进(2016-11-03)
称，7nm的进度也已经更新并展示了采用EUV极紫外光刻技术的晶圆。
责任编辑：mooreelite......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元(2023-09-08)
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。
NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。
ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
突破！复旦团队发明晶圆级硅基二维互补叠层晶体管(2022-12-12)
7nm节点以下业界使用极紫外光刻技术实现高精度尺寸微缩。极紫外光刻设备复杂，在现有技术节点下能够大幅提升集成密度的三维叠层互补晶体管(CFET) 技术价值凸显。然而，全硅基CFET的工艺复杂度高，且性......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于......
华为公布一项EUV光刻新专利(2022-11-25)
半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。
相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
尔正以强大执行力推进“四年五个制程节点”计划，并将用于新一代的领先产品，满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点，Intel 4与先前的节点相比，在性......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-17)
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机;ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻......
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元(2024-07-02)
机而造成成本负担便是原因之一。
此外，台积电也曾多次表示下一代EUV设备价格太贵。据悉，台积电高级副总裁张晓强今年5月在技术研讨会上评论ASML最新高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)时指出，“这个......
美光推出1β DDR5 DRAM：速度7200MT/s，每瓦性能提高33%(2023-10-11)
产品为16Gb LPDDR5X-8500。美光表示，这代1βDRAM将是美光最后一代采用DUV深紫外光刻机制造的内存芯片，之后将采用EUV极紫外光刻......
缩减2.1万亿韩元！三星下调半导体投资计划(2020-02-06)
须投资12.2万亿韩元。三星电子计划在显示器方面投资1.6万亿韩元，用以研发下一代战略产品——QD量子点显示器；另一方面，三星电子还计划在半导体晶圆方面投入9.9万亿韩元，通过引入极紫外（EUV）光刻技术......
从小作坊到垄断EUV光罩检测，这家日本公司靠什么做到的？(2023-01-09)
从小作坊到垄断EUV光罩检测，这家日本公司靠什么做到的？;
看似不起眼的“小公司“Lasertec，却是世界上唯一一家为极紫外光刻（EUV光刻）制造......
复旦大学周鹏、包文中、万景团队合作发明晶圆级硅基二维互补叠层晶体管(2022-12-13)
度的提高主要通过缩小单元晶体管的尺寸来实现。例如7nm节点以下业界使用极紫外光刻技术实现高精度尺寸微缩。极紫外光刻设备复杂，在现有技术节点下能够大幅提升集成密度的三维叠层互补晶体管(CFET) 技术价值凸显。然而，全硅基CFET的工......
韩国总统尹锡悦会见荷兰光刻机巨头ASML CEO温宁克，共讨半导体合作(2023-07-31)
元之间。
EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，目前各方都在争取机会，以通过高新技术帮助本土芯片制造。此前，据日经中文网消息，日本......
相关企业
），UVB（280~315nm）系列，UVC（100~280nm）系列，UVV（100~400nm）系列，另有内置放大电路紫外光电管，紫外光电探测模块, 封装形式有贴片SMD1608,ø3mm,ø5mm
;义乌市锐星照明电器厂;;锐星照明电器厂创建于2008年，从事生产制造冷阴极和热阴极，253.7紫外线杀菌灯管,UV紫外线杀菌灯管，254紫外线水杀菌灯管，同时也设计与生产冷阴极紫外
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;海宁市洁康紫外线电光源厂;;浙江海宁洁康紫外线电光源厂是一家专业生产紫外线杀菌灯的企业，主要生产冷、热阴极紫外线灯管，可制作相应的电子镇流器，专业为水处理、空调、冰箱、橱具，坐便器，空气
激光打标机、二氧化碳雕刻机、紫外光打标机），激光切割机（CO2切割、紫外光FPC切割机）及进口激光设备。最小激光光束可达0.005mm。广泛用于电子器材：手机壳、数码相机、电池、MP4/MP3的五
评为重合同守信用誉企业.公司配套先进的生产.检测设备和现代工业规模生产条件,具备从灯管的自动压封,灯管电真空,高频处理到技术装配的综合能力,公司已发展成为全国最大的紫外线杀菌灯生产基地之一. 公司专注产品过程中的技术
大等科研单位在深圳设有研发中心，长期致力于线路板用油墨、五金用油墨、玻璃用油墨、正性负性光刻胶、金盐等光电化学品的开发研制，不断满足行业发展的技术需求。 公司产品通过了ISO9001：2000版质量体系认证；公司
;义乌市欧立朗电子厂;;主要生产冷、热阴极紫外线灯管，可制作相应的电子镇流器，电感镇流器，专业为空调、冰箱、空气净化器、牙刷消毒器，灭蚊灯等家用电器提供杀菌灯管及配套整流线路。可承
;义乌市瑞星照明电子厂;;主要生产冷、热阴极紫外线灯管，可制作相应的电子镇流器，电感镇流器，专业为空调、冰箱、空气净化器、牙刷消毒器，灭蚊灯等家用电器提供杀菌灯管及配套整流线路。可承
1937年成立至今，在分析化学领域不断为用户提供着世界上最先进的仪器、技术与服务。 PERKINELMER公司生产多种化学分析仪器，包括：原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、等离子体质谱仪、傅立叶变换红外光