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最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。
而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机技术的研发......
中企被限制后，多个芯片巨头开始蠢蠢欲动(2022-12-22)
了全球中高端的大部分市场份额。EUV光刻机虽然限制出货给中企，但DUV光刻机基本来自ASML。
相比之下上海微电子差距还很大，ASML似乎也不用担心。然而，上海微电子一直在加速进行研发，先进DUV光刻机也正在攻坚，一旦......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企......
售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！(2024-06-12)
售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！;
芯片规则实施之后，台积电与中企的合作被中断，而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML，自然也成为了美国的主要针对对象，在签......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求(2022-08-23)
市场实力，尼康还将推出适应3D堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力。
佳能
研发3D技术光刻机、满足生产需求
无独有偶，另一大日本光刻机企业佳能也被报道在研发光刻机......
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶(2023-06-27)
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。
相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
反超开始！中国半导体已初现端倪！(2023-03-03)
连ASML都发出了警告称，中国能够制造出一切他们所需要的产品。
而在芯片制造后道，封装环节部分中企也同样取得了突破，不仅发布了自己的原生小芯片技术标准，还实现了4nm芯片的封测技术，并且推出的国产封装光刻机......
消息称美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备(2024-04-28)
三个盟国进一步收紧对华出口芯片相关技术和工具的限制。
消息人士表示，美国希望日本、韩国和荷兰更积极地利用现有的出口管制措施，包括禁止本国工程师为中国先进半导体工厂维修芯片制造设备。
在这之前，光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表......
汽车销量持续增长，促使中国MEMS传感器加快研发(2023-09-25)
汽车销量持续增长，促使中国MEMS传感器加快研发;
【导读】研究机构表示，随着中国汽车销量持续增长，以及汽车智能系统的发展，汽车制造商对MEMS微传感器的要求也在快速增加。这促使中国传感器制造商扩大研发......
美国牵头组建“三国同盟”围堵中国芯片，日荷两方最新回应来了！(2023-01-30)
中国无法获得这些机器，他们将自己开发。尽管这需要时间，但他们最终会达到目标。你越给他们压力，他们就越有可能加倍努力”。
言外之意，就是呼吁放宽DUV光刻设备的供应，减缓中国企业在光刻机设备领域的发展速度。只要中企......
光刻机关键原料氖气价格暴涨20倍 中企出手后：降下来了(2023-01-04)
光刻机关键原料氖气价格暴涨20倍 中企出手后：降下来了;芯片制造离不开，数据显示，全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是。本文引用地址：以光刻为例，需要的就包括氖气、氩气、氪气、氙气......
上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付(2021-03-08)
”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，就安排购买了ASML-1400光刻机等核心设 备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的 回复》中披......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付(2021-03-09)
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。
公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
芯片巨头们已着手研发下一代CFET技术(2023-10-09)
于国内自主发展新型集成电路技术具有重要意义。毕竟，在中企无法获得先进的 EUV 光刻机下，该技术给予了另一种可行性研究方向。如果一旦成功应用，那么将会绕过 EUV 光刻机的问题，制造出更先进的芯片。
以及......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机(2021-01-21)
公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响。
晶瑞股份在接受经济观察网咨询有关光刻胶的生产研发......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
还有很长的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。这需要SSMB EUV光源的持续科技攻关，也需要上下游产业链的配合，才能获得真正成功。
攻关......
信越化学停止供货，光刻胶再现缺货潮(2021-06-02)
胶还与IC制造工艺紧密结合，因此厂商要想研发光刻胶，首先就需要有一台光刻机。光刻机的价值之高想必大家都有所耳闻。在2021数博会上，中国工程院院士吴汉明公开表示，一台高端EUV光刻机价值1亿美元。根据......
上海新阳再购得一台二手光刻机！(2021-03-12)
胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
些?“功力”如何?
计算光刻通常包括光学邻近效应修正(OPC)、光源-掩膜协同优化技术(SMO)、多重图形技术(MPT)、反演光刻技术(ILT)等四大技术。据不完全统计,目前国内正在研发光......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16)
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16 14:34)
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
三星首次引进本土生产光刻胶！(2022-12-06)
本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发光刻胶，但它们还没有达到可靠性验证的水平。
光刻胶产业有着极高的行业壁垒。首先它对树脂和感光剂等原材料要求较高，并且制作技术壁垒高，在研发......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？(2017-04-05)
的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。
三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺；台积电今年已经加快......
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机(2022-03-28)
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机;3月26日，格科微官微宣布，目前公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，今年2月16......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。
光刻......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
，CNews称，莫斯科电子技术学院 (MIET）承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。
研发光刻机计划达到EUV级别，但技......
中芯国际间接助力，上海新阳上半年净利同比大增316.82%(2021-08-20)
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻胶研发......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统体积庞大，相关技术被欧美发达国家所垄断封锁，也成为半导体行业的"卡脖子"技术......
ASML：High NA EUV组装速度加快，英特尔已完成2套组装(2024-10-10)
户之间的时间和成本，有助于加快High NA EUV光刻机的发货和交货。
另外，英特尔院士兼曝光技术总监Mark Phillips也表示，英特尔已经在波特兰工厂完成了两套High NA EUV光刻系统的安装。同时......
不管你在哪里上班，请记住这个字！(2024-04-08 06:30:24)
精神”？
美国断供芯片，俄罗斯大炼自主「熊芯」决定从头开造光刻机......
Q2出货12台，光刻设备巨头预计全年出货55台EUV设备(2022-07-21)
和英特尔等全球半导体巨头。
据路透社报道，ASML正在着手研发价值4亿美元的新旗舰光刻机，并预计最早于2025年投入使用，2026年到2030年主力出货。
ASML在公告中披露，公司在EUV......
晶瑞电材子公司冲关新三板 持续发力光刻胶领域(2022-05-13)
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
斥资76亿元，荷兰企图复制一个ASML半导体“神话”(2022-04-18)
元（约合人民币76亿元），打造一个类似于ASML的下一个全球半导体巨头。
业界周知，ASML是全球最大半导体光刻机供应商，其生产的EUV光刻机，是台积电、英特尔、三星发展先进制程必备的设备，同时......
华为5g芯片何时到来 有何优势(2023-03-14)
货方面进一步被约束，EUV光刻机不能出货到外企中国分厂，DUV光刻机出货也更加严格了。
首先，华为是5G技术最先进的厂商，不仅最先推出5G双模芯片，麒麟9000芯片更是当时综合体验最好的5G Soc......
ASML加快拓展中国业务：支持7nm高端DUV光刻机可出口(2023-04-28)
ASML加快拓展中国业务：支持7nm高端DUV光刻机可出口;
4月28日消息，对于中国市场而言，正在全力以赴，预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元)，其正在加快......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
PPC-1
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50周年纪念标志
佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件(2022-11-29)
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。
光刻......
张汝京二投光罩厂；光刻机企业回应市场需求(2022-08-29)
张汝京二投光罩厂；光刻机企业回应市场需求;“芯”闻摘要
Q2原厂企业级SSD营收排名
30亿半导体项目落地嘉兴
光刻机企业回应市场需求
集成电路产业或再添“芯”平
至讯......
俄罗斯，搞定16nm芯片！(2024-12-01)
所有先进晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作，就连ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的设计师。
为了解决技术被“卡脖子”的问题，俄罗斯当时放下狠话，要自主研发光刻机，并计划在六年内突破芯片核心技术。那么，如今已经过去快三年了，其芯......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
光刻机在当前研发阶段遭遇了瓶颈，使得原本预计最快2023年问世的时程，传出可能将延后到2025-2026年才有可能问世，等于一举延后了近3年的时间，这也使得市场人士担心将影响到整体半导体制程的研发......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址： ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机......
ASML加大中国市场开拓：7nm高端DUV光刻机可出口(2023-04-18)
ASML加大中国市场开拓：7nm高端DUV光刻机可出口;
4月18日消息，据台系设备厂商透露，近期由于客户大砍资本支出、缩减订单，最重要是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作的项目，旨在加快新一代芯片的设计和制造。
据介绍，计算光刻技术主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
先进芯片的生产良率。
蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。
资料显示，蔡司是光学与光电解决方案开发商，也是光刻机大厂ASML EUV光刻机......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元(2022-05-23)
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元;据路透社报道，半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完成原型机，最早2025......
相关企业
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;苏州欣宇激光设备有限公司销售三部;;苏州欣力宇电子科技有限公司是专业从事数控设备研发、销售及加工应用服务的高新技术公司，专业供应国际技术领先的激光切割机、激光打标机、激光焊接机、激光裁床，模具治具雕刻机
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;深圳市天邦光电有限公司;;深圳市天邦光电有限公司是一家集研发，生产，销售于一体的民营高科技企业，专业从事LED封装.公司以市场为导向，加快研发与生产步伐，力求为顾客提供卓越的产品和优质的服务.拥有一支高素质的专业研发
;深圳市明信达光电有限公司销售部;;深圳市明信达光电有限公司是一家集研发，生产，销售于一体的民营高科技企业，专业从事大功率LED封装.公司以市场为导向，加快研发与生产步伐，力求
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;深圳市明信达光电有限公司;;深圳市明信达光电有限公司是一家集研发，生产，销售于一体的民营高科技企业，专业从事大功率LED封装与照明产业.公司以市场为导向，加快研发与生产步伐，力求