引言
中科院研发成功2nm光刻机,是全球范围内光刻机技术的一次重大突破。光刻机是制造芯片必不可少的设备,其技术水平的提升将极大地促进半导体产业的发展。本文将从光刻机的原理、2nm光刻机的技术优势、对半导体产业的影响等方面进行分析。
主题内容
1. 光刻机的原理
光刻机是一种利用光刻技术在芯片上制造微小图案的设备。它通过将光刻胶涂在芯片的暴露区域上,然后使用光束将光刻胶图案投影到芯片表面。光刻机的精度和速度对芯片制造的质量和效率有着至关重要的影响。
2. 2nm光刻机的技术优势
2nm光刻机是目前全球最先进的光刻机之一,其技术优势主要体现在以下几个方面:
(1)更高的光刻精度:2nm光刻机的光刻精度比传统光刻机更高,可以制造出更小、更精细的芯片。
(2)更快的制造速度:2nm光刻机的制造速度比传统光刻机更快,可以提高芯片制造的效率。
(3)更低的成本:2nm光刻机的制造成本比传统光刻机更低,可以降低芯片制造的成本。
3. 对半导体产业的影响
2nm光刻机的研发成功将对半导体产业产生深远的影响。首先,它将推动半导体产业的技术升级,使得制造出的芯片更加先进、高效、可靠。其次,它将促进芯片制造的成本降低,使得更多的企业可以参与到半导体产业中来。最后,它将加速半导体产业的创新和发展,推动整个行业的进步。
结论
中科院研发成功2nm光刻机,是全球范围内光刻机技术的一次重大突破。2nm光刻机的研发成功将对半导体产业产生深远的影响,推动芯片制造技术的升级,促进芯片制造成本的降低,加速半导体产业的创新和发展。
延伸阅读
资讯
信息发生变更,其中注册资本由1.2亿元增至2.02亿元,增幅68%,同时新增哈勃科技和徐州光远股权投资合伙企业(有限合伙)为股东。
△Source:企查查
工商信息显示,目前,科益虹源的大股东和实际控制人均为中科院研......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破;
来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。
近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功......
将在今年末将做好风险生产的准备,并在2025年末进入大批量生产。尽管台积电暂未披露相关设备采购计划,但无疑最新型的EUV光刻机是达成2nm制程的必要条件,而英特尔已率先入手ASML的首台High-NA EUV光刻机......
等国际品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。
芯源微表示,涂胶显影机在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中,主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂,运行部件多。研发......
胶单体材料的企业。
徐州广播电视传媒集团官微“无线徐州”曾报道,徐州博康实业集团有限公司一直专注于高端电子化学品的研发与生产,先后与中科院微电子所建立了校企联盟,与复旦大学、加拿......
的最新款EUV曝光机,以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系,获得ASML的最新一代光刻机的相关技术,并填补上述差距。
但是,另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
中国顶尖辩手,正反观点都有颠覆你原本价值观的冲击力。笔者一直在想,如果奇葩说来一次“国产超分辨力光刻机到底牛不牛”的辩题,那到底会是怎样的场景和结局.
辩题背景:中科院光电所超分辨光刻......
时间内投入1450亿欧元,来发展欧洲的处理器技术。而国内市场的芯片市场,也由于台积电的无法自由出货,走上了一条独立自主的道路。
为了帮助企业摆脱芯片领域“卡脖子”的局面,中科院等国内高校也就芯片制造技术的研发......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息,近日,华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域,入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。
6月2日,北京......
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS,后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界认为台积电此举可确保关键设备的技术开发,并满足2nm商用化的供应需求。针对2nm制程所用设备,台积......
突破瓶颈!中国团队研制出高性能单晶硅沟道3D NOR储存器;近日,据中科院官网消息,微电子所集成电路先导工艺研发中心研发团队研制出了一种高性能单晶硅沟道3D NOR储存器。
NOR闪存......
进入试产阶段
消息人士透露,台积电为应对2nm试产前置作业,内部也开始调度工程师人力到竹科研发厂区做准备,预计召集千人以上的研发部队,初期会先在竹科建立小量试产生产线,目标......
/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。
目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术,以满......
光学邻近校正软件的公司有:东方晶源、全芯智造、墨研计算、南京集成电路研究院等十多家公司。
作为一款复杂的工程软件,从研发成功到通过产线验证、再到量产应用有很长的路要走。我国计算光刻领域“玩家......
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS,后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称,台积电此举可确保关键设备的技术开发,并满足2nm商用化的供应需求。
三星在已量产第二代3nm......
如果要继续推进到2nm制程甚至更小的尺寸,就需要更高数值孔径(NA)的High-NA光刻机。
相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机,High-NA
EUV光刻机将数值孔径提升到0.55,可以......
资深副总裁米玉杰(YJ
Mii)在这场会议上宣布,台积电会在2024年拥有光刻机巨头ASML最先进、最新的高数值孔径极紫外光(high-NA
EUV)曝光机微影设备,即第二代EUV光刻机......
的利润可想而知,对比之下千万美元的DUV光刻机自然就微不足道了,这或许就是ASML突然导向美国的原因。
ASML此次研发的Hight-NA光刻机,已经实现了0.55数指孔径,可用于2nm及以......
一提的是,台积电于今年9月宣布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS,后者专注于研发和生产电子束光刻机,以确保关键设备的技术开发,并满足2nm商用化的供应需求。
三星
三星......
如果要继续推进到2nm制程甚至更小的尺寸,就需要更高数值孔径(NA)的High-NA光刻机。
相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机,High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55,可以......
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯,也在准备为下一代的极紫外光刻机,也就是高数值孔径的极紫外光刻机(high-NA EUV)研发光刻胶。
相关媒体在报道中表示,东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
未来的4000F、4200G、4X00。
该系列预计到2025年可以量产2nm,再往后就得加入多重曝光,预计到2027年能实现1.4nm的量产。
High NA光刻机升级到了0.55,对应产品EXE系列......
片晶圆的路线图。
英特尔希望在2nm领域拔得头筹
为了在先进制程技术上重回领先地位,英特尔已经率先斥巨资拿下了ASML的首批High-NA EUV光刻机,预计先在即量产的Intel 18A制程......
光刻机升级到了0.55,对应产品EXE系列,包括已有的5000、5200B,以及未来的5400、5600、5X00。
它们将从2nm以下工艺起步,Intel首发就是14A
1.4nm......
NA光刻机升级到了0.55,对应产品EXE系列,包括已有的5000、5200B,以及未来的5400、5600、5X00。
它们将从2nm以下工艺起步,Intel首发就是14A......
于下半年开始试产,2025年二季度小量生产。
英特尔方面,去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔,助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作,并且进展顺利。
今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源,并使光线到达抗蚀剂。业界表示,这是光刻机......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日,华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件,并已在相关企业实现成果转化和产业化,填补了国内空白。
光刻......
实现芯片技术自主可控自立自强,全国人大代表、中科院半导体研究所研究员吴远大和20多位中科院半导体所专家攻克了一道道技术难关,成功研发出了PLC光分路器芯片,现在一个芯片只需要10块钱左右,大大节省了宽带网络建设费用。
报道......
未来的4000F、4200G、4X00。
该系列预计到2025年可以量产2nm,再往后就得加入多重曝光,预计到2027年能实现1.4nm的量产。
High NA光刻机升级到了0.55,对应产品EXE系列......
国产飞机动力大突破:首款燃料电池飞机腾空;随着气候变化的加剧,新能源的探索研究不仅局限于汽车领域,飞机也成为此轮能源革命的重点领域。
中科院近日公布消息,我国自主研制的首架有人驾驶氢燃料电池试验机日前在沈阳试飞成功......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
7......
硅光芯片弯道超车
中国在光芯片方面取得快速进展,在于中国基础技术研发扎实,去年中国就已筹建全球第一条光子芯片生产线,在光子芯片方面的技术积累,让国内的芯片研发机构得以率先研发成功......
商用情况请以官方披露为准。
上周的Q4财报会议上,ASML公司确认将推出下一代的高NA EUV光刻机,NA值从0.33提升到0.55,进一步提高光刻分辨率,是制造2nm及以下工艺的关键设备。
Q4季度......
ASML新一代EUV光刻机,一台售价近27亿元;据路透社报道,半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元(约合人民币26.75亿元)的新旗舰光刻机,有望2023年上半年完成原型机,最早2025......
电的第二代7nm、5nm、3nm工艺的量产都是依赖于0.33数值孔径的EUV光刻机来进行生产。随着三星、台积电、英特尔3nm制程芯片的相继量产,目前这三大先进制程制造厂商都在积极投资2nm制程的研发......
万亿韩元在韩国建立新研发中心。该中心位于京畿道华城市ASML新园区前,将配备能够实施亚2nm工艺的先进高数值孔径EUV光刻设备,并将成为ASML和三星电子工程师使用EUV设备进行先进半导体研发......
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司,其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域,具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为,台积电收购IMS可确......
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。
先进制程竞争开战:光刻机“挺忙的”
在芯片制造中,先进制程技术是当前行业研发的重点,掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔,从三大厂的动态来看,先进制程研发......
Device Letters
据中科院介绍,微电子所研发团队使用研发的垂直晶体管新工艺制备出单晶硅沟道3D NOR三维阵列,其上下叠置的晶体管既具单晶硅沟道的高性能优势,又有......
先进世代,届时会全面导入 High NA EUV 技术,进一步改进制程技术的成本与效能。
报道还提到,台积电已完成量产用 ASML High NA EUV 光刻机的首阶段采购。
而在研发用机台方面,ASML......
能是因为美国向荷兰政府施压。
中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片,中科院曾公开表示,中国的光刻机......
Nanofabrication (以下简称“IMS”)10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司,其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域,具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界......
管现已在台积电实验室中进行性能、效率和密度测试,同时强调将p型和n型FET集成到单个器件中,CFET需要使用高数值孔径EUV光刻机来制造。随着台积电近日宣布在实验室做出CFET,三大芯片巨头之间的研发......
ASML已交付第三代EUV,用于制造2nm芯片!;
业内消息,最近(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值......
到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为,High-NA设备对2nm工艺至关重要。
据推测,High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元,是现有EUV光刻机......
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠,以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作,在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL)
的量产技术,可以不使用EUV光刻机,就能......
光刻机将芯片制造工艺推进至7nm,国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术,如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片,对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降。
ASML硬气......
台积电年底前获首套High-NAEUV,生产领先2nm两代制程;日经亚洲的报导,全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机......
相关企业
;广州龙芯中科电子有限公司;;芯中科技术有限公司成立于2008年3月,由我国首枚通用处理器“龙芯”处理器的研制单位中国科学院计算技术研究所发起并投资创立。 龙芯中科是龙芯产业化的核心公司,致力于龙芯研发成
;飞跃中科(台州)数控系统有限公司;;飞跃集团与中科院合作成立,致力于电控系统的研发与生产。
;中科院声学所海洋声学技术实验室;;中科院下属单位
加工设备、光电检测等高新技术领域。在光、机、电、计算机等综合产品方面具有雄厚的研发和生产实力。目前公司生产、经营的主要产品有ASOM系列手术显微镜等医用光电仪器、光电编码器、高精度光刻机、光学检测设备等。公司