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南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶......
目旨在通过自主研发，打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线，完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设，满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion光刻胶......
右表示，公司在ArF光刻胶方面，ArF、ArF-i光刻胶研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试，此外ArF浸没式光刻胶产品已有样品在测试阶段。 据悉，上海新阳主攻KrF......
收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。 据介绍，项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建......
的国产化自主可控的供应链。目前，徐州博康拥有ArF/KrF光刻胶单体、ArF/KrF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品，覆盖集成电路制造、后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等市场应用，研发储备全球80%的光刻胶......
首只国产ArF光刻胶通过验证！;12月17日，南大光电公告，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。 “ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁......
曝光波长的不同，光刻胶又可以分为g线、i 线、 KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别，其中g线、i线一般用于250nm以上工艺，KrF、ArF和EUV光刻胶属于高端光刻胶，KrF一般用于250nm......
发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前，光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。 根据曝光波长的不同，光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别，其中g线、i线一......
满足集成电路发展的需求，光刻胶通过缩短曝光波长、提高极限分辨率，来满足不断精进的光刻技术需求。 不同的光刻胶产品适用于不同的光刻机，从光刻机的发展历程来看，以光源的来区别大致有g线-i线-KrF-ArF......
体实施项目时，为满足项目建设所需采购的付款进度需要，优先使用了自有资金投入建设。本项目剩余资金缺口，公司将继续使用募集资金15,000.00万元满足其投资需求。 据悉，南大光电ArF光刻胶......
购买ASML光刻机，晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日，晶瑞电子材料股份有限公司（以下简称“晶瑞电材”）发布公告称，公司......
南大光电：ArF光刻胶产品再次通过客户认证;5月31日，南大光电发布公告，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波南大光电”）自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在......
南大光电ArF光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破;6月1日，江苏南大光电材料股份有限公司（以下简称“南大光电”）发布公告称，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波......
的量产。作为对比，我国光刻胶国产化率还较低。综合行业各方数据显示，KrF光刻胶整体国产化率不足5%，ArF光刻胶整体国产化率不足 1%。 我国光刻胶加速发展可以追溯到21世纪......
方面已经有了产品，但国内ArF光刻胶领域还是空白的，厂商们都不敢见他。但已经有一些人在“瞎炒货”了。不过，这一观点引起了方正证券首席电子分析师陈杭的强烈反对，还质问杨晓松“你算......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻......
需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多，包括EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶、I/G线光刻胶。 就现状看，业界指出，我国光刻胶国产化率较低，供应链依旧存在着较大的不稳定现象，G/I线国产化率为10......
权，超成科技持有芯刻微62%的股权，超成科技是上海新阳的控股股东新加坡新阳旗下全资子公司。 上述增资及股权转让完成后，未来芯刻微将仅进行ArF湿法光刻胶项目的研发，所有与ArF干法光刻胶......
因产品而异，约为10%-20%。 光刻胶是半导体制作的关键材料，能够利用光化学反应，经过曝光、 显影等光刻工艺， 将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多，包括EUV光刻胶、ArF......
彤程新材：光刻胶产品线取得新突破;4月30日，彤程新材宣布，ArF光刻胶已实现批量出货。这意味着，公司在光刻胶产品线上又取得了新突破。 资料显示，彤程新材主要从事新材料的研发、生产、销售......
南大光电国产高端光刻胶通过认证 用于50nm工艺; 4月10日消息，南大广电在互动平台表示，该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证，并少量销售。 南大光电表示，公司已有两款ArF......
南大光电：两款ArF光刻胶已进入批量验证阶段;近日，南大光电发布投资者关系活动记录表，透露旗下已有两款 ArF 光刻胶进入批量验证阶段。 南大光电表示，ArF光刻胶验证阶段主要分为PRS（光刻胶......
2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 据悉，晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶......
预计2024财年投产，住友化学将在韩国建厂生产ArF光刻胶;8月31日，日本住友化学在其官网宣布决定扩大其用于先进半导体工艺的光刻胶生产能力。 图片来源：住友化学官网截图 新闻......
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻......
进一步扩大市场占有率、KrF光刻胶的产业化实施、ArF光刻胶的研发等方面的投入力度。 晶瑞股份8月1日在投资者互动平台上表示，公司g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，KrF......
展现巨大增长潜力，中韩供应商力争本土化突破 随着对先进工艺需求的持续增长，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻胶也将持续增长。特别是，EUV 光刻胶有望大幅增长，这主......
指标方面数据已经获得了客户端的良好评价结果。此外，博康还有多个ArF immersion//KrF/i-line产品积极开发中，包含immersion NTD光刻胶，KrF高深宽比厚胶等。 此外，2021年末，徐州......
光光源波长来分，如今的半导体光刻胶可主要分为六大品类，分别为紫外全谱光（300～450nm波长）、g线（436nm波长）、i线（365nm波长）、KrF（248nm波长）、ArF（193nm波长）、以及......
2023年末完成建设，彤程新材投建ArF高端光刻胶项目;8月16日，彤程新材料集团股份有限公司 （以下简称“彤程新材“）发布公告称，拟加码光刻胶业务。 根据公告，彤程......
将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。 受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务 近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等高端光刻胶......
国产替代话题日渐受到关注。 国内主要光刻胶生产商包括南大光电、彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞电材、容大感光等。在这些厂商不断努力布局之下，光刻胶国产替代进程不断加快。 1、南大光电 南大光电建有ArF......
鼎龙股份：同意子公司增资扩股投建KrF/ArF光刻胶产业化项目;12月25日，鼎龙股份发布公告称，公司审议通过了《关于全资子公司实施增资扩股并与员工持股平台共同投资建设年产300吨KrF/ArF光刻胶......
后，i线光刻胶产品规模化向中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成等国内知名半导体企业供货。同时，为适应行业现状带来的发展机遇，瑞红苏州加大投入，KrF高端光刻胶部分品种已量产；ArF高端光刻胶......
打造国内最大的高端半导体DUV级别（ArF/KrF）的光刻胶核心主材料量产基地。产品包括光致产酸剂PAG、BARC层树脂Resin、光引发剂PI等，同时也提供每个最终产品的中间体及核心单体材料，规划建设年产能100吨，将于......
芯材（合肥）半导体有限公司是苏州威迈的全资子公司，位于新站高新区颍州路与龙子湖路交口，占地面积共50亩，总投资3亿元，旨在打造国内最大的高端半导体DUV级别（ArF/KrF）的光刻胶核心主材料量产基地。产品......
目位于颍州路与龙子湖路交口，占地面积共50亩，总投资3亿元，于今年3月开工建设，旨在打造国内最大的高端半导体DUV级别（ArF/KrF）的光刻胶核心主材料量产基地。产品包括光致产酸剂PAG、BARC层树......
计入新增注册资本，其余约1.16亿元计入资本公积。公司的持股比例由71.67%降至58.53%。 本月初，南大光电在互动平台上表示，公司旗下的ArF光刻胶产品拿到小批量订单，不过......
用于显影、刻蚀等工序的核心材料光刻胶为例：受益于市场需求旺盛，台积电、三星、英特尔、中芯国际、华虹宏力等晶圆厂积极扩产，对光刻胶的需求大增，尤其是KrF、ArF等高端光刻胶方面。 今年3月22日，央视财经频道对光刻胶......
”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，就安排购买了ASML-1400光刻机等核心设 备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的 回复》中披......
%。 此外，晶瑞股份在年报中表示，其于2020年下半年购买了ASML1900Gi型光刻机设备，正式启动ArF高端光刻胶研发工作，以研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶......
电材透露，公司子公司瑞红公司光刻胶品类齐全，拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，ArF光刻胶的研发工作有序开展中。目前公司半导体光刻胶......
需求量大增，尤其是在KrF、ArF等高端半导体光刻胶。 但受国产光刻胶企业技术限制，我国在高端光刻胶主要依靠进口。 据披露，今年2月份在日本福岛地震影响下，半导体光刻胶......
足国内微电子产业14nm制程的需求，成功填补国内空白、正在推进进口替代。 在光刻胶方面，目前晶瑞KrF已经进入了客户验证阶段，并且在今年1月采购了一台ASML XT 1900Gi光刻机用于研发ArF光刻胶......
技术已经进入EUV时代，台积电、英特尔和三星纷纷积极导入EUV技术，与之对应的是EUV光刻胶的需求上升，与ArF浸没式光刻相比，EUV光刻技术有很高的图形保真度和设计灵活性，所需的光掩模数量很少，显示......
背景 光刻胶作为微电子器件图形化加工的关键材料，被应用在泛半导体、印刷电路板等产业的生产制程中。 在半导体领域，8寸/12寸晶圆所使用的KrF/ArF光刻胶......
企业之一，公司已建成具有国际水平的高端光刻胶生产线和研发测试平台，是国内光刻胶厂商中唯一同时拥有紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF全系列光刻机测试实验平台的专业光刻胶......
内大部分相关厂商保持业务联系。 据悉，苏州瑞红拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g 线系列、i 线光刻胶系列、 KrF 光刻胶系列等数十个型号产品。ArF光刻胶的研发工作有序开展中；i线光刻胶......
生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。虽然KrF和ArF氟化物工艺的光刻胶在韩国已经大量生产，但没有能够绘制更精细电路的EUV光刻胶。这是因为开发非常困难，韩国国内使用的EUV光刻胶......
已实现LOCA、ODF等显示胶水和半导体光刻产品TARC的量产能力。 二期为半导体光刻胶项目，规划总投资6亿元，建成后将具备i-line、KrF、ArF光刻胶及包括BARC、TARC、FIRM等辅......

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