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首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶，计划2024年6月投产;据中电二公司消息，近日，江苏首芯半导体项目生产厂房主体结构封顶仪式举行。江苏首芯半导体薄膜沉积设备研发及生产项目位于无锡江阴高新区，为集半导体前道制程薄膜沉积高端设备......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等;5月29日，微导纳米发布公告称，公司拟向不特定对象发行可转换公司债券拟募集资金总额不超过11.7亿元，扣除发行费用后募集资金净额将用于半导体薄膜沉积设备......
芯屏高科技产业园开园，半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约;近日，蓝科·新站芯屏高科技产业园开园，现场5个入园项目集中签约、3家投资基金签订战略合作。 现场，半导体刻蚀机用陶瓷材料、半导体薄膜沉积设备......
装备公司。 消息介绍称，衍梓智能科技专注于半导体核心工艺——化学薄膜沉积设备制造生产，其核心产品VPE反应炉已实现自主可控。 据了解，该项......
科技已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等薄膜设备产品系列，广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。 拓荆科技表示，公司本次新建项目通过提升公司半导体薄膜沉积设备的产能，可以......
知识产权产品并实施产业化。 资料显示，拓荆科技（上海）有限公司成立于2020年12月，是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积设备......
传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;据电子时报报道，随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效，业内普遍想知道这将对中国半导体行业产生的影响。此次出口管制共计23品类半导体设备......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW; 【导读】近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。 该公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维......
）有限公司（以最终实际投资金额为准），主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。 拓荆科技（沈阳）有限公司经营范围包括技术服务、技术......
电子领域的ALD设备，以及年产40套半导体领域ALD设备的生产规模。 微导纳米表示，通过募投项目的实施，将有助于公司把握下游行业发展趋势，持续升级现有产品，提高公司薄膜沉积设备的生产能力和市场占有率，促进半导体......
握的核心技术平台基础上，公司紧贴客户需求，将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合，形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等半导体核心设备......
2022年下半年开始，嘉芯半导体多次中标客户特色工艺生产线，包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、深槽刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机；高密度等离子薄膜沉积设备（HDP-CVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW; 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;中国上海，2023年5月9日—— 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出......
原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程; 本文引用地址： 在半导体工艺中，薄膜沉积是在半导体原材料硅晶圆上分阶段生长薄膜的核心工艺。它在半导体电路之间起到区分、连接和保护作用。由于......
。 △Source：拓荆科技公告截图 资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备......
公开发行后总股本为12,647.8797万股。招商证券为其保荐机构。 拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备领军企业之一，也是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD. SACVD设备厂商。公司主要从事高端半导体专用设备......
收入较上年同期增长364.87%，主要原因为，受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长，公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售......
，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备......
制造的各阶段所需，在制造实力上，我国在刻蚀、清洗、薄膜沉积设备方面较为突出，尤其是我国的刻蚀设备，已经成长为我国最具优势的半导体设备领域，逐渐进入到成熟期。而在CMP、光刻、离子注入等设备上，我国......
公司。据悉，2023年上半年，微导纳米通过原有的薄膜沉积类产品研发、推广和产业化的经验，成功推出了半导体集成电路薄膜沉积CVD产品，已在客户端验证。 盛美上海是一家半导体设备制造商，主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备......
半导体CVD设备国产化进行到哪步了？;近日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。 CVD设备需求提升 薄膜沉积分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积......
上领先，盛美上海则在近年切入薄膜沉积赛道。 拓荆科技 拓荆科技前身为中科仪PECVD事业部，自其成立始便聚焦半导体薄膜沉积设备的研发生产，拥有PECVD、SACVD和ALD三大产品系列，行业......
，截至今日中午收盘，拓荆科技股价报收91.24元，总市值115.4亿元。 资料显示，拓荆科技成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备......
国产半导体设备实现关键突破！;公开消息显示，近期我国半导体设备在离子注入、刻蚀、薄膜沉积、第三代半导体等领域取得多番突破。国产设备大厂自2020年起至今年上半年，业绩实现了较大程度的增长。近几......
。 邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其是化合物半导体......
1999年就开始研制ALD设备。但由于ALD工艺对均匀度要求高，生长薄膜的速度较慢，所以成本很高，过去在半导体制造中被接受度不高。不过随着先进工艺发展对薄膜沉积质量、厚度和精度要求的提高，ALD需求......
KKR收购。其以制造薄膜沉积设备闻名，薄膜沉积工序是在硅晶圆上添加薄膜层，以便形成电路。 封面图片来源：拍信网......
在手订单同比增长244.32%。 二、主要交流问题及回复 1、目前半导体领域内的订单和趋势如何？ 在半导体制造过程中，ALD（原子层沉积）和CVD（化学气相沉积）等薄膜沉积设备是前道工艺的核心设备......
于荷兰的阿斯麦(ASML)、美国的应用材料公司和泛林集团。 该公司在多个关键设备领域占据市场领导地位，包括涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉和批量沉积设备，同时在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台等设备......
使用我们的方法，准备 n 沟道和 p 沟道晶体管并将其集成到一个基于柔性半导体的设备中应该很简单。” 这项工作成功地以一种廉价且易于复制的方式制备了基于聚合物的一维半导体薄膜。NAIST 研究人员的聚合物薄膜......
产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势，能够满足90%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升，不断收到领先客户的批量订单。 中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备......
产线机台验证效率较低。 厂商技术分散，未形成集聚效应：例如在薄膜沉积设备方面，中国有北方微电子、七星华创、中微半导体、拓荆、理想、中科院沈阳科学仪器研制中心等企业和研究所进行相关技术开发，表面上看，各企......
%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升，不断收到领先客户的批量订单。 中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备领域也不断突破，推出......
能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升，不断收到领先客户的批量订单。中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备领域也不断突破，推出了Preforma Uniflex®......
公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准;近日，中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。 Preforma......
电路高端装备产业化应用中心项目、补充流动资金。 微导纳米成立于2015年，公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备......
（全球领先的薄膜真空设备制造的供应商），拟建设半导体沉积及镀膜设备的国产化生产基地。项目产品包括：化合物半导体薄膜设备、MEMS薄膜设备、MDS薄膜生产线、精密光学薄膜设备、TCO镀膜设备、HIT玻璃镀膜设备......
立垂直一体化的高端滤波器晶圆厂和滤波器及射频前端模组封测产线，晶圆厂将全部生产基于新声半导体自有先进技术的滤波器产品，项目建成后将实现年产射频滤波器芯片36亿颗。 首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶 据中电二公司消息，近日，江苏首芯半导体......
（晶圆制造）和后道工艺设备（封装测试）两大类。 其中，前道工艺设备（晶圆制造）用于晶圆制造环节，设备产品包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、CMP设备等。 后道工艺设备（封装......
的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。 普达特科技表示，热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥......
制造的供应商），拟建设半导体沉积及镀膜设备的国产化生产基地。产品包括：化合物半导体薄膜设备、MEMS薄膜设备、MDS薄膜生产线、精密光学薄膜设备、TCO镀膜设备、HIT玻璃镀膜设备、平板显示阵列镀膜设备......
to Specialty Chip Makers）和薄膜沉积设备（Deposition Equipment）两个榜单中位列第一。 除在上述两个榜单中赢得客户的最高评价外，中微公司还荣获了以下四个奖项： 十大芯片制造设备......
晶体的成核和生长过程复杂，实现取向一致的有机半导体单晶阵列的图案化制备颇具挑战性。 近日，中国科学院化学研究所绿色印刷院重点实验室宋延林课题组提出了利用微观弯液面形变及沉积操控实现单一取向晶体薄膜......
以及更先进显示技术提供更为高效和经济的解决方案。不同于传统存储芯片，RRAM对芯片制造过程中的低温沉积、低损伤刻蚀等工艺提出了更严格的要求。作为国内领先的半导体设备供应商，北方华创提供了包含刻蚀、薄膜......
，在薄膜沉积设备方面，中国有北方微电子、七星华创、中微半导体、拓荆、理想、中科院沈阳科学仪器研制中心等企业和研究所进行相关技术开发。表面上看，各企业多点开花，实际情况则面临技术分散，大家......
数据看，大陆设备厂商在薄膜沉积、刻蚀、湿法清洗、涂胶显影等环节上占据优势。其中，在刻蚀设备上，北方华创和中微公司上半年合计中标60余台，远超泛林半导体与东京电子总和。根据中微公司创始人尹志尧预计，在刻蚀设备......
以及更先进显示技术提供更为高效和经济的解决方案。 不同于传统存储芯片，RRAM对芯片制造过程中的低温沉积、低损伤刻蚀等工艺提出了更严格的要求。作为国内领先的半导体设备供应商，北方华创提供了包含刻蚀、薄膜......

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闭状态容器内部活动多余物的检测，此产品获得过科工委科学进步奖； （二）代理国际知名品牌的半导体材料制备和分析检测设备，例如: 超高真空薄膜沉积系统;分子束外延系统；脉冲激光沉积系统；感应耦合等离子刻蚀设备
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东莞市东钰电子贸易有限公司
;东莞市东钰电子贸易有限公司;;东钰电子贸易有限公司成立与2009年8月21日，是一家专业从事半导体行业耗材销售的贸易型公司。公司主要面对客户为半导体切割代工厂、半导体封装厂。经营半导体