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回顾步进式光刻机概念的诞生：一个关于直觉的传奇故事;......
纳加工、量子光源、生物监测等领域大放光彩。 据悉，集成化、微型化、多功能化是未来激光器的发展方向，但传统光学晶体很难在有限厚度内高效产出激光，因此......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系，当这些子光......
半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干光经照明系统分割成的多个子光......
一代激光技术奠定理论和材料基础。 据了解，光学晶体可以实现频率转换、参量放大、信号调制等功能，是激光技术的“心脏”。而激光技术是我们当前科技文明的基石，在微纳加工、量子光源、生物监测等领域大放光彩。 虽然......
量子技术发展重要里程碑：科学家成功控制“量子光”;澳大利亚悉尼大学和瑞士巴塞尔大学的科学家首次展示了识别和操纵少量相互作用的光子（光能包）的能力，这些光子具有高度相关性。这一史无前例的成就是量子......
几年高NA EUV光刻机应用后，掩膜制作的计算数据量将提升10倍以上，目前cuLitho软件加速库已经支持高NA EUV光刻可能用到的曲线掩膜、亚原子光致抗蚀剂掩膜等制造。 ......
、NPO、LPO、LRO等各类光模块产品中，预计近期可以实现高端硅光芯片的批量商用。 中国团队研制出全球首个氮化镓量子光源芯片 据“上海嘉定”4月底介绍，电子科技大学信息与量子实验室、清华......
突破了纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要原因可能就是上海微电子光......
科学家通过两个量子光源首次实现量子力学纠缠;丹麦和德国科学家在最新一期《科学》杂志上发表论文指出，他们携手解决了一个困扰量子科学家多年的问题——在两块纳米芯片上，首次同时控制两个量子光源，并让其实现量子......
纠缠量子光源在芯片上集成，有望成为可编程光量子处理器基本组件;德国和荷兰科学家组成的国际科研团队首次将能发射纠缠光子的量子光源完全集成在一块芯片上，将量子光源的尺寸缩小到目前设备的1/1000以下......
世界首个！我国团队研制出氮化镓量子光源芯片;4 月 18 日消息，综合电子科技大学新闻网、《四川日报》报道，电子科技大学信息与量子实验室研究团队与清华大学、中国......
科学家通过两个量子光源首次实现量子力学纠缠;丹麦和德国科学家在最新一期《科学》杂志上发表论文指出，他们携手解决了一个困扰量子科学家多年的问题——在两块纳米芯片上，首次同时控制两个，并让其实现。最新进展对量子......
尺寸缩小到1/1000以下，纠缠量子光源在芯片上集成;德国和荷兰科学家组成的国际科研团队首次将能发射纠缠光子的量子光源完全集成在一块芯片上，将量子光源的尺寸缩小到目前设备的1/1000以下，实现......
国际首次，中国芯片再突破！;据四川日报报道，成都电子科技大学信息与量子实验室研究团队与清华大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所合作，在国际上首次研制出氮化镓量子光源芯片，这是电子科技大学“银杏......
可能实现有机芯片与硅基芯片的功能集成，进一步拓展硅基芯片的应用。 新型光刻胶成膜树脂 化学放大光刻胶是目前集成电路制造应用最广泛的光刻材料。通过构建光酸催化的酸解反应，光刻胶的灵敏度可以实现数量级的提升，弥补了光刻机......
多个芯片概念股涨停！涉及第三代半导体等领域;2月23日上午，媒体报道当日芯片板块强势拉升，芯源微、北方华创、安集科技、江丰电子等多个半导体概念股涨停，涉及半导体设备、第三......
久日新材：年产600吨微电子光刻胶专用光敏剂项目投产;5月31日，天津久日新材料股份有限公司（以下简称“久日新材”）发布公告称，公司控股子公司大晶信息化学品（徐州）有限公司（以下简称“大晶......
)。 据悉，eleQtron 最初是德国国立锡根大学量子光学系的一个研究小组，2020 年成立为一家公司，致力于使量子计算机可用于现实世界的应用，旨在提供具有国际竞争力的量子处理单元(QPU......
EUV光刻机系统的单台造价将在25亿元(单台造价在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元)。 这个价格什么概念，资料显示重型航母(排水量60000吨以上)航母造价是35......
出口管理条例）设定的最低含量标准主要有四类：（1）不设最低含量标准的物项，以高性能计算机为代表；（2）特定加密物项；（3）10%最低含量；（4）25%最低含量。 以芯片制造核心设备光刻机为例，据《国际......
国际首次 中国成功研制出氮化镓量子光源芯片;《科技日报》19日报导，电子科技大学信息与量子实验室透露，该实验室研究团队近日与北京清华大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所合作，在国......
了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片，并有望进一步推动摩尔定律的发展。 据了解，这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值（NA），能够......
装置中，相干光源 1 发出的光线经旋转的反射镜 2 的反射后，通过照明系统 3 分割为多个子光束并投射至掩膜版 4 上，以进行光刻。 在光刻装置中，上述照明系统 3 作为重要组成部分，其主......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
元（约合人民币76亿元），打造一个类似于ASML的下一个全球半导体巨头。 业界周知，ASML是全球最大半导体光刻机供应商，其生产的EUV光刻机，是台积电、英特尔、三星发展先进制程必备的设备，同时......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
芯片生产线上投入使用。 安徽省量子计算工程研究中心副主任贾志龙博士介绍，就像光刻机是传统芯片制造的工业母机，这台仪器也是量子芯片的工业母机之一，是生产量子芯片的必要工具，可以大大缩短量子......
精雕JDMR600数控机床、施耐德DNF7型铠装移开式开关柜、上海微电子光刻机等展品建模85个,视频及灯箱热点600余项。现已有华为、维特根、精雕集团等15家企业与廊坊市达成项目合作。 华为......
目前看来硅光芯片也许在未来一段时间内不会全面代替传统的芯片，但是在领域，很可能是未来的主流产品类型。特别是对于我国来说，在先进制程的芯片制造领域频频被西方世界“卡脖子”的情况下，芯片很有可能是绕过光刻机，实现换道超车的“出路”之一。本文......
2024年10月30日电子元器件概念股消息：共有37只个股实现连涨; 根据南方财富网概念查询工具数据统计，截止2024年10月30日收盘，电子元器件概念股共有37只个股实现连涨。其中......
之前的首次投入应用做好准备。”     eleQtron的目标是提供具有国际竞争力的量子处理单元(QPU)，并使用有前景的MAGIC技术提供高计算能力。“磁梯度感应耦合”或MAGIC概念允许使用射频技术而不是激光来控制量子比特，从而在相邻量子......
到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为，High-NA设备对2nm工艺至关重要。 据推测，High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元，是现有EUV光刻机......
随着计算和信息处理设备体积越来越小、功能越来越强大，它们正在遭遇量子物理定律强加的一些基本限制，该领域的未来发展前景可能与光子学密切相关，光子学是与电子学平行的光学基础概念，光子学在理论上与电子学相似，但使用光子代替电子，光子......
麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch......
限制 DUV，ASML 出口新规或将于近日实施！; 业内消息，荷兰政府的半导体新规预计最快会在下周开始实施，届时 的 DUV 光刻机将被限制出口。 2023 年 3 月，荷兰......
开盘跌幅8.73%，深成指下跌9.13%，创业板指下跌8.23%。逾3000个股开盘跌停。 相关板块方面，电子和半导体产业链的概念股受到冲击，半导体及元件板块指数超跌10%，相关个股开盘全部跌停；另外......
终端研发制造基地，涵盖研发测试、生产制造、成品检测、仓储配套等，形成完整的北斗装备智能制造及应用服务链。 光刻机在半导体芯片制造中扮演着至关重要的角色，决定了芯片制程、性能和成本。光刻机......
进的下一代 EUV 光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML 的下一代 EUV 光刻机试验型号最快明年出货，2025 年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种 EUV 光刻机的售价将达到 4......
氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。此前，ASML 最先进的极紫外光（EUV）光刻机已在出口管制列表当中。知情人士表示，这项出口管制规定，最早可能在6月30日或7月第一周公布，也能......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......
下一代光刻机，万事俱备了吗？;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产；动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣，这要归功于 ASML......
迫于美国限制禁令的压力限制了与半导体有关的先进技术，荷兰政府的该项法令导致 ASML 不得不申请出口许可才能被允许出口自己的先进光刻机系统。 DUV 和 EUV 都被用于半导体芯片制造中的光刻技术，分别代表“深紫外光”(Deep......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
，他的学生中却出现了至少2个菲尔兹奖得主。他提出量子计算机概念的时间，比理论物理学家、诺贝尔物理学奖得主费曼早了整整一年。他对数学领域究竟产生了怎样的影响，又何以成为数学天才们的“启蒙者”?“解决......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......

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