资讯
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用(2021-01-08)
、LED、OLED、3D-IC TSV、PV等领域，产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备，可用于8/12英寸单晶圆处理及6英寸及以下单晶圆处理。
目前，芯源微的主要客户包括中芯国际、华力......
芯源微拟定增募资10亿元 用于半导体设备扩产升级(2021-06-15)
公司产业扩张需求等。
公告指出，公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻 蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理（如集......
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化(2021-03-11)
国产化势在必行
据悉，涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一，也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为晶圆加工环节的重要工艺设备......
众鸿半导体项目签约上海临港产业区(2021-03-11)
众鸿半导体项目签约上海临港产业区;上海临港产业区消息显示，3月10日，众鸿半导体项目签约仪式在临港产业区举办，该项目正式签约入驻临港产业区。
众鸿半导体项目主要进行光刻工艺的主设备——涂胶显影设备......
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科(2022-06-14)
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科;6月11日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司（以下简称“芯源微”）宣布，公司12寸KrF涂胶显影设备已于10日入驻厦门士兰集科。搬入仪式完成后，公司......
这家A股厂商实现重要突破，国内半导体设备领域佳音频传(2023-05-22)
年7月投入试生产；其位于上海临港的生产和研发基地预计2023年将部分投入使用
此外，芯米半导体首台自研自创幻影12英寸光刻工艺涂胶显影设备XM300已成功交付国内一线客户；北京烁科中科信碳化硅离子注入机顺利交付等都为半导体设备......
盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付(2022-11-18)
满足客户特定需求。该设备功能多样，能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）。涂胶显影Track设备将支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。
涂胶显影Track设备支持光刻工......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
芯源微企业发展有限公司成立于2021年，是芯源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源微临港研发及产业化”项目......
总投资10亿元 思普尔科技项目落户扬州高新区(2021-03-24)
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。
图片来源：扬州高新区
项目分三期实施，一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线，主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影设备和等离子刻蚀设备......
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机(2022-12-29)
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机;近日，盛美上海宣布首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影......
工业大盘点的风吹到了半导体设备(2024-02-06)
台市场推进。
（四）涂胶显影设备、薄膜沉积设备
涂胶显影
涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤及显影设备，全球涂胶显影设备行业集中度较高，日本东京电子（TEL）、Screen（迪恩士）占据......
“一枝独秀”，国内半导体设备领域佳音频传(2023-04-23)
储备的产品目前正处于研发、认证以及拓展的过程中。
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芯米半导体：首台幻影12英寸光刻工艺涂胶显影设备XM300交付客户
4月8日，芯米（厦门）半导体设备有限公司（以下简称“芯米半导体”）首台......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目， 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
国产化率有明显提高趋势。在中标厂商中，北方华创、中微公司、屹唐、芯源微电子、上海精测、盛美上海等占比较大。分设备看，干法去胶设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入机、抛光设备、涂胶显影设备......
7亿，工业杀菌剂龙头再次加码半导体(2024-10-17)
化学是一家来自大连的化工企业，主要从事异噻唑啉酮类工业杀菌剂的生产、研发和销售。2017年上市。芯慧联则是一家成立于2019年的半导体设备公司，主要产品包括涂胶显影机、光刻机、湿法清洗设备、半导体产线用自动化设备等。
百傲......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影......
半导体设备高光时刻来临，景气度有望拉满第三年(2022-10-08)
旬推出了新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备，业界对此较为关注。
而在涂胶显影设备上，芯源微是国内主要供应商，该公司前道涂胶显影设备在28nm及以......
多家A股厂商订单量大增，国产半导体设备进入成长期(2023-04-12)
新增订单18.00亿元，同比增长60.71%。
据介绍，2022年，至纯科技研发拓展炉管和涂胶显影设备。其8英寸炉管设备已有数台订单，12英寸炉管设备正在研发制造，即将......
三星旗下Semes成功开发出一种ArF-i光刻涂胶/显影设备(2024-06-26)
三星旗下Semes成功开发出一种ArF-i光刻涂胶/显影设备;6月24日，三星电子旗下的韩国半导体和显示器制造设备公司表示，第一台名为“Omega Prime”的设备已于去年供货，Semes正在制造第二台设备......
盛美半导体设备研发与制造中心试生产(2024-08-19)
、制造、销售于一体，提供高端半导体设备，主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。
封面图片来源：拍信网......
国产半导体设备，又“爆单”(2024-09-05)
为主导。近年来，上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高，虽在光刻机、量测检测设备、离子注入机和涂胶显影设备......
半导体下游行业设备需求增加，盛美上海Q1净利润同比增长2937.19%(2023-04-28)
户拓展、新市场开发取得显著成效、新产品得到客户认可，订单量持续增长，公司营收保持高增长。
盛美上海主要从事单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影设备和等离子体增强化学气相沉积设备......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
机、光源、光刻胶等关键设备和材料的跟进。
半导体光刻工艺需要经历硅片表面脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影检查等工序。而在光刻过程中，光刻......
盛美上海进军PECVD市场，首台PECVD设备将于几周内交付(2022-12-13)
着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加，因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。”王坚预测，这次推出的PECVD设备，及上个月发布的前道涂胶显影设备......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。
除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
5家碳化硅相关厂商公布最新业绩(2024-10-28)
%。
芯源微目前已形成了前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块，产品已覆盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个领域。
其中，芯源微生产的化合物等小尺寸设备......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测(2023-04-12)
胶研发与应用测试平台，其中主要测试设备包括光刻机、涂胶显影一体机、扫描电子显微镜、膜厚仪、台阶仪、液体颗粒仪、痕量金属杂质测试仪器、色谱仪、紫外-可见分光仪、水分仪、粘度计、固含测试仪器等。
容大......
盛美半导体用于晶圆级封装的湿法去胶设备获IDM大厂重复订单(2021-11-08)
半导体的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两......
盛美上海：预计2023年全年营业收入36.5亿元-42.5亿元(2023-01-04)
了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在未来几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利......
盛美半导体：收到美国客户和研发中心的晶圆级封装设备订单(2024-09-05)
、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。
值得一提的是，此前8月16日，盛美上海于临港举行“盛美半导体设备研发与制造中心试生产仪式” 。该中心共有5个单体，包含两座研发楼、两座......
总投资20亿元,嘉兴斯达项目即将投产(2024-03-07)
研发及产业化项目建设地点位于嘉兴南湖区，总投资20亿元，总用地面积279亩，新增建筑面积20.6万平方米，新建生产厂房、动力楼、危化仓库等建构筑物，购置包括光刻机、涂胶显影机等工艺设备。建设单位为嘉兴斯达微电子有限公司，建设......
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关键量测设备......
半导体不景气？不慌，先拿下那台设备(2022-07-11)
（81台）、刻蚀设备（70台）、薄膜沉积设备（47台）、炉管（45台）、涂胶显影设备（35台）。中标较多的前五名大陆厂商为北方华创、中微公司、拓荆科技、芯源微、盛美上海。
综合......
富创精密成功登上科创板 募资总额为36.58亿元(2022-10-11)
全球为数不多的可以量产应用于7nm工艺制程半导体设备的精密零部件制造商。
产品方面，富创精密主要产品应用于半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节，部分......
半导体后端工艺｜第七篇：晶圆级封装工艺(2024-06-03)
过刻蚀扩散层来形成金属线路。
图3：摄影与光刻的对比
为更加清楚地了解光刻工艺，不妨将其与摄影技术进行比较。如图3所示，摄影以太阳光作为光源来捕捉拍摄对象，对象可以是物体、地标或人物。而光刻则需要特定光源将掩模上的图案转移到曝光设备......
75亿，年产48万片SiC！芯粤能碳化硅项目通过审查(2023-01-17)
调度厂房、研发厂房、综合动力站、综合仓库、硅烷站、化学品库、废水处理站、危险品库、大宗气站等，主要设备包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、烘箱、高温氧化炉管、高温激活炉管、清洗机、冷水机组、纯水制备系统、燃气......
客户涵盖ASML/中微公司等厂商，富创精密科创板IPO首发过会(2022-05-06)
精密专注于金属材料零部件精密制造技术，掌握了可满足严苛标准的精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接、组装、检测等多种制造工艺，主要产品应用于半导体设备领域，覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影......
盛美上海推出全新升级版先进封装用涂胶设备(2022-05-27)
，可执行晶圆级封装光刻工艺的关键步骤，如光刻胶和Polyimide涂布、软烤；可利用创新性方法和精准的涂胶控制，实现精确的阻挡边缘清除效果。
涂胶......
1.8亿！四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。目前公司研发的SAPS、TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术，可应用于45nm及以......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产(2022-12-15)
度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序......
今日起，日本半导体出口管制正式生效！(2023-07-24)
将对象限定在尖端半导体相关领域，因此“影响有限”。
据了解，日本此次实施的“禁令”主要涉及六大类23种高性能半导体制造设备出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影......
日本宣布限制23种半导体设备出口：7月23日正式生效！(2023-05-24)
出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备
2、刻蚀（3项）：包含湿法/干法/各向异性的高端刻蚀
3、薄膜（11项......
打造新兴产业“联合舰队”，沈阳集成电路装备产业驶入快车道(2022-05-24)
产业的三大重点地区之一，在近20年来，沈阳推动产业自主发展，集聚和培育出了一批优势骨干企业，在薄膜沉积、涂胶显影、湿法刻蚀、清洗机等整机装备和罗茨干泵、真空......
斯达半导揭晓募资35亿元定增结果！(2021-11-16)
机、涂胶显影机、铝刻蚀机、高温注入机等设备，开展SiC芯片的研发和产业化。项目达产后，预计将形成年产6万片6英寸SiC芯片生产能力。该项目实施主体为公司全资子公司嘉兴斯达微电子有限公司。
功率......
这一半导体设备项目，百亿产能即将释放！(2024-10-25)
目共有5个单体，包含两座研发楼、两座厂房和一座辅助厂房，总建筑面积13.8万平方米。其中厂房面积4万平方米，共有两座厂房A和B。据悉，盛美临港项目是盛美清洗、电镀、先进封装湿法、立式炉管、涂胶显影......
2023年最新国产半导体设备厂商名录(2023-02-21)
在刻蚀、薄膜沉积、清洗、涂胶显影等大部分都可以进行替代。特别是检测设备替代速度较快。去胶设备国产采用率已达91%
尽管国内半导体设备基本摆脱完全受制于人的局面，但国内设备厂商目前仍然只是“点”的突破，尚未......
积塔半导体临港厂区3月份生产超目标完成，维持98%以上产能正常运转(2022-04-22)
金属等离子刻蚀机、多晶硅刻蚀机、ArF 匀胶显影机、KrF 匀胶显影机、PCM 探针台、背面金属溅射设备等。
值得一提的是，积塔半导体在此前的产线建设过程中，与多家国产半导体设备......
泰晶科技车规级产品和光刻工艺技术今年获新进展(2022-03-21)
及市场结构，强化品质管控以及生态供应体制。
在基于半导体光刻工艺的微型晶体谐振器方面，泰晶科技除引进先进的生产配套设备外，自主研发了激光调频机、自动涂胶机、自动周波测试机、wafer测试......
盛美上海推出新型化合物半导体系列设备加强湿法工艺产品线(2022-01-27)
) 和碳化硅 (SiC) 等工艺。化合物半导体湿法工艺产品线包括涂胶设备、显影设备、光阻去胶设备、湿法蚀刻设备、清洗设备和金属电镀设备，并自动兼容平边或缺口晶圆。
盛美上海董事长王晖表示，随着......
东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备(2021-06-11)
竞争优势性。
在共同研究方面，将把ASML的新一代EUV光刻设备和东京电子的涂布显影设备组合为一体，提高半导体的生产效率。东京电子最早将于2022年上半年提供自己的设备，组合起来的设备......
相关企业
及菲律宾等地区。 主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
;肥城市福临桃木工艺品厂业务五部;;山东肥城福临桃木工艺品精选肥城优质桃木，自行研制《福到家》牌桃木雕刻工艺品,经过手工八十三道工序加工而成，工艺品全部由手工雕刻完成，雕刻工
;未来电影设备（香港）有限公司;;3D设备及3D眼镜
;张建志;;高科技电视、电影设备生产
;广州市飞立洋贸易有限公司;;投影设备批发
;广西南方爱联计算机信息有限公司;;投影设备、音响设备、家庭影院、影音工程设备
;合肥中讯科技发展责任有限公司;;代理各种投影设备
;烟台雷泰涂胶技术公司;;涂胶技术与生产设备
机，底片贴膜机，钢板表面清洁机、钢板板面清洁机；无尘室耗材系列无尘纸、无尘布、粘尘垫、粘尘轮、防静电衣、防静电手套PCB,FPC、LCD制程工业、SMT、精密钢板蚀刻工业印刷和金属蚀刻图形转移设备
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司