资讯
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
南大光电光刻胶项目延期;南大光电近日发表公告称，公司募投项目“光刻胶项目”受到多重因素影响，计划将建设完成期限由原计划2021年12月31日延长至2022年12月31日。公司......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破;
光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
AI机器人核心技术：机器视觉和工业相机(2024-08-02)
激光、奥普光电等。
奥普特：产品包括光源、光源控制器、镜头、相机、视觉控制系统等机器视觉核心部件。
3.2工业镜头
镜头相当于人眼的晶状体，是机器视觉采集和传递被摄物体信息过程的起点，所使......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）(2021-03-23)
化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。
国产光刻胶新突破！
另外，值得肯定的是，国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例，该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求(2022-08-23)
市场实力，尼康还将推出适应3D堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力。
佳能
研发3D技术光刻机、满足生产需求
无独有偶，另一大日本光刻机企业佳能也被报道在研发光刻机新......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
重回市场的策略之一，尼康表示将于2024年夏季推出采用成熟技术的光刻机新产品。使用了1990年代初实用化、被称为“i线”的老一代光源技术。着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点。市场观点人文，尼康......
100亿元！这个科创母基金启动受理(2024-07-25)
集成晶圆在九峰山实验室下线。此项成果使用8寸SOI硅光晶圆键合8寸铌酸锂晶圆，单片集成光电收发功能，为目前全球硅基化合物光电集成最先进技术。
光模块作为新一代移动通信技术（F5G/6G）的硬件底座，是实现光信号传输过程中光电转换和电光转换功能的光电......
光刻领域新突破！我国研发出全球最薄光学晶体：能效提升万倍！(2024-04-27)
光刻领域新突破！我国研发出全球最薄光学晶体：能效提升万倍！;
近日，2024中关村论坛年会发布了10项重大科技成果名单，分别是《中关村世界领先科技园区建设方案（2024-2027年）》、全模拟光电......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机(2022-04-01)
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日，据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品
通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产
佳能将于2023年1......
ASML摊牌了：可远程瘫痪台积电光刻机(2024-05-22)
ASML摊牌了：可远程瘫痪台积电光刻机;“阿斯麦和台积电有能力瘫痪制造芯片的机器。”昨日，外媒一篇报道中，阿斯麦（ASML）向荷兰官员保证，可以远程瘫痪（remotely disable）相应......
ASML 回击质疑：High－NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-04 09:58)
间点有不同评估是很自然的，不过 AMSL 每季度都获得了数个 High-NA EUV 光刻机新订单。......
。
Dassen 表示，不同客户对于引入 High-NA 的时间点有不同评估是很自然的，不过 AMSL 每季度都获得了数个 High-NA EUV 光刻机新订单。
......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
人和日本人并不急于对中国采取与美国人相同的严厉措施，因为失去中国市场将对它们造成巨大打击。还有人认为，限制向中国提供半导体设备只会迫使中国加倍努力建立自己的生产链。中国即使现在没有完整的生产链，也与之非常接近了。在光刻机领域取得新突破......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用(2021-05-13)
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？; 中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机获重大突破......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16)
还需要通过多个半导体芯片紧密相连的 2.5D 技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。
为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16 14:34)
技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
前已经实现了各大类（除 EUV）光刻胶的突破，实现了厚积薄发的现状。
去年12月，宁波南大光电发表公告称，公司自主研发的 ArF 光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。
据南大光电介绍，“ArF 光刻......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
中国顶尖辩手，正反观点都有颠覆你原本价值观的冲击力。笔者一直在想，如果奇葩说来一次“国产超分辨力光刻机到底牛不牛”的辩题，那到底会是怎样的场景和结局.
辩题背景：中科院光电所超分辨光刻......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
EUV光刻新突破，是不是真的？;这几天，关于光刻的迷惑性传言又来了。
事情围绕 EUV而起，传闻者将其包装的“有鼻子有眼”，大概意思就是有总比没有强。发酵愈深，传闻愈悬。
这也引发EEworld坛友......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-13)
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品
不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造
还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
国星光电推出4437系列接收器及2516系列发射器(2022-12-20)
近日，国星光电光电子器件事业部全新推出了健康感测系列产品——接收器4437系列及发射器2516系列，可应用于智能手表/手环等智能穿戴设备以及血氧测量器等医疗设备中，为可穿戴设备精准监测血氧、心率......
已购置300台套进口光刻机等设备，安徽30亿半导体项目投产(2022-01-13)
华瑞微电子半导体IDM芯片首期项目已购置300台套进口光刻机、离子注入机、等离子刻蚀机等设备，该公司近日已进入试产阶段，主要生产6英寸晶圆。
据悉，华瑞微半导体IDM芯片一期项目的建成投产，创造了多个第一新突破......
最新，国产光刻胶通过验证！(2024-10-16)
最新，国产光刻胶通过验证！;
据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入，使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限，从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中，EUV光刻机......
ASML 回击质疑：High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-02)
-NA 的时间点有不同评估是很自然的，不过 AMSL 每季度都获得了数个 High-NA EUV 光刻机新订单。......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用(2021-01-08)
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
航绘空天新篇 光领智造发展 2023中国（长春）航空航天及光电产业创新大会开幕(2023-07-31)
产业高质量发展，规划建设了航天信息产业园、智能光谷产业园、无人机产业园、空天科技博览园、航空产业示范园等一批产业项目，培育了长光卫星、长光宇航、奥普光电、希达电子、博翔......
全球芯片正在破局...(2024-07-15)
胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，在聚合物半导体芯片的集成度上实现新突破，集成度达到特大规模集成度水平。
据团队介绍，芯片......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源(2021-06-07)
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息，近日，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域，入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。
6月2日，北京科益虹源光电......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
经走出实验室进行了正式生产，今年初就可以交货，今年底就可以量产。同时，中国南大光电公司已经宣布可以批量生产ARF光刻胶，以及自主开发的DUV光刻机，这两个技术的研究都有了突破性进展。
并且在Chiplet异构......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率(2023-02-23)
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
先进芯片的生产良率。
蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。
资料显示，蔡司是光学与光电解决方案开发商，也是光刻机大厂ASML EUV光刻机......
云计算、AI对算力需求的快速增长成驱动数据中心增长的第一要素(2022-12-23)
自主研发或成唯一出路。而对于荷兰来说，可能更加严重的打击还在后头。
近日，日本佳能宣布将于 2023 年 1 月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品—— i 线步进式光刻机 "FPA-5520iV LF2......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
胶国产化。
在接下来的一年内，多家国产光刻胶企业宣布自己的KrF/ArF光刻胶项目取得关键性突破，也有一批本土光刻胶项目获得了新投资。
2021年5月，南大光电在业绩说明会上表示，公司的ArF光刻......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-14 10:11)
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机新......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
光源的突破对于EUV光刻进一步的应用和发展至关重要。唐传祥说：“基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。”
EUV光刻机......
约1340亿元半导体项目敲定；东芝一工厂突发停电(2022-09-21)
约1340亿元半导体项目敲定；东芝一工厂突发停电;“芯”闻摘要
约1340亿元半导体项目落地印度
我国光电芯片制造领域新突破
东芝一半导体厂突发停电事件
上海集成电路产业规模达2500亿......
晶瑞电材业绩预增120%以上，多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
该公司历史最高水平，整体处于供不应求状态。
聚焦国产替代，多家厂商发力光刻胶技术突破与生产
光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的混合液态感光材料，也是光电......
大基金二期再出手，认购南大光电18.33%股份(2021-07-28)
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
ASML今年下定了几个决心(2022-11-29)
台积电仍是采用传统工艺，结果成本、性能提升并没有想象中那么美好。另外，2nm芯片预计在3年后出现，也是2025年，这意味着芯片制程缩小越来越难了。
ASML已经官宣了High NA EUV光刻机新消息，称......
斥资76亿元，荷兰企图复制一个ASML半导体“神话”(2022-04-18)
元（约合人民币76亿元），打造一个类似于ASML的下一个全球半导体巨头。
业界周知，ASML是全球最大半导体光刻机供应商，其生产的EUV光刻机，是台积电、英特尔、三星发展先进制程必备的设备，同时......
持股4.76%，哈勃科技投资科益虹源(2021-06-04)
亦庄此前报道，作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位，科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。
国家财经周刊曾发文称，上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
三星首次引进本土生产光刻胶！(2022-12-06)
胶验证工作还在进展中，KrF光刻胶已有订单客户超3家。
ArF光刻胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。如南大光电11月消......
精彩呈现，半导体材料厂商在这个春天百花齐放(2021-03-23)
了国内许多优秀的半导体企业，尤其是在半导体材料方面，不仅有沪硅产业这样的龙头，也有南大光电和晶瑞股份这样知名的国产光刻胶企业。
接下来，
跟随小编一起逛一逛那些
参加2021 SEMICON......
相关企业
;长春奥普光电;;
;北京特奥普光电技术有限责任公司;;北京特奥普光电技术有限责任公司是一家专门从事半导体激光器产品应用及产品应用开发的技术型企业,公司技术部拥有博士后2名,博士3名,都是光电
;北京特奥普光光电技术有限责任公司;;北京特奥普光光电技术有限责任公司是一家专门从事半导体激光器产品应用及产品应用开发的技术型企业.特奥普光电技术有限责任公司除了自主研发TOP激光器产品同时还开发各种光电
;北京奥普光太科技有限公司;;
;北京奥普光太;;奥普光太是中关村科技园区的一家高新技术企业，专业从事光电子、激光尖端技术的自主研发和相关产品的生产、销售，产品主要有稳频激光系列、超短脉冲激光系列、单频倍频激光系列、精密
;北京市奥普光太科技有限公司;;奥普光太是中关村科技园区的一家高新技术企业，专业从事光电子、激光尖端技术的自主研发和相关产品的生产、销售，产品主要有稳频激光系列、超短脉冲激光系列、单频
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机；在真空器件生产方面使用的排气设备（真空排气台）；在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
;深圳艺普光电公司;;深圳艺普光电公司是LED显示屏、LED弧形屏、LED圆形屏、LED车载屏、LED单元板、LED模组、LED灯等产品专业生产加工的私营有限责任公司,公司总部设在全国,深圳艺普光电
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;深圳市厚普光电有限公司;;Hope LED Opto-electric Co., Ltd.成立于2005年，专注于节能环保LED照明产品研发、生产和销售，公司定位于生产和销售高品质的ODM和OEM