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过来的意思是创造从艺术中美化生命，通俗的英文翻译过来是他们征服的新领域让生命更美好。奖章的设计者是ErikLindberg。 文学、生理及医学奖奖章 诺贝尔生理及医学界的奖章图案......
Open Source称为开放原码两岸均有适用性。本文引用地址：项目介绍凡是通过的硬件项目（project）均会获得一组号码，前两码为英文字的国码，而后连续六位数的数字码则为通过的编号，认证号码会有一个标章图案......
源开发利用等当前国际科技创新角逐激烈的一些领域。 除了获奖者和获奖团队本身,“国家卓越工程师”奖章也受到大家的广泛关注,奖章里藏着哪些奥秘? 奖章通体直径为60毫米,采用了大家都很熟悉的红黄配色,材质为银镀金,重量约115克。整体......
曼获得了许多电气工程学术工作可获得的最高奖项和奖项，包括 1974 年的 IEEE 荣誉勋章、1984 年的 IEEE 百年纪念奖章、1985 年 Inamori 基金会的京都先进技术奖、1997年......
创新表示，公司团队成员专注于中小容量存储芯片，以SLC NAND产品切入市场，通过最先进的制程将成本降至最低，以迅速提高市场份额。 封面及文章图片来源：拍信网......
是一整块以三维方式构造的层压玻璃，并对表面进行了光学抛光。外框有一个按钮，可拍摄空间照片和视频。还有一个数码旋钮，点按时可调出主视图，旋转时可调节空间环境沉浸度。 文章图片均截图自苹果官网 外框由特质的铝合金制成。其中......
荣誉罗伯特诺伊斯奖、IEEE 创始人奖章、张忠谋博士模范领袖奖等多个奖项荣誉。2021年，黄仁勋入选福布斯中国·北美华人精英TOP60，去年被评为全球AI领袖、2024年当选美国工程院院士。 ......
院海外杰出人才引进计划及择优支持、江苏省杰出青年基金。 获全国未来储能技术挑战赛一等奖; 全国青年岗位能手（共青团中央）；中国科学院物理研究所科技新人奖；江苏青年五四奖章；江苏青年双创英才；江苏......
因其对技术创新和半导体行业的贡献而获得了许多奖项，包括IEEE Cledo Brunetti奖、Robert N Noyce奖章和阿姆斯特丹大学的荣誉博士学位。他还是荷兰雄狮骑士勋章（Orde van......
对技术创新和半导体行业的贡献而获得了许多奖项，包括IEEE Cledo Brunetti奖、Robert N Noyce奖章和阿姆斯特丹大学的荣誉博士学位。他还是荷兰雄狮骑士勋章（Orde van de......
实践和社会责任的承诺，再次获得EcoVadis白金奖章，成功跻身于2023年全球13万多家公司的前1%行列。 这一成就标志着ENNOVI的一个重要里程碑，充分展示了ENNOVI自2021年首......
《科学》杂志：NIST实现曲面打印微芯片方案; 据业内消息，在近日的《科学》杂志中，NIST发布了一种基于糖在任意共性表面上进行转印图案的方法，该技术为电子、光学......
挑战 ASML，应用材料公司重新定义了光刻和图案化市场; 的 光刻工具真的很贵。每个 工具的价格现在接近 1.7 亿美元，其中的许多用于领先的半导体工厂。未来，每个 High-NA 工具......
“甜蜜”的微芯片，新技术可用糖实现曲面打印; 使用糖和玉米糖浆，研究人员加里·扎博将“NIST”这个词用金色字母转移到人的头发上。图片来源：美国国家标准技术研究院 普通的食糖可将微芯片图案......
张德清课题组发展了有机高分子半导体高效图案化的新策略;近年来，高迁移率的有机高分子半导体的设计合成取得了很大的进展。但是，真正将有机高分子半导体的可溶液加工、柔性......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 随着......
德州大学奥斯汀分校支持成立的半导体联盟，由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成，而TIE将使用NIL光刻机进行研发与试产先进半导体。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，佳能......
试验线的下一阶段加强合作。 按照ASML的说法，2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化，降低制程成本，提高......
过气体团簇光束对 EUV 光刻图案进行局部精确整形，从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。 业内人士认为 TEL 的 Acrevia 系统可起到与应用材料 Centura Sculpta 系统类似的作用，即直接对 EUV......
试验线的下一阶段加强合作。按照ASML的说法，2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化，降低制程成本，提高......
打磨得极为光滑，然后再根据结构需求将导体、绝缘体或半导体材料薄膜沉积到晶圆上，以便能在上面印制第一层。这一重要步骤通常被称为 "沉积"。 随着芯片变得越来越小，在晶圆上印制图案变得更加复杂。沉积、刻蚀......
生产采用 7nm 和 5 nm 级工艺技术的芯片。Twinscan NXT:2000i 的分辨率（≤38nm）足以满足 7nm 级单图案光刻批量生产的需要。但今年早些时候，荷兰......
制作），2025年量产出货。2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化，降低制程成本，提高产量。 High-NA EUV预估......
热、光或其他刺激作出反应，已被用作软机器人的薄膜，但一直没有制成纺织品。现在，研究团队使用LCE纱线，结合传统的纺织工艺技术制作出各种机织面料，图案包括平纹、缎纹、斜纹和纬编罗纹。 团队......
获美国半导体行业协会（SIA）最高荣誉罗伯特诺伊斯奖、IEEE 创始人奖章、张忠谋博士模范领袖奖等多个奖项荣誉。 2021年11月，黄仁勋入选“福布斯中国·北美华人精英TOP 60”。2023年9月8日，黄仁......
伸导电材料是一个重要且基本的组成要素，是当前的研究热点。关于可拉伸导体的研究已有广泛报道，例如：导电弹性体、金属纳米线以及图案化的金属薄膜导体等。 尽管这些可拉伸导电方案在许多应用中非常有前景，但在某些情况下，这些......
器的成本。 由于光学系统特性，DRAM层图案很难用光学曝光图案，纳米压印可实现更精细的图案，且成本是浸润式光刻的20%，成为较佳的解决方案。但纳米压印并不能在存储器生产所有阶段取代传统光刻，两者......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移; 宣布推出FPA-1200NZ2C设备，该设备执行电路图案转移。自日本(Canon)官网获悉，10月13日，宣布推出FPA-1200NZ2C设备......
，公司各个业务板块均处于快速成长期，也正按既定战略向前推进，从产品到订单都有新的突破，均是受益于前期的研发投入。 封面及文章图片来源：拍信网......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能......
这些封装方法在晶圆切割前仅完成了部分工序。不同封装方法所使用的金属及电镀（Electroplating）2绘制图案也均不相同。不过，在封装过程中，这几种方法基本都遵循如下顺序。 1硅通孔（TSV , Through......
促使行业可以持续发展和壮大。 概述 ▲ 半导体晶圆制造的主要过程: 1）晶圆制备 2）图案转移 3）材质掺杂 4）沉积 5）蚀刻 6）封装 制造半导体的过程可以分为以下几个关键步骤。 第一步：晶圆制备 选择......
性探测器仅具备小像素获取能力。 2、通过使用单点InGaAs探测器和低成本光学器件，可以降低了系统成本。以及高分辨率DMD数字微镜允许自定义图案来补偿每个单独系统的光学失真。 3、捕获的信号更强，这不仅是因为与传统DMD相比，DMD......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？; 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
就开始着手光刻机产业的相关研发。 华为在专利文档中表示，本发明实施提供了一种光刻设备和光刻系统， 通过使用光开关和至少两个光子器件在基材表面形成干涉图案，可以避免平移基材，从而提高了光刻处理的效率和干涉图案......
中科院化学所在印刷制备单一取向有机半导体单晶阵列方面取得进展;具有精确控制取向的有机半导体单晶阵列图案在高性能光电器件的制备与集成中具有重要意义。有机半导体单晶具有固有的长程有序、无晶......
了一代人武侠梦的金庸离世，我们说，该给青春道个别了 。斯坦李也匆匆走了，原来超级英雄的老爹也会不敌岁月，就像老了的金刚狼。前几天，“两弹一星”功勋奖章获得者程开甲院士离世，至此，23位“两弹一星”功勋奖章......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能......
RGB三色光源组合出不同的图案传送到微透镜，微透镜将所接收到图案投射到仪表板上。该投影模组结构紧凑，可以安装在仪表板中控屏HMI后侧，是全球首个集成在内饰表面的投影模组，荣获2024 CES创新......
用喷墨打印机、印章和丝网印刷、喷涂等方法在常温常压下绘制图案（图4）。 当然，通过开发新的前所未见的突破性涂层系统和优化墨水，也将有可能开辟未知的应用。 图 4：可根据应用需要采用多种工艺形成布线图 使用如此多样的处理方法绘制图案......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移;佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 （FPA-1200NZ2C......
推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。 所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案......
同时，我们正在与更广泛的图案化设备和材料供应商生态系统合作，以便能够访问 High NA 实验室并准备 EUV 抗蚀剂材料、底层、干法蚀刻、光掩模、分辨率增强技术 (RET) 和计量技术。” 在imec......
产的香槟被众多国际专业人士纳入精美尊贵的名酒之列。其中顶级香槟用花束装饰瓶身，极富美感，具有极高知名度。1990年，佩里埃儒埃公司将瓶身的花朵图案作为商标申请国际注册，注册号为G560331号（如图），指定使用商品包括第33类“香槟酒、葡萄......
实现了目前最先进的半导体工艺。 官方表示，该技术采用与传统投影曝光技术不同的方法形成电路图案，未来要扩大该类半导体设备的阵容来覆盖广泛的市场需求。 据悉，NIL 技术......
当天开始接受订单。本文引用地址： 纳米压印半导体制造设备「FPA-1200NZ2C」 传统的投影曝光设备（例如 ArF 和 EUV）通过用穿过图案掩模的光照射晶圆上的抗蚀剂来形成电路图案，但使用 NIL 时，电路......
高套刻精度 通过REI 模块对投影的图案进行均等补正 定位测量示意图 新产品除了采用和支持第6代玻璃基板的“MPAsp-E813H”（2014年9月发售）一样的每块面板多点同时测量的对位方式，此方......
电流检测电路(2023-02-02)
了由分立器件带来的参数变化、器件数目太多等问题，集成电路方便了我们使用。下图为一种高侧检测的 IC 方案： 检测电路连出方式 对电流通过电阻器时的压降进行检测，需要从电阻器的两端引出用于检测电压的图案。电压......
元件尺寸以及优化器件电路设计。 △Source：英伟达官网 其中，元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下，光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案......
展示了一款色彩丰富鲜艳的汽车皮革座椅。该座椅的皮革表面印刷采用了富士胶片合成革专用INKJET技术，可满足车主对内饰个性化和耐用的需求。 常见的汽车座椅一般为单色，如希望实现彩色座椅，首先需要将图案印刷在皮革或合成革上，然后......

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