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芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。 高端晶圆处理设备产业化项目（二期）位于辽宁省沈阳市浑南区。本项目预 计建设期为30个月......
盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付;11月18日，盛美上海宣布推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军涂胶显影Track市场，这也是该公司提升其在清洗、涂胶和显影......
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科;6月11日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司（以下简称“芯源微”）宣布，公司12寸KrF涂胶显影设备已于10日入驻厦门士兰集科。搬入仪式完成后，公司......
半导体设备（苏州）有限公司（以下简称“芯达半导体”）半导体前道涂胶显影机台顺利启运出厂。 高端前道Track机台是半导体生产线上不可或缺的关键设备，可以广泛应用于不同等级的半导体前道高端光刻领域。至此芯达半导体实现了前道涂胶显影......
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化;加速12英寸涂胶显影设备量产进度 据《国际电子商情》了解，众鸿是在半导体集成电路设备制造领域涉猎设备再制造、软硬件优化产能提升、核心配件维修等服务，其核心产品是专用光阻涂胶显影......
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机;近日，盛美上海宣布首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影......
氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备；芯源微中标1台聚合物涂胶显影机；阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。 官方信息显示，上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港，2018年8月开......
化学是一家来自大连的化工企业，主要从事异噻唑啉酮类工业杀菌剂的生产、研发和销售。2017年上市。芯慧联则是一家成立于2019年的半导体设备公司，主要产品包括涂胶显影机、光刻机、湿法清洗设备、半导体产线用自动化设备等。 百傲......
众鸿半导体项目签约上海临港产业区;上海临港产业区消息显示，3月10日，众鸿半导体项目签约仪式在临港产业区举办，该项目正式签约入驻临港产业区。 众鸿半导体项目主要进行光刻工艺的主设备——涂胶显影......
于提供半导体装备与工艺整体解决方案。 芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端......
源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化， 2022年，上海芯源微承担建设的“芯源微临港研发及产业化”项目......
研发及产业化项目建设地点位于嘉兴南湖区，总投资20亿元，总用地面积279亩，新增建筑面积20.6万平方米，新建生产厂房、动力楼、危化仓库等建构筑物，购置包括光刻机、涂胶显影机等工艺设备。建设单位为嘉兴斯达微电子有限公司，建设......
科技新增订单42.19亿元，同比增长30.62%，其12英寸炉管设备正在研发制造，即将进入客户验证阶段；8英寸涂胶显影设备已交付客户验证，12英寸涂胶显影设备尚处在专利检索及技术评估阶段。 盛美......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
调度厂房、研发厂房、综合动力站、综合仓库、硅烷站、化学品库、废水处理站、危险品库、大宗气站等，主要设备包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、烘箱、高温氧化炉管、高温激活炉管、清洗机、冷水机组、纯水制备系统、燃气......
微生产的化合物等小尺寸设备主要应用于4-8寸晶圆工艺，产品包括涂胶显影机、清洗机、去胶机等湿法类设备及碳化硅划裂片设备，可广泛应用于射频器件、功率器件、光通信、MEMS、LED工艺生产环节。 民德电子Q3实现......
了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在未来几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。 盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利......
主导地位，芯源微则是国内唯一一家能够量产前道涂胶显影机的厂商。 芯源微 据悉，芯源微主营业务是涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。其中芯源微涂胶显影......
半导体制程设备新增订单18.00亿元，同比增长60.71%。 据介绍，2022年，至纯科技研发拓展炉管和涂胶显影设备。其8英寸炉管设备已有数台订单，12英寸炉管设备正在研发制造，即将......
上工艺节点的多项关键技术方面取得突破，其最新的前道KrF涂胶显影机显示也在今年上半年实现批量销售。官方消息显示，当前芯源微在国内前道涂胶显影市场的市占率为4%左右。 在其他设备细分领域，国产设备企业也有所突破，如华海清科的CMP设备......
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。 图片来源：扬州高新区  项目分三期实施，一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线，主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影......
筑面积76728平方米，一期建筑面积47012平方米。项目主要用于生产高端晶圆处理设备，包括前道涂胶/显影机及前道单片式清洗机等。项目将打造东北地区顶级的半导体专用设备研发与生产基地，全部达产后将带动就业2000人......
金属等离子刻蚀机、多晶硅刻蚀机、ArF 匀胶显影机、KrF 匀胶显影机、PCM 探针台、背面金属溅射设备等。 值得一提的是，积塔半导体在此前的产线建设过程中，与多......
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。 作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影......
、制造、销售于一体，提供高端半导体设备，主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。 封面图片来源：拍信网......
光刻机、涂胶显影机、铝刻蚀机、高温注入机等设备，开展SiC芯片的研发和产业化。项目达产后，预计将形成年产6万片6英寸SiC芯片生产能力。该项目实施主体为公司全资子公司嘉兴斯达微电子有限公司。 功率......
进行薄膜设备、涂胶显影机、划片机等IC整机制造和系统集成；产业链下游拥有中电科第47所和仪表院等企业，从事集成电路制造和封测。 芯源......
一流的半导体高端设备研发制造平台。 资料显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司专注于匀胶显影机、去胶剥离机、刻蚀清洗机等关键设备的研发、设计、销售及售后服务，产品广泛应用于化合物半导体、光通讯、MEMS、滤波器、半导体光学、先进......
户拓展、新市场开发取得显著成效、新产品得到客户认可，订单量持续增长，公司营收保持高增长。 盛美上海主要从事单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影......
将对象限定在尖端半导体相关领域，因此“影响有限”。 据了解，日本此次实施的“禁令”主要涉及六大类23种高性能半导体制造设备出口管制： 1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影机......
性能半导体制造设备出口管制： 1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备 2、刻蚀（3项）：包含湿法/干法/各向异性的高端刻蚀 3、薄膜（11项......
全球为数不多的可以量产应用于7nm工艺制程半导体设备的精密零部件制造商。 产品方面，富创精密主要产品应用于半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节，部分......
着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加，因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。”王坚预测，这次推出的PECVD设备，及上个月发布的前道涂胶显影......
建立了完备的光刻胶研发与应用测试平台，其中主要测试设备包括光刻机、涂胶显影一体机、扫描电子显微镜、膜厚仪、台阶仪、液体颗粒仪、痕量金属杂质测试仪器、色谱仪、紫外-可见分光仪、水分仪、粘度计、固含测试仪器等。 容大......
为主导。近年来，上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高，虽在光刻机、量测检测设备、离子注入机和涂胶显影......
光刻/曝光领域的有 4 项，即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备；涉及刻蚀领域的有 3 项，分别是湿法/干法/各向异性的高端刻蚀；涉及清洗领域的有 3 项：即铜氧化膜、干燥......
精密专注于金属材料零部件精密制造技术，掌握了可满足严苛标准的精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接、组装、检测等多种制造工艺，主要产品应用于半导体设备领域，覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影......
液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
光刻机设备、购置ArF光刻机配套设备、建设研发大楼。 晶瑞电材表示，该项目已完成ASML光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶仪等研发设备购置，其他研发设备正在积极购置当中。最终......
无尘车间装修并购置光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、离子注入机、化学镀产线、退火炉、电子显微镜、厚度测量仪、应力测试仪的工艺及研发检测等设备开展车规级高性能快恢复二极管芯片中试线项目，达产后形成年产18万片......
力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。 值得一提的是，此前8月16日，盛美上海于临港举行“盛美半导体设备研发与制造中心试生产仪式” 。该中心共有5个单体，包含两座研发楼、两座......
储备的产品目前正处于研发、认证以及拓展的过程中。 06 芯米半导体：首台幻影12英寸光刻工艺涂胶显影设备XM300交付客户 4月8日，芯米（厦门）半导体设备有限公司（以下简称“芯米半导体”）首台......
三星旗下Semes成功开发出一种ArF-i光刻涂胶/显影设备;6月24日，三星电子旗下的韩国半导体和显示器制造设备公司表示，第一台名为“Omega Prime”的设备已于去年供货，Semes正在......
产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。目前公司研发的SAPS、TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术，可应用于45nm及以......
名分别为湿法清洗设备（81台）、刻蚀设备（70台）、薄膜沉积设备（47台）、炉管（45台）、涂胶显影设备（35台）。中标较多的前五名大陆厂商为北方华创、中微公司、拓荆科技、芯源微、盛美上海。 综合......
胶量产化生产线正在积极建设中。公司高端KrF（248）光刻胶已完成中试，建成了中试示范线，已进入客户测试阶段。 据悉，目前晶瑞电材ArF（193）高端光刻胶研发工作已正式启动，已完成光刻机、匀胶显影机、扫描......
目共有5个单体，包含两座研发楼、两座厂房和一座辅助厂房，总建筑面积13.8万平方米。其中厂房面积4万平方米，共有两座厂房A和B。据悉，盛美临港项目是盛美清洗、电镀、先进封装湿法、立式炉管、涂胶显影......
抛光、清洗、检测、外延等；第二个阶段是芯片制造、封测，即从整块晶圆到单颗芯片的过程。 这两个阶段涉及多种设备，如单晶炉、氧化炉、PVD/CVD、光刻机、涂胶显影机、检测设备、清洗设备、干法刻蚀机、湿制......
-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶显影机......

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光曝光机、UV机、显影机、隧道式IR预烘机、触摸屏蚀刻线、PR前线清洗线、设备配件耗材、工装夹器、玻璃蚀刻脱模线等产品专业生产加工的中外合资经营企业,公司总部设在中国深圳市宝安13区同安汽配商务城A栋
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