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至今成为半导体先进制程中最重要的生产工具，并使得摩尔定律得以延续，据悉，该技术将会让摩尔定律至少延续再一个十年。 作为重要的EUV设备供应商，ASML正在开发新一代NA-EUV设备，此名称代表高数值孔径，其该值越大，可实......
价格或将超过3亿美元，这也使得尖端制程所需的成本越来越高。 相比之下，的目前纳米压印技术将可以使得芯片制造商不依赖于EUV光刻机就能生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。 佳能......
前EUV设备制造商艾司摩尔（ASML）在去年11月EUVL Workshops透露的进度，EUV光源强度已能达到125W，预计2018年能达到光源强度250W，可支持每小时生产125片晶圆的量产目标。届时......
多家光刻大厂扩产进行时：ASML公开年产690台扩充计划;近日，光刻龙头ASML在投资者日会议上表露其将扩张产能，至2026年该公司EUV年产量要达90台，并将启动120亿欧......
季再拿到 15.8 亿欧元的新订单，其中又包括 6 部EUV设备。就 ASML 目前每年的产能可生产 12 部 EUV，2018 年前将扩产至 24 部，而且需一年建置时间来观察，也就表示 2017......
兼首席执行官傅恪礼(Christophe Fouquet)表示：“我们预计，在下一个十年我们有能力将EUV技术推向更高水平，并扩展广泛适用的全景光刻产品组合，使 ASML 能够充分参与和抓住机遇，从而......
Fouquet表示：“我们预计，在下一个十年我们有能力将EUV技术推向更高水平，并扩展广泛适用的全景光刻产品组合，使ASML能够充分参与和抓住人工智能机遇，从而实现显著的营收和盈利增长。” 其次，在全......
Fouquet）表示：“我们预计，在下一个十年我们有能力将EUV技术推向更高水平，并扩展广泛适用的全景光刻产品组合，使ASML能够充分参与和抓住人工智能机遇，从而实现显著的营收和盈利增长。” 鉴于......
本次的密访动作似乎显示对这一明确的立场有了新的想法，有可能会修正其既定计划，提前导入High-NA EUV光刻机进行试验和学习。台积电何时使用ASML的最新技术将取决于何时最具成本效益，以及技术成熟度的平衡点。 为什么需要High......
与ASML平分市场，日本这家工程机械企业不容忽视;据路透社报道，荷兰政府计划于当地时间6月30日宣布新法规，对ASML次顶级产品线深紫外DUV光刻机提出许可要求，此前，ASML极紫外EUV光刻......
光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。 ASML的High NA EUV设备......
属氧化物光刻胶 (MOR) 上印刷的10纳米密集线条（20纳米间距）。 此次联合实验室的开放，被视为High-NA EUV技术大批量生产准备过程中的重要里程碑。业界预计，随着该技术的不断成熟和普及，将在......
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻技术将......
机仍是未来最经济的选择。 SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着，相较于沿用现有的 0.33NA EUV 光刻......
，ASML第三季度的新增订单金额创历史新高，达到89亿欧元。其中38亿欧元来自EUV系统订单，包括High-NA系统订单。” 业界展望上，ASML预计2022年第四季度净销售额约为61亿至66亿欧......
2纳米先进制程已近在咫尺！;近日，IC设计大厂美满电子（Marvell）宣布与台积电的长期合作关系将扩大至2纳米，并开发业界首见针对加速基础设施优化的2纳米半导体生产平台。 目前，行业内最先进的先进制程量产技术......
14A（1.4nm）工艺是业界首个使用ASML High-NA EUV光刻工具的工艺节点，英特尔也是业内首家获得尖端High-NA工具的公司。英特尔预计在2027年前开发出14A。 Rapidus......
机本身是一套复杂的平台，难点不光在制造上，还存在许多软件和技术支持，高度依赖售后维保体系，需要工程师经常来校正调准，从而维持稳定的工况。 特别是EUV光刻机，需要频繁维护，如果没有ASML提供的备件，这些......
新设备的工作原理是在晶圆上压印印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头ASML的EUV设备相比，其能耗降低了90%。 去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（NIL）设备，该设备可以与ASML的极紫外（EUV......
光学系统收集和聚焦光线的能力，数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。 业界预计，随着High-NA......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
ASML公布Q1财报，净销售额达44亿欧元，预计全年营收增长30%;4月22日消息，本周三，荷兰半导体设备商ASML公布了Q1主要财务数据，今年首季该公司净销售额达43.6亿欧元（约合人民币344......
晶圆代工投资需求最强？ASML扩产EUV与DUV设备; 【导读】据台媒《经济日报》报道，光刻机巨头 ASML日前宣布扩产EUV与DUV乃至于下一代EUV设备计划。业界预计，从客......
亿欧元。 EUV进展：交付第一台YieldStar385系统 ASML在第四季度向客户交付了第一台YieldStar385系统。YieldStar385具备最新的量测技术，提高......
ASML最先进的光刻机，花落谁家？;4月上旬，全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径，旨在满足未来几年对于尖端技术......
High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着，相较于沿用现有的 0.33NA EUV 并搭配多重曝光，引入 High-NA 在近......
整合服务的需求，公司将在在竹南打造全球首座全自动化3D IC先进封装厂，预计今年下半年开始生产。 除了展示先进技术外，台积电并透露了其他重要信息，包括2024年将拥有ASML下一代芯片制造工具以及到2025年......
成本远低于现阶段 ASML 的 EUV ，佳能表示未来要扩大该类半导体设备的阵容来覆盖广泛的市场需求。 佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将......
Q2出货12台，光刻设备巨头预计全年出货55台EUV设备;7月20日，阿斯麦（ASML）发布的最新季度财报显示。第二季度，ASML营收和净利润再次实现双增长，营收更是创下历史新高。 1营收54......
克还介绍了ASML新一代High-NA EUV光刻机的进展，预计将于2024年开始发货，每台设备的价格在3亿至3.5亿欧元之间。 众所周知，目前ASML是全球最大的光刻机供应商，同时......
建中的北海道千岁市2nm工厂内导入EUV设备，且Rapidus将可在2023年内确保约300名员工，而雇用的约100名工程师将派遣至合作伙伴IBM、ASML，学习EUV设备技术。 台积电方面，其2nm制程......
出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。 ▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻机 台积电目前正式公布的最先进制程为 A16，该工艺将支持背面供电网络（BSPDN......
四季度的强劲订单增长显示了未来的市场需求。 此前1月初，英特尔宣布已经接收市场首套具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，预计在未来两到三年内用于 intel 18A......
的同比 (YOY) 和预计 2023 年收入增长 ASML 的大量积压订单（据其首席执行官称，价值 380 亿欧元） ASML在尖端EUV光刻技术中近乎垄断的地位 其他推测ASML被高......
用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力，新厂预计在2025年建设完成，投资2400亿韩元（约合13.7亿人民币）。 所谓再制造，指的是以旧的机器设备为毛坯，采用专门的工艺和技术，在原......
报道三星正准备确保下一代EUV光刻机High-NA的产量，预计这款设备将于今年晚时推出原型，明年正式供货。 至于半导体“新贵”Rapidus，由于EUV是量产5-7nm以下最先进芯片所必须的技术......
机的企业或许正是英特尔。 此外，业界消息显示，台积电此前已经向ASML采购High－NA研发型EUV光刻机EXE：5000，在英特尔采购TWINSCAN EXE：5200后，台积电预计......
设备投资降低至仅有EUV设备的40%。 佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路。 “价格将比ASML的EUV光刻......
威力科创TokyoElectron）宣布，将于镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产，以维持原本2023年问世的期程。另外，除了东京电子之外，比利时微电子研究中心（IMEC）也是......
发时程比预期延迟许久；以现有的浸润式步进机制造目前最高密度的芯片，得以两重或三重光罩才能实现，才能实现在技术上超越其光学设计限制的电路图形。 ASML预计明年正式量产第一代EUV系统NXE:3400b，接下......
生态系统全球大会”上指出，ASML 的 EUV 设备生产台数已经从 2019 年的 22 台增加到 2021 年的 42 台，预计今年将超过 50 台，明年生产台数将进一步增加。High-NA......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极......
偶然。 英特尔帮助开发了EUV技术——因其使用的“极紫外”光波长而得名。但它开始使用ASML的首款EUV产品晚于竞争对手台积电，英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）承认......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付;据路透社报导，全球光刻机大厂ASML CEO Peter Wennink表示，尽管有些供应商遇到了一些阻碍，但今......
客户交流会上，ASML对外宣布，计划把EUV光刻机的年产能扩大到90台，把DUV光刻机的年产能扩大到600台，预计在2025年或者2026年之前实现这一目标。 ASML这项光刻机数据刚一出炉，瞬间......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心;光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术......
回尖端制造工艺王座，在EUV光刻机都无法满足其生产需求的情况下，根本就是无从谈起的。 不光是EUV光刻，前不久ASML刚刚发出警示信号今年只会有60%的DUV（深紫外光）光刻机订单得到满足。在致......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
可以产生完整的逻辑和存储电路。 据报道，三星首款High NA EUV设备——ASML的EXE:5000型号预计将于2025年初上市。鉴于半导体设备安装的复杂性（通常涉及漫长的测试阶段），EXE:5000......

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