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国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
在半导体制造环节，光刻......
国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。
为此，华中科技大学与九峰山实验室联合研究团队通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻......
最新，国产光刻胶通过验证！(2024-10-16)
胶技术
今年4月，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，依托九峰山实验室工艺平台，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。该成果以“Dual......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证(2024-04-03)
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证;
4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件(2022-11-29)
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。
光刻......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
成像原理图
“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
据刘......
中国光刻设备将打破国外垄断？(2016-11-03)
芯碁微电子装备有限公司相关负责人介绍说，即将投产的激光直写光刻机、双台面激光曝光机，均为进口替代产品。
其中，该公司的MLL及LDW系列光刻设备是国内目前唯一可以替代进口的半导体光刻设备，已有38所、771所、中科大......
全球芯片正在破局...(2024-07-15)
化硅衬底的绿色制造提供了强有力的技术支持。
硼元素如何作用SiC氧化后退火工序
东京大学、三菱电机研究团队采用硼元素对SiC MOSFET进行氧化后退火，沟道迁移率（μFE）有望超过100 cm2 / V·s，而采......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了(2023-01-09)
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
可完成锂电池起火预警分析，中国科大研发高精度、多模态集成光纤器(2023-10-08)
合作，成功研制了可植入电池内部的高精度、多模态集成光纤器，率先实现对商业化锂电池热失控全过程的精准分析、早期预警。
▲ 图源中科大
据介绍，研究团队......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线;2月25日，清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB）以及德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心;光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用(2021-05-13)
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证：为EUV光刻胶开发做技术储备(2024-04-02)
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证：为EUV光刻胶开发做技术储备;4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非......
最新进展！中国芯片研发乘风破浪(2024-05-15)
大学，及中国科学院上海微系统与信息技术研究所成功研制出全球首个氮化镓量子光源芯片。这一突破性进展，不仅为我国在量子通信领域的研究奠定坚实基础，也为全球量子技术的发展注入了新的活力。
在该项目中，研究团队......
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
南大光电光刻胶项目延期;南大光电近日发表公告称，公司募投项目“光刻胶项目”受到多重因素影响，计划将建设完成期限由原计划2021年12月31日延长至2022年12月31日。公司......
中国科大实现硅基量子计算自旋量子比特的超快调控(2023-05-09)
中国科大实现硅基量子计算自旋量子比特的超快调控;中国科学技术大学郭光灿院士团队在硅基半导体量子计算研究中取得重要进展。该团队郭国平教授、李海欧教授等人与南科大量子科学与工程研究院黄培豪助理研究......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表......
国际光刻机大厂ASML上交亮眼财报！(2024-01-25)
工艺技术之后的制程节点。
去年12月，ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术。 据消......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。
这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
曝韩国室温超导第一作者要求撤稿！有缺陷(2023-08-03)
曝韩国室温超导第一作者要求撤稿！有缺陷;
举世瞩目的室温超导再次出现转折，韩国研究团队要求论文撤稿。
第一篇论文的一作李硕裴(Sukbae Lee)接受韩联社采访时表示：
论文......
大基金二期再出手，认购南大光电18.33%股份(2021-07-28)
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
武汉光谷实验室研发出高性能量子点光刻胶(2024-08-14 13:51)
而言，光刻精度更高、获得的量子点像素更小，更适合于高PPI的AR、VR应用。基于高性能的量子点光刻胶，研究团队实现了高精度的量子点像素。此外，这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性，在空气中75℃加热120......
湖北武汉光谷实验室研发出高性能量子点光刻胶(2024-08-14)
实现量子点像素化的方案主要有两种：喷墨打印和光刻。相较而言，光刻精度更高、获得的量子点像素更小，更适合于高PPI的AR、VR应用。
据了解，基于高性能的量子点光刻胶，研究团队实现了高精度的量子点像素。此外，这些......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队......
五大高校科研团队在集成电路上有最新突破！(2024-10-10)
以不断提供反馈信号以确保恒定的光输出功率和光功率密度。这种高功率密度、高稳定性、高集成度和低功耗微型紫外光源的提出，为最终实现紧凑、便携式和低成本无掩膜深紫外光刻技术打下扎实的光源基础。
华中科技大学科研团队存算一体计算芯片研究......
南京大学—江苏富乐德半导体洗净校企联合研究中心揭牌(2024-05-30)
心由江苏富乐德石英科技有限公司和南京大学合作共建，双方将围绕“半导体非金属零部件洗净”领域，基于研究团队在化学、材料等技术方向的研发积累，重点聚焦于半导体、太阳能、光刻机相关产业方向展开深入研究，致力于关键技术研发、科技......
浙大发布两款超导量子芯片 关键指标实现新突破(2021-12-18)
大学十多年前就在超导量子计算领域开始布局。发展历程中团队先后与中科大和中科院物理所等多个团队通力合作，共同推进超导量子计算的研究，国际上首次实现十和二十超导量子比特纠缠。近年来，研发团队取得了一系列的研究成果，在......
我国科学家实现百兆比特率量子密钥分发(2023-03-15)
计数率通常受到较长恢复时间的限制。
潘建伟、徐飞虎研究组发展了集成光子片上高速高保真度偏振态调制技术，系统重频达到2.5吉赫兹，量子比特误码率优于0.35%；结合中科院上海微系统所尤立星团队......
国产光刻胶上演“冰火两重天”(2021-08-24)
之前不久，大基金二期亦出手投资光刻胶。
7月27日，南大光电公告披露称，为加快光刻胶事业发展，控股子公司宁波南大光电拟通过增资扩股方式，引入战略投资者大基金二期。大基金二期将以合计1.83亿元的价格认购宁波南大光......
南大光电承担的国家科技重大专项项目通过验收(2021-07-30)
收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。
据介绍，项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队......
中科大量子计算原型机再刷新光量子信息技术世界纪录(2023-10-13)
中科大量子计算原型机再刷新光量子信息技术世界纪录;
业内消息，近日中国科学技术大学潘建伟、陆朝阳等组成的研究团队与中国科学院上海微系统与信息技术研究所、国家并行计算机工程技术研究......
晶瑞电材业绩预增120%以上，多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
胶国产替代话题日渐受到关注。
国内主要光刻胶生产商包括南大光电、彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞电材、容大感光等。在这些厂商不断努力布局之下，光刻胶国产替代进程不断加快。
1、南大光电
南大光电建有ArF......
多家光刻大厂扩产进行时：ASML公开年产690台扩充计划(2022-11-14)
划将于2025年12月31日之前执行。
公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...;
近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！(2024-07-04)
器件、化合物半导体等行业需要的芯片，这些芯片主要应用于航空航天、移动通讯、新能源汽车、消费电子、AI人工智能等。
ABM Inc.公司介绍
ABM Inc.是一家在光刻机领域具有显著影响力的公司，专注于半导体前道制造和先进封装的光刻机研......
微软宣布量子超算重大突破，公布路线图(2023-07-04)
微软宣布量子超算重大突破，公布路线图;据媒体报道，研究团队在创建可靠实用的计算机方面取得了第一个里程碑，并公布了其超级计算机的路线图，将多年来对拓扑量子比特的研究路径具体化。本文引用地址：量子......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
，SP）光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究，是较早出成果的一个团队。澎湃新闻采访了光电所的科学家杨勇，他表示，‘所谓SP，拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子；光投......
突破瓶颈！中国团队研制出高性能单晶硅沟道3D NOR储存器(2022-11-18)
下叠置的晶体管既具单晶硅沟道的高性能优势，又有三维一体集成的制造成本低的优点，可在获得同等或优于单晶硅沟道平面NOR闪存器件性能的同时，无需升级光刻机也可大幅提高存储器集成密度、增加存储容量。
团队......
Q1 全球半导体设备厂商营收排行：AMAT 第一，光刻机巨头 ASML 第四(2022-08-15)
）、离子注入、刻蚀、快速热处理、化学机械平整（CMP）、测量检测等设备。Q1 半导体业务营收同比增长 13.0%，环比下降 1.0%。
阿斯麦（ASML）则是全球第一大光刻机设备商，同时......
Q3这类SSD合约价或涨15%；华为P50核心供应商被曝光；创维存储项目签约江西(2021-08-01)
胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。
据披露，宁波南大光电已建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品生产线；研发的ArF光刻......
尖端技术突破：全球第一座“氮化镓芯片”生产基地(2023-01-17)
硅基氮化镓晶圆的量产。据悉这是全球第一座“氮化镓”生产基地。目前中企已经掌握了成熟的技术，一旦氮化镓被用于制造芯片，相比于硅基芯片功率将直接提升900倍。
中国科学院院士彭练矛和张志勇教授率碳基纳米管晶体研究团队......
“九章三号”光量子计算原型机再创量子计算优越性世界纪录(2023-10-11)
术上，研制了基于光纤时间延迟环的超导纳米线探测器，把多光子态分束到不同空间模式并通过延时把空间转化为时间，实现了准光子数可分辨的探测系统。
在构建“九章”系列光量子计算原型机的基础上，中国科大研究团队......
我国科学家研发出全球最薄光学晶体：转角菱方氮化硼(2024-04-26)
制备更轻薄的光学晶体成为各国科学家竞相研发的焦点。
“转角菱方氮化硼”的研发将极大地推动我国新一代集成化激光技术的发展，未来有望在光刻机等微纳加工设备上带来激光技术的新突破。
目前，研究团队已与国内激光器公司合作，并成......
持股4.76%，哈勃科技投资科益虹源(2021-06-04)
信息发生变更，其中注册资本由1.2亿元增至2.02亿元，增幅68%，同时新增哈勃科技和徐州光远股权投资合伙企业(有限合伙)为股东。
△Source：企查查
工商信息显示，目前，科益虹源的大股东和实际控制人均为中科院研究......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。
表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型
从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
中国科研人员开发出用于高性能全固态锂金属电池的先进固态电解质(2024-07-23)
式电子产品和电网等电池应用的储能技术的发展。
为应对这一挑战，科大化学及生物工程学系助理教授Kim Yoonseob教授领导的研究团队开发了一种新颖策略，将一类称为离子共价有机框架（iCOFs）的多......
中企被限制后，多个芯片巨头开始蠢蠢欲动(2022-12-22)
巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。
ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据......
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;南昌科大光电实验室;;
;北京中科瑞丰电瓶修复机电池修复机研究院;;
;中科大;;
;华中科大;;
;中科大/穆玉忠;;
;中科大鲁能;;电力监测
;中科大近代物理系;;电子学
院，汇集中科院、中科大及归国留学人员组成技术研发团队，以适应品牌、技术资本全球化的发展，当前已与安徽天目环保公司建立战略关系，正在全力拓展中国市场。
;中科大鲁能集成科技有限公司;;很好
;武汉华中科大仪博生命科学仪器有限公司;;