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”。 在半导体技术高度竞争、激烈博弈的当下,我们既为人类科技进步感到欣喜,同时也不禁对我国的半导体产业发展有着一丝隐忧。cuLitho是否对传统意义上的计算光刻造成冲击?我国的计算光刻发展到什么水平......
0.768nm，打破了当前光刻机预期的1.8nm工艺极限，这对于ASML来说无疑是重大打击。 全球各个经济体研发无需光刻机的工艺，在于当下的光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，第二......
每年投入巨资，毕业生数量庞大，为什么不能完成成熟设备？ 当然，我们制造EUV光刻机并非要取代ASML，而是为了满足自身需求，推动全球光刻机技术发展，继续前进，克服老美的封锁，困难将更大，代价更高。然而，国内......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。 EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。 但问题是EUV光刻机......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！; 半导体是人类科技发展的重要基础，也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权，但随着摩尔定律逼近极限，光刻机......
聚变反应产生的能量超过输入的能量。 具体操作过程是，NIF将2.05兆焦的激光聚焦到核聚变材料上，最后产生了3.15兆焦的能量，能量增益首次大于1，达到了“点火”标准。 看着到这，很多人都好奇，美国目前可控核聚变到底处于什么水平......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
高大型数据中心的能效。另外，cuLitho在GPU上运行的性能比当前光刻技术工艺提高了40倍，能够为目前每年消耗数百亿CPU小时的大规模计算工作负载提供加速。 英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“芯片......
，国产光刻机技术上与之差距太大，根本无法在高端市场上参与竞争，严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道，近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当，每年已经超过2000亿美......
今已经过去近一年半的时间了，其芯片技术到达了什么水平？ 近日，据俄罗斯媒体Vedmosit报道，俄罗斯自主芯片企业贝加尔电子（Baikal Electronics）在受到西方制裁之后举步维艰，其封......
想从事单片机工作，C语言要达到什么水平？;今天我来聊聊从事单片机开发工作，C语言要达到什么样的水平。 我用自己从入门到找到工作的经历来说或许更贴切点。 我是2011年毕业，非本专业，读的......
安装调试设备，以保证6月份顺利投产。 该项目现场负责人董中保表示，该项目完全建成投产后，可实现年产值20亿元，利税超亿元，是中国目前产品最齐全、技术水平最高的光刻胶材料研发制造基地，成为国产中高端光刻......
、镀膜、热处理等设备的国内自给率已经相对较高，都达到了≥10%的水平。而像光刻机、涂胶显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是芯片制造的核心设备光刻机方面。 ·国产光刻机比ASML落后15......
传华为要自研光刻机？;近日有消息称，“华为太难了，拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行，还要琢磨研究光刻相关技术...国内产业链在这些方面帮不上华为，华为只能自己来了！” 该爆料者还表示，希望......
人员。 在龙仁市新开通的极紫外光刻机培训中心，是阿斯麦在韩国的第二个培训中心。这一中心开通之后，阿斯麦在全球的极紫外光刻机技术人员的培训能力，预计将提升30......
以通过变道来避开障碍物。 日产的相关负责人表示：“我们已经了解如何实现 L4（特定条件下的全自动驾驶技术）辅助驾驶系统，但很难明确技术必须成熟到什么水平才能让客户安心使用。因此......
在世界上首次实现了1微米以下的曝光，此项技术作为“重要科学技术历史资料（未来技术遗产）”，于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。 目前佳能的光刻机阵容包括i线光刻机和KrF光刻机产品线，并根......
。 要知道，目前全球只有ASML能够生产先进的EUV光刻机，但ASML的光刻机汇集了世界高端技术的结晶，其中自然用到了很多含有美国设备的技术，所以ASML自由出货被美方拿捏得死死的。 不过......
也远比想象中要多。 虽然EUV并非通向先进制程的唯一之路，但只是都没那么好，或者太贵了，EUV仍然是现在最主要的方向。 对芯片行业来说，理想的光刻机技术应该是成本较低、通量高、特征尺寸小、材料......
全电池、长寿命电池方面仍需加大研发力度;电机系统方面，我国的高效高密度驱动电机系统等关键技术，相较国际先进水平仍有差距。关键零部件方面，车用芯片、高速轴承、智能汽车所需的毫米波雷达等，我国目前与国际先进水平......
对中国的制裁是在中国半导体行业取得突破的背景下实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握7纳米芯片的生产工艺，这让中国成为全球半导体行业的领军者之一。 但中国目前的主要问题不是芯片本身，而是生产芯片的工具，它更具垄断性，其关键是光刻机......
难求”现象愈演愈烈，光刻胶的供应难问题再次引发了业内的广泛关注。 日本地震破坏光刻胶产线 光刻胶是半导体的核心耗材，直接影响着晶圆的良率与品质。此前光刻胶的“涨价风波”对不......
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机技术......
好办法，也只能指望我的国产DUV光刻机可以早日出现，哪怕是28nm工艺，对于我国半导体产业来说，都是巨大的提振。 不过，笔者认为，我们现在也不必太过悲观，我们有全球最大的半导体市场，本身......
清华应届硕士炮轰某互联网大厂：恶意低薪2万，白读还倒贴！; 尽管当前就业形势不太乐观，但在招聘市场上，从211和985毕业的学生仍然是炙手可热的香饽饽。那么，这些名校毕业生的薪资到底能达到什么水平......
就“大炒概念”依然操之过急。国产设备隐形巨头  虽然消息并没有想象中那样“劲爆“，但上海微电子作为国内光刻机巨头的地位毋庸置疑。光刻机为什么这么难造？这是因为制造光刻机就像是在微观世界里“造房......
巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据......
泡沫的正是ASML。 2004年ASML与台积电合作推出“浸入式光刻”方案，一举在技术上超越尼康，短短五年时间，ASML就君临天下，振长策而于宇内，而尼康的光刻机开始隐声遁迹，最终......
丽国厂商把持的工艺设备。据方正证券的电子首席分析师陈杭表示，目前光刻机大致分为两类：一是DUV深紫外线光刻机，其可以制造0.13微米到7纳米的芯片；二是EUV极紫外线光刻机，适合7nm到3nm以下芯片。目前DUV光刻机......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发光刻胶，但它们还没有达到可靠性验证的水平。 光刻胶产业有着极高的行业壁垒。首先它对树脂和感光剂等原材料要求较高，并且制作技术壁垒高，在研发和量产上都需要企业的长期技术......
，再加之此次购得的KrF光刻机，公司已经到位5台光刻机。 公开资料显示，该公司3万吨电子级硫酸产线已于今年上半年顺利通车，经试生产调试，产品金属杂质含量低于10ppt，达到G5级水平，品质已达全球同行业第一梯队水平......
占据的领域，GPU完全可以依靠其并行计算的价值，将生产力提升至新高度。 NVIDIA CEO黄仁勋表示，“芯片行业是世界上几乎所有其他行业的基础，随着光刻技术达到物理极限，NVIDIA 推出......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶......
装备项目组经过近7年艰苦攻关，突破了多项关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10......
主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。 事实上，目前美国对光刻机采取如此严格的出口管控措施，与当年西方国家的对华武器禁运十分类似。现实情况是，近......
过科创板上市委会议，这意味着其距离上市又进了一步；上海微电子则专攻光刻机，其技术在中低端领域已达相对较领先水平，产品已实现90nm制程覆盖。 在众多设备领域中，光刻机可以说是我国......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
其他部分层继续使用多重曝光。”这也是个挺有趣的解读思路，毕竟Intel 7工艺就没有使用EUV光刻，但晶体管密度也达到了台积电7nm的相似水平。在EUV光刻机短缺的大前提下，大概......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm; ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
些厂商无法满足三星厚度的要求。 三星的上述经历，反映出当前光刻胶存在较高技术与市场壁垒。近年，受益于半导体市场快速发展，半导体上游材料光刻胶愈发受到关注。光刻胶为何如此重要？技术......
硅波导可以具有较小的波导弯曲半径。   还有一点很值得注意，就是对于我国目前的半导体产业来说，硅光子芯片有它独有的优势——可以避开先进光刻机的掣肘。虽然它在制作流程和复杂程度上同传统芯片相似，但是......
成股份利用现有厂区，在现有技术及工艺的基础上进行的产能扩充。 项目建设内容包括引进测试机、探针台、晶圆自动光学检测机、光刻机、内引脚接合机、物理气相沉积设备（溅镀机）、研磨机、晶粒挑选机、晶圆......
，到高等级自动驾驶阶段会超过3000个。预计到2030年，我国汽车芯片市场规模将达300亿美元，数量约1000亿~1200亿颗/年。面对需求量的增加以及目前国内市场出现的汽车芯片短缺，不少......
大幅降低半导体芯片的成本，如果现阶段的光刻机技术无法突破 1nm 工艺的话，那么这种新技术将从光刻机手中拿走接力棒，届时也将走进历史~ ......

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