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公司日前发生了变化，注册资金从1.2亿元增加到2.02亿元，增长68%，新增投资人包括华为旗下的哈勃投资，占股4.76%，成为第七大股东。科益虹源主要业务是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统，是国......
将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。 受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务 近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等高端光刻......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
功取得第一笔订单。 公告指出，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片所需的主流技术......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。 通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术......
涵盖先进半导体、先进显示和新能源等高端工业领域。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。 封面图片来源：拍信网......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3.45亿美元），工厂计划在2023年动工，2025年开始运营。 光刻是半导体电路形成不可或缺的核心技术，目前佳能在日本拥有2处半导体光刻......
专利，名为“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”，值得一提的是，该技术可以被应用于EUV光刻领域，并且，可以以此来提升光刻机的分辨率以及对比度。 目前来看，国产EUV光刻机仍需要大量的核心技术......
CIS集成电路半导体项目正式搬入ASML先进ArF光刻机设备；11月，位于上海临港新片区的鼎泰匠芯洁净室正式交付，还搬入了首台ASML光刻机。 ASML：一如既往地投入和支持中国市场 光刻机是半导体芯片的核心......
一中已经说了，半导体制造工艺有7大环节，光刻只是其一，成本占比仅30%，其并不能代表最迫切的技术需求。事实上中国并不缺光刻机，而是缺其他6类（沉积、刻蚀、离子注入、清洗、氧化、检测）被美......
相对保守，不过也于今年将在1γ（1-gamma）制程进行EUV技术试产，三大原厂集结，存储市场EUV光刻机时代开启。 美光1γ DRAM开启EUV试产 与其他半导体大厂相比，美光并不急于为DRAM芯片......
业业绩高增长有较强确定性。 2022年国内半导体设备企业专利概况 专利实力往往是企业技术创新水准与市场话语权的重要体现，国内半导体设备企业对其核心技术进行全面的专利布局，能够......
电路半导体项目也曾在今年年初迎来ASML先进ArF光刻机设备的搬入。 ASML：中国大陆是半导体行业的重要参与者，不能被忽视 众所周知，光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，被誉......
上海高端装备7000亿产业规划出台，集成电路定了重点;12月20日，《上海市高端装备产业发展“十四五”规划》（下称“规划”）发布。《规划》提出，  到2025年，初步建成具有全球影响力的高端装备创新增长极与核心技术......
家的i-line和KrF光刻机——面向各种类型的芯片，而且不仅是狭义的芯片制造，也包括一些现代化的封装技术。比如FPA-5520iV半导体i-line步进式光刻机也做晶圆级封装——主要针对一些多die......
形成积极的反馈循环。 2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。 「但技术的演进需要多年的持续研发，我们......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
实现更高的分辨率,提高芯片的质量和良率,帮助芯片制造实现更小的特征尺寸和更高的集成度,制造出更先进和更复杂的芯片,因此在先进制程中计算光刻的重要性愈发凸显。 cuLitho是否对传统计算光刻技术带来冲击?核心技术......
是当前行业研发的重点，掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔，从三大厂的动态来看，先进制程研发之争已开启。而光刻设备是芯片制造过程中的核心步骤，目前ASML是全球唯一掌握High-NA......
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。 先进制程竞争开战：光刻机“挺忙的” 在芯片制造中，先进制程技术是当前行业研发的重点，掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔，从三大厂的动态来看，先进......
俄罗斯已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机。 光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何......
-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。 后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术......
”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，就安排购买了ASML-1400光刻机等核心设 备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的 回复》中披......
及键合设备，是全球少数几家具备自主研发、设计并拥有核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商之一。 自主技术：ABM Inc.整机设备为自研自制，拥有超过2000项自主开发的光刻机重要零部件专有技术......
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机技术......
等终端产品。 据悉，美迪凯在超精密加工、晶圆研抛、光学薄膜设计及精密镀膜、半导体制程、光学新材料应用等领域均具有核心技术及自主知识产权，并得到国际知名客户的广泛认可，并且与京瓷集团、AMS、汇顶科技、舜宇......
以上信息可知，仅从光刻机和EDA这两个关键技术上来分析，在先进工艺芯片上来绕开美国技术几乎不可能。 华为“国产替代”带来的启示 2018年11月，华为曾首次公开其92家核心供应商，其中来自美国的供应商有33家......
光刻机订单占了30% ASML喊话：绝对不能失去中国市场;4月27日消息，荷兰ASML公司是全球唯一能量产EUV光刻机的公司，同时也是成熟工艺所需的DUV光刻机的主要供应商，该公......
等浸入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机主要有三大......
能向中国大陆芯片制造商出售最先进的EUV光刻机。据悉，中国大陆是ASML第三大市场，仅次于中国台湾和韩国，约占其2021年销售额的16%，即21亿欧元。不过，ASML可以继续向大陆客户销售DUV光刻机。 直到2023......
独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。 未来，三星......
路别人是走不通的。 ASML与全球众多的供应链，形成了捆绑关系，像蔡司等与ASML形成了利益共同体，光刻机中，蔡司等厂商至关重要，掌握核心科技，缺少这些供应链，其它厂商不可能制造出EUV光刻机。 所以......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司核心......
的EUV。 为争取更多的EUV光刻机，三星高层去年就到ASML总部争取 。今年6月14日，三星副会长李在镕造访ASML荷兰总部，拜会了ASML首席执行官Peter Wennink等高管，广泛讨论半导体技术......
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息，日前，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
半导体设备的关键零部件受制于人 以光刻机为例，光刻机中的核心镜头部件主要来源于日本的NIKON、德国的Zessi，现实情况，美日的盟国既可以购买高科技半导体产品，也可以购买高科技半导体设备及核心零部件。 一直以来，美国等发达国家对中国高端技术......
化空间音频。 OPPO 2020年提出3+N+X科技跃迁战略，其中3代表OPPO三大核心技术 —— 马里亚纳、潘塔纳尔、安第斯，分别对应OPPO的芯片业务、软件工程和云服务。 去年，OPPO首款......
370亿项目搬入光刻机;3月11日，广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目（以下简称“增芯项目”）迎来工厂最核心设备--光刻机搬入，标志......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
，拥有完整自主可控知识产权的高端光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，公司......
的推出，还将对全球半导体产业链产生积极的影响。芯片作为现代电子设备的核心部件，其质量和性能直接影响着整个产业的发展。而ASML的这款新型光刻机，通过提高芯片制造的精度和效率，将有助于提升整个半导体产业链的技术......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......

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