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加到每小时 400~500 片,从而提升单台光刻机的生产效率,在另一个侧面降低行业成本。 在演讲中范登布林克还提到:“当前人工智能的发展趋势表明,消费者对多种应用有着强烈的需求。而限制需求的因素包括能耗、计算能力和所需的海量数据集。” ......
正在全力增加产能,2018年EUV产能为20台,2019年有望提升到30台,2020年产能可达40台。 对于晶圆制造工艺未来发展趋势,沈波认为应主要关注三个方向。首先......
义此次演讲提出了多个观点,如摩尔定律的进展已接近物理极限;后摩尔时代的发展趋势是研发先进封装和电路板技术,即集成芯片;半导体主要芯片已不再掌握在少数厂商;以及中芯国际先进工艺和先进封装都会发展、半导......
科技和经济的基石,影响国家、社会未来发展,甚至改变全球格局。从手机、电脑、电视到汽车,芯片广泛应用。 中国以前无法在10年内制造EUV光刻机,甚至遭到ASML威胁,但预计2025年将推出样机,2030年实现量产,解决......
这并非本文要谈的重点,未来或许我们可以单独撰文探讨;而更迫在眉睫的乃是光刻机的短缺。 前不仅Intel才宣布了原本位于俄勒冈州波特兰(Portland)的一台EUV(极紫外光)光刻机,已经......
技术正不断向10nm级别靠近,甚至未来有望突破10nm以下,这一过程中,EUV光刻技术也将在未来发挥更加重要的作用。随着美光1γ DRAM开启EUV时代,三星等存储大厂继续深耕EUV,未来EUV光刻机有望在DRAM生产......
技术的不断成熟以及新型显示、引线框架以及新能源光伏等产业的不断发展,直写光刻设备在上述领域中的应用潜力逐渐被挖掘,产业化应用有望逐步拓展。 另外,芯碁微装紧跟下游半导体行业技术发展趋势,成功推出了应用于 IC......
球市场方面,ASML认为,人工智能可能成为推动社会生产力和创新的下一个重大驱动力。人工智能的崛起为半导体行业带来了显著机遇,预计这些发展趋势将有助于推动全球半导体销售额在2030年超过1万亿美元。这意......
快速发货流程的应用,以便帮助客户实现必要的产能扩张。 尼康 光刻机出货量倍增、积极开拓新客户 日媒报道,近期尼康提出半导体光刻设备业务新发展目标:到2026年3月为止的财年,将光刻机......
全球设备厂商各项数据及业界观点,目前设备已成为半导体产业中业绩确定性最强的细分领域,设备厂商对未来发展预期较为看好,扩产意愿普遍较强。 但是,设备厂商也很焦灼。据TrendForce集邦咨询6月下......
企业尼康和佳能较早宣布其扩产计划。 尼康光刻设备新的业务发展目标是截止到2026年3月份,光刻机的年出货量将比目前3年的平均水平增加一倍以上。 佳能方面,在今年10月4日,佳能宣布将投资超过500亿日元(约合......
长江存储被加入实体清单,未来发展和出货量将会受到影响。 在这种情况下,三星迅速决定,将其3D NAND Flash闪存芯片的报价提高了10%。 当然,生产NAND的国外厂商并不只是三星一家,SK海力士、美光、铠侠......
的技术依赖和市场地位给其带来了风险。我国光刻机技术的突破为其提供了发展机遇。ASML公司对华出口限制可能导致全球产业链发生变动,使全球科技企业遭受影响。中企需自主掌握核心技术,以应对国际形势的变动。在未来的发展中,光刻机......
于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术产品已达到国内领先水平。 报告期内,上海新阳主营业务仍然保持着规模继续扩大,技术快速提升,产品不断更新的发展趋势,晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长。分产品来看,其电子化学材料配套设备增长最快,实现......
首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展,美方不仅施压荷兰光刻机制造商,还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机,以及......
经历波折无数,未来也注定不会是平坦大道。它的魅力究竟在哪里,未来又会有哪些发展趋势呢?就让我们带着对浸入式光刻的疑问一探究竟吧。 为什么是浸入式光刻? 自从摩尔定律被提出,人类......
从ASML的一些数字,来看2030年的半导体行业发展趋势;所以我们2022年末接触到的不少半导体企业,还是有相当可观的业绩表现,而且对未来的市场也充满信心。在这种市场行情下,越是上游的企业,似乎越是对市场未来......
工艺应用结合的产物,将促进光刻工艺的革命性改进,符合国际光刻设备研究发展趋势,也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。 EUV光刻机,摩尔定律的拯救者 关于EUV技术可以溯源到20......
了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片,并有望进一步推动摩尔定律的发展。 据了解,这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值(NA),能够......
导体工艺技术和芯片设计的路径。按照规划,到2036年业界有望初步投产0.2nm工艺芯片。 芯片尺寸不断缩小,计算光刻未来发展空间广阔。除此之外,延续摩尔定律,实现更小芯片生产也需要更多先进技术,比如晶体管技术方面,IMEC认为......
的成本和物理极限的挑战限制了EUV光刻机的进一步发展,围绕光刻分辨率提升,光刻机走过了紫外光、深紫外光乃至如今的极紫外光技术路线,未来光刻机又将如何进一步提升,极紫外光势必不是光刻光源的终点所在。随着......
会更新产品线,满足客户需求,相信我们的市场会越来越大。” 其实从佳能提供的这些光刻机种类,也很容易理解,佳能光刻机业务的营收潜力巨大;尤其是在节能、减碳的大趋势下——这对......
礼还提到,由于晶圆代工厂之间的竞争态势,部分客户的新技术节点发展态势放缓,影响了对光刻设备的需求时间节点,尤其是在EUV光刻机方面。而在存储芯片领域,新增产能有限,发展重点依然是技术转型,以满......
的EUV。 为争取更多的EUV光刻机,三星高层去年就到ASML总部争取 。今年6月14日,三星副会长李在镕造访ASML荷兰总部,拜会了ASML首席执行官Peter Wennink等高管,广泛讨论半导体技术的未来......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
TCL成立半导体公司;合肥长鑫产能提前达产;上海新阳再购入光刻机;TCL拟10亿元设立半导体公司 3月10日晚间,TCL科技发布公告,为顺应国内半导体产业的蓬勃发展趋势,进一......
”。 在半导体技术高度竞争、激烈博弈的当下,我们既为人类科技进步感到欣喜,同时也不禁对我国的半导体产业发展有着一丝隐忧。cuLitho是否对传统意义上的计算光刻造成冲击?我国的计算光刻发展......
的升级就势必与分辨率水平相关联。 光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm 及更先进制程芯片的基础,采用了更加成熟化的极紫外光源,同时还采用了立体化的全数控光刻......
下一代EUV光刻机什么样?ASML来解答; 【导读】近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA......
体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。随着数字技术的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断升级。 首台日本产半导体光刻机PPC-1 佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1,今年是佳能正式投入半导体光刻机......
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
将密切关注复苏的拐点。 ▲图片来源:ASML官网 最后,Peter Wennink预测,在AI、工业物联网迅速发展以及能源转型等宏观趋势下,未来半导体产业都将迎来增长,即使......
ASML持续布局中国,又一台光刻机进入中国工厂;据重庆两江新区消息,12月27日,锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台ASML光刻机入厂。 锐石创芯是一家专注于高性能的4G/5G射频......
这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机设备,上海新阳在公告中指出,公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商,自立项进行光刻胶项目研发以来,将突破集成电路高端光刻胶国外垄断,实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展......
下一代EUV光刻机什么样?ASML来解答;近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机......
,其技术发展路径从接触式、接近式、投影式、步进式和扫描式光刻机。无掩膜光刻机主要为激光直写光刻机,主要应用于FPD、PCB、PV等泛半导体领域。 高精度:ABM Inc.的光刻机......
助于提升整个半导体产业链的技术水平和竞争力。这将有助于推动全球半导体产业的快速发展,为各类电子设备提供更加高效、可靠的芯片支持。 芯片制造的未来 尽管Twinscan NXE:3800E光刻机已经展现出了强大的市场潜力,但......
时间里,DRAM技术一直在突破向前。 当下新的技术解决方案如EUV光刻、HBM、3D DRAM、无电容DRAM等逐渐浮出水面,DRAM进入到下一个发展阶段,其未来技术路线如何呢? 壹 何为DRAM和......
一台3亿欧元!ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货; 综合韩联社、koreatimes报道显示,全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今......
光刻机方面发展势头良好,客户兴趣浓厚,而且良好地达到了客户预期。 截至二季度末,ASML未交付订单的总额已经达到390亿欧元。 ASML预计第三季度净销售额在67-73亿欧......
光刻机。在没有先进光刻机来发展先进制程的情况下,基于先进封装集成芯片应该是摆脱限制、发展自主高端芯片的必由之路。 从早期的微处理器,到后来的手机芯片,再到现在的智能手机,都有......
ASML摊牌了:可远程瘫痪台积电光刻机;“阿斯麦和台积电有能力瘫痪制造芯片的机器。”昨日,外媒一篇报道中,阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely disable)相应......
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入,使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限,从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中,EUV光刻机......
ASML今年下定了几个决心; 作为唯一一家控制着控制着半导体产业生命线的“EUV光刻机”的制造商,对行业趋势的洞察力无疑超过了其他公司。在日前召开的投资者大会上,对未来......
ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?;首席财务官达森(Roger Dassen)表示,技术路线发展受欧美限制,且已接近技术极限,此一技术路线前景不明。积极......
美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地完成了业界首台High-NA EUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤,为未来工艺路线图的生产做好准备。 2011年英特尔首发了FinFET工艺,22nm FinFET工艺......
前英特尔公司表示他们会率先使用下代EUV光刻机,已经巨资提前下单。 按照2025年出货的时间点来看,台积电、英特尔、三星的2nm级别工艺是赶不上的,最快也要到1.4nm工艺才能用上NA=0.55光刻机未来生产1nm工艺......
台积电狂言华为不可能追上:专家痛批没有先进光刻机啥也不是; 6月5日消息,近日,董事长刘德音发言引起了轩然大波,其直言华为不可能追上台积电。 有股东发言提及近华为发展......
,国产光刻机技术上与之差距太大,根本无法在高端市场上参与竞争,严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道,近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当,每年已经超过2000亿美......
SEMICON China 2021|吴汉明院士:本土可控的55nm芯片制造,比完全进口的7nm更有意义;“集成电路是一个非常典型的全球化产业。在后摩尔定律时代,产业技术发展趋势放缓,系统结构、特色......

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销售团队由知名电子元件供应商及代理商工作经验,熟悉各器件选型及未来发展趋势。 同时依托于IC公司的良好合作,对于通讯产品设计有敏锐的前瞻性。避免客户走弯路。
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
展览也因此成为发布和展示行业前沿研发技术、科技创新成果,展望未来发展趋势和走向、拓展业内信息交流渠道,拓展国内外销售市场,通过展示、参观、订货、采购等创造企业、市场、消费者多赢的合作平台。
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;新未来发展有限公司;;
;威可特电器配件(香港)有限公司;;秉承30余年的专业保护元件生产与服务经验,我们致力于过电流过电压的安全防护,产品在诸多电子电器产品领域均有不俗的表现. 环保、高质量及低功耗是电子电器产品现今及未来的发展趋势
;威可特电子科技有限公司;;秉承30余年的专业保护元件生产与服务经验,我们致力于过电流过电压的安全防护,产品在诸多电子电器产品领域均有不俗的表现. 环保、高质量及低功耗是电子电器产品现今及未来的发展趋势
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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机高新技术广告设备及专业喷绘耗材的贸易公司。一直以来,公司以紧跟世界高新技术广告设备发展趋势为立业之本,以大力推动中国广告喷绘业及标牌业的迅速崛起为己任。及时将最新技术广告设备及耗材介绍给全国范围内的每一位新老客户。 公司