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年初定下440亿资本开支目标的台积电，无奈之下已连续两次削减了资本开支，每次都是40亿美元，合计高达80亿美元，同时台积电还鼓励员工休假，并关闭了部分EUV光刻机。 反观28nm及以......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
购买ASML光刻机，晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日，晶瑞电子材料股份有限公司（以下简称“晶瑞电材”）发布公告称，公司......
传 ASML 将提供特供 DUV 给中国，官方回应！; 据业内消息，在荷兰对实施了出口管制措施之后，业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机，近日 ASML 官方......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
微电子装备将于今年年底开始量产28nm immersion式（沉浸式）光刻机，该设备于2021-2022年交付。28nm能大致满足除了手机、平板、电脑等产品之外的其他大部分应用，如果上海微电子装备光刻机......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 据悉，晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻......
设备将会供应到两家企业当中。 俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。之前俄罗斯表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机;据报道，中国将于年底推出首款 ，这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。本文引用地址：据《证券日报》报道，北京......
的企业，其90nm DUV光刻机在2016年已经通过验收，但45nm、28nm光刻机仍在研发过程中尚未量产，亟待突破。 结 语 从上文的各项数据来看，全球半导体设备市场几乎被美日荷所垄断，核心设备如光刻......
强调美日荷达成了某些协议。DUV光刻机不同于最先进的EUV光刻机，其主要生产的是14-28nm的芯片，这部分芯片虽不是最高端的类型，但是确实在市场中需求最大的部分。对于ASML来说，最先进的EUV光刻机......
/西部数据等都有机会获得转单，不过三星毕竟是NAND份额全球第一，自然受益也会最大。 并且三星涨价后，其他国外存储厂商也极有可能跟随，之前它们也都是这样操作的。 存储芯片厂商因为美方限制意外获益，光刻机......
亦庄此前报道，作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位，科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称，上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
有报道称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W设备。 上海微电子的第一大股东是上海电气控股集团有限公司，持股......
旗下参股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司（以下简称“芯刻微”）委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻......
14nm及以下的芯片制造设备。美媒传出消息，称正在向荷兰方面施压，要求ASML停止向中国芯片企业出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻机。不过，这次ASML反应不一样了，直接表示了拒绝态度。 全球......
国可自行决定是否发放敏感产品及技术的出口许可证，并在自愿的基础上向其他成员国通报有关信息。但该组织实际上完全受美国控制。此前，美国干涉了捷克向中国出口“无源雷达设备”的交易，最终导致交易失败。业内人士认为，ASML的EUV光刻机迟迟未交付，很可......
半导体设备的关键零部件受制于人 以光刻机为例，光刻机中的核心镜头部件主要来源于日本的NIKON、德国的Zessi，现实情况，美日的盟国既可以购买高科技半导体产品，也可以购买高科技半导体设备及核心零部件。 一直以来，美国等发达国家对中国......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
元。 除了半导体设备，中国大陆对半导体材料的需求量也在明显增加。 以光刻胶为例，这种精密材料约占晶圆材料制造成本的 13%，按照配套使用的光刻机类型，半导体光刻胶可划分为 g/I 线胶、KrF 胶、ArF......
半导体设备产业也正经历着“四大挑战”。 2015 年全球半导体市场市占率 （Source：拓墣产业研究所整理，SEMI， 2016.9） 中国半导体设备的关键零部件受制于人：以光刻机为例，光刻机......
注入机和涂胶显影设备等领域较为薄弱，但针对28nm及以上制程的工艺覆盖日趋完善，并且去胶、CMP、刻蚀和清洗设备已不断缩短差距。 在IC制造设备上，目前市场抢手的设备-光刻机，主要......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管......
莫大康的介绍，目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度，对于2nm的先进工艺，高数值孔径的EUV技术还亟待开发，光源、掩模工具的优化以及EUV的良......
再前进。 为此，美国从EDA、半导体设备、半导体材料、光刻机、人才等方面进行全面打压，目标明确，目的明显。 当然，这样的打压，确实对中国......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
，该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术，当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻，中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成，虽然这种做法技术难度大，良率较低，成本也高出许多。 目前中国......
芯片的成本完全不能与基于更先进的DUV光刻机或者EUV光刻机搭建的产线相比。 根据此前的财报数据，中国大陆是市场是ASML第三大的市场，营业收入达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的14.7%。 7. 戴尔......
芯片的成本完全不能与基于更先进的DUV光刻机或者EUV光刻机搭建的产线相比。 根据此前的财报数据，中国大陆是市场是ASML第三大的市场，营业收入达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的14.7%。 7. 戴尔......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国......
等信息，光刻机将这些图形曝光在涂有光刻胶的晶圆上，然后经过显影、清洗等步骤，就能把图形转移到晶圆上。 由于芯片内部结构复杂，一层掩膜难以包含全部电路信息，所以往往需要多层掩膜协助生产，随着......
型光刻机一台，并于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。据悉，该光刻机可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。 封面图片来源：拍信网......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
增强核心竞争力。项目达产后，将新增90nm-28nm高端掩模版产能2000片/月，总产能达5000片/月。 此外，宁波前湾新区管理委员会官网消息，近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机......
日，上海新阳又披露了其旗下参股子公司芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。 对于这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机......
，中芯国际、华虹集团、合肥晶合集成扩产最积极，扩产将聚焦于驱动芯片、CIS/ISP与功率半导体分立器件等特殊工艺。 实际上，光刻机巨头ASML在2024年第一季度的市场表现也能反映中国......
新能源汽车等新型产品对车载电子零部件和第三代半导体产品的增长需求是主要原因。 目前，日本生产半导体制造设备的企业主要包括Nikon(尼康)和Canon(佳能)，这两家公司在全球光刻机......
%。 此外，晶瑞股份在年报中表示，其于2020年下半年购买了ASML1900Gi型光刻机设备，正式启动ArF高端光刻胶研发工作，以研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻......
技术实现更小的特征尺寸，半导体制程引入了多重pattern技术。光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。 但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？;5月26日，举办“2024年技术论坛台北站”的活动，CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的总部，以及......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
越是对市场未来有信心。比如WFE（晶圆制造设备）市场就还挺红火——像ASML这样的参与者，其光刻机产品仍然是供不应求，且在未来数年内预期都如此。 前几个月，ASML 2022年Q2的订单（net......

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