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芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？(2022-11-29)
至今无法进入大陆市场，不过DUV光刻机还勉强能进来，即便如此，这对我国芯片产业也非常重要，在国内科研人员的努力之下，我国成功突破了14nm工艺芯片的量产。或许有人不知道，14nm是半导体制程工艺中的一个分水岭，能进......
国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
在半导体制造环节，光刻......
国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大”技术。本文引用地址：在半导体制造环节，是不可或缺的材料，其质......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
的背景下实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握7纳米芯片的生产工艺，这让中国成为全球半导体行业的领军者之一。
但中国目前的主要问题不是芯片本身，而是生产芯片的工具，它更具垄断性，其关键是光刻机......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
扫描的办法就可以得到超越衍射极限的光学成像。
遵循这个思路，华中科技大学国家光电实验室的甘棕松教授在国外攻读博士学位期间，采用类似方法在光刻制造技术上取得进展，成功突破光学衍射极限，首次在世界范围内实现了创记录的单线9纳米......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功......
台媒：ASML在手订单高达404亿欧元，EUV占55%(2023-01-30)
产能力。”
该公司曾宣布，计划在2025年至2026年，将EUV光刻机的年产能提高到90台，将DUV光刻机的年产能提高至600台（相关阅读：）。
此外，Peter Wennink也警告，美国领导的对中国半导体......
ASML在手订单高达404亿欧元 EUV占比过半(2023-01-31)
DUV光刻机的年产能提高至600台。
此外，Peter Wennink也警告，美国领导的对中国半导体出口管制，可能最终促使中国成功开发自己的先进半导体......
可怕的台积电，一口气买下5台EUV光刻机(2017-01-22)
衡量工艺进步的就是线宽，常说的xxnm工艺就代表这个，这个数字越小就代表晶体管越小，晶体管密度就越大。现在半导体公司已经进军10nm工艺，但面临的物理限制越来越高，半导体工艺提升需要全新的设备。EUV极紫外光刻机就是制程突破......
尽管受到制裁，去年中芯国际营收仍创历史新高(2023-03-30)
国内晶圆厂的产能仍不能满足市场需求，而其技术水平落后于全球同行。
业内分析人士认为，中芯国际的利润率在过去几年一定程度上受到了半导体短缺的保护，尤其是在成熟节点方面，但是随着全球芯片需求放缓，中国成......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
、良率和稳定性接近世界先进水平。国家主导的项目也取得了重大进展，自主研制的首台EUV光刻机成功通过验收。这一系列的突破为我国光刻机行业的发展提供了有力支撑。
ASML公司对华出口限制的影响
ASML公司对华出口限制可能打破世界半导体......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
着芯片制造技术的提升，一些半导体设备，制程工艺都在持续突破。
用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识，只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。
但是获取EUV光刻机是有难度的，一方......
ASML市值超过了昔日的全球半导体霸主英特尔！(2022-11-29)
出货量最多的厂商。凭借在光刻机领域的强大统治力，ASML的市值也达到了1855亿美元，这一数据也超过了昔日的全球半导体霸主英特尔的1200亿美元。
掌握了光刻机就相当于掌握了全球芯片产业的命脉，因此......
半导体制造大PK 工艺or大佬 谁定输赢？(2016-10-23)
半导体制造大PK 工艺or大佬 谁定输赢？;
当今的半导体行业竞争激烈，而晶圆制造作为关键的环节，厂商之间的竞争也是空前激烈，特别是英特尔（Intel）、台积电（TSMC）、三星......
SK海力士计划升级在华工厂，DRAM生产设备提升至第四代10nm工艺(2024-01-17)
SK海力士计划升级在华工厂，DRAM生产设备提升至第四代10nm工艺;
【导读】据韩媒《首尔经济》报道，韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，对其中国半导体......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全面禁止出口半导体......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
技术实现更小的特征尺寸，半导体制程引入了多重pattern技术。光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。
但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
程工艺可满足 65nm-90nm 光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。
此外，实现技术突破的还有彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞股份等等。
中国内资光刻胶公司当前产品突破及未来规划情况梳理
随着中国半导体光刻胶逐步突破......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国在半导体......
光刻机大厂：存储芯片2024年迎来增长，逻辑芯片小幅下滑(2024-01-25)
新增产能而非继续增加产能。从业务划分来看，2024年EUV业务将出现增长；而非EUV部分会小幅下滑，主要因为浸润式光刻机的销售预计将少于2023年。
业界表示，近年，存储芯片DRAM的制程进入了10nm级别，而且......
传荷兰最早下周发布新出口管制措施 限制ASML对华半导体设备出口(2023-06-25)
采访称，全球半导体供应链当中，任何单一国家想要与别人脱钩，“即便不是不可能，也会极为困难与昂贵”。日本光刻机制造商佳能和尼康便是前车之鉴。他们迟早要明白，半导体业的成功之道只有合作。他形容脱钩是“躲回......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
这场DRAM技术困局谁来破？(2022-08-26)
耗越来越低，传输速度越来越快、存储容量也越来越大；而从制程工艺的进展来看，早前产品的更新时间大致在3到5年更新一代，在步入20nm以内的制程后，DDR在制程上的突破进展呈现放缓趋势。
△全球半导体......
成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三(2021-12-09)
赛科首席执行官孙在亨介绍，英诺赛科于今年第二季度引进ASML光刻机，改善了光刻工艺窗口，进一步提高了产能和产线良率，随后在短短三个月内实现试生产，最终在10月进入正式量产阶段。
孙在亨表示，通过与半导体......
622 万亿韩元，韩国建半导体产业超级集群(2024-02-01)
622 万亿韩元，韩国建半导体产业超级集群;据了解，韩国芯片制造巨头 SK 海力士正在考虑打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，以提升其在中国的半导体工厂的技术水平。本文引用地址：业内......
7nm物理极限！1nm晶体管又是什么鬼？(2016-10-11)
制造技术在追赶西方的过程中始终被国外拉出一段距离。而近年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于中国半导体产业追赶西方来说是一大利好。
摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀......
SK海力士龙仁园区有望在下半年开建(2021-01-21)
安装EUV光刻机，以量产10nm 1a DRAM。该报道指出，EUV光刻机的安装时程需要3-6个月，因此SK海力士最快可以在今年上半年量产第一批产品。
封面图片来源：SK Hynix......
三星重新赢回苹果A系列芯片订单，台积电面临新挑战(2017-07-19)
」引述知情人士报导，明年苹果将会在手机中采用A11应用处理器，而台湾的半导体巨头台积电，已经获得了苹果晶片的代工订单。Digitime」引用内部人士消息称，台积电将在苹果A11处理器上使用10nm......
反超开始！中国半导体已初现端倪！(2023-03-03)
资金。
成立短短4年，哈勃投资累计已投资公司有69家，其中电子产业的占比达到了 53.6%，主要投资在半导体领域，在所有投资的企业中，成功上市的企业已有9家。
华为大举投资半导体领域并取得了成功，也正反映了中国......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。
表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型
从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂(2022-11-28)
ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！
▲首台设备搬入
造芯：预计......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
量产的话，将具有革新意义，压倒性地降低逻辑电路生产成本”。
“这个设备目前还在做量产评价，目前十几纳米已经成功实现。”“我们相信将来是能够做到的。”
3.面对半导体光刻机供不应求的市场现状，佳能......
7nm 是物理极限？ 那刚发布的 1nm 是什么概念？有商业化价值吗？(2016-10-18)
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
7nm 是物理极限？ 那刚发布的 1nm 是什么概念？有商业化价值吗？(2016-10-18)
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
台积电7nm样品已流片，三星加速追赶(2017-07-18)
《苹果的芯片帝国雄心》
回复 张汝京 ，看《中国半导体教父张汝京的“三落三起”》
回复 国产 ，看《国产手机崛起背后的最大受益者》
回复 ASR ，看《ASR收购Marvell......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
集成电路创新应用高峰论坛上，SEMI中国区总裁居龙给出了一张去年全球前10的IC设备厂商排名，且营收增长惊人，但是排名中无一中国厂商，并且中国本土厂商的半导体设备只占全球市场份额的1~2%。显然，此次国产超分辨力光刻机......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机(2023-08-03)
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机;据报道，中国将于年底推出首款 ，这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。本文引用地址：据《证券日报》报道，北京半导体......
王键：日美半导体合作各怀心思(2022-11-25)
产业链的优势支撑，如尼康、佳能仍占有全球光刻机市场近40%的份额，几乎垄断硅片、光刻胶等原料市场，日本还研发出无需光刻机的NIL工艺并且突破到10nm等。但日本试图借Rapidus重振......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！(2023-05-29)
直接集成在上面。”
随着 ChatGPT 的兴起，带动了人工智能产业的蓬勃发展，AI 的背后就需要强大的硬件算力支持，也就是芯片。
该技术不需要光刻机就可以使芯片轻松突破 1nm 工艺，也能大幅降低半导体......
AMD将领先Intel迈进7nm时代，GlobalFoundries制造？(2017-07-25)
个关键节点是7nm，后者将宣告半导体正式迈进入10nm阶段。据EE Times报道，AMD CTO Mark Papermaster近日接受了采访，他表示，AMD将是第一批采用7nm工艺......
投资2400亿韩元，ASML去韩国了(2021-05-17)
及生产运营等所需的物料提供更高水准的物流支持。
ASML的生意经
随着近几年半导体产业的发展，以及EUV技术的大规模应用，ASML的EUV光刻机订单在稳步上涨，2018年到2020年三......
工业大盘点的风吹到了半导体设备(2024-02-06)
设备、光刻
量测
公开资料显示，量测检测设备的市场空间仅次于光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备，据中国国际招标网公开数据统计显示，量测检测设备是除光刻机外，国产化率最低的一环核心设备，市场主要被科磊半导体......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
主要存在以下解决方案：1、中美针对华为事件重新谈判，说服美国放宽限制；2、华为重构全球芯片供应链，新供应商绕过美国技术；3、中国半导体设备厂商加紧追赶，突破高端光刻机等关键设备、EDA软件、IP授权......
莫大康：重启专项加速国产化进程(2021-06-02)
集中体现西方近百年来的工业结晶。近期在求是缘举办的光刻机座谈会上，傅新教授谈到在光刻机研发中，可能是中国缺乏高精度加工的设备及部分材料等。由此表明要全盘国产化是十分艰难的。只有选择性的进行突破，长自己的志气，才有希望。因此对于半导体......
Q1中国大陆芯片产量达981亿颗，同比大涨40%！(2024-04-22)
，中芯国际、华虹集团、合肥晶合集成扩产最积极，扩产将聚焦于驱动芯片、CIS/ISP与功率半导体分立器件等特殊工艺。
实际上，光刻机巨头ASML在2024年第一季度的市场表现也能反映中国......
TCL成立半导体公司；合肥长鑫产能提前达产；上海新阳再购入光刻机(2021-03-14)
TCL成立半导体公司；合肥长鑫产能提前达产；上海新阳再购入光刻机;TCL拟10亿元设立半导体公司
3月10日晚间，TCL科技发布公告，为顺应国内半导体产业的蓬勃发展趋势，进一步完善在半导体......
晶瑞股份之后，这家公司与ASML签署了批量购买协议(2021-01-22)
晶瑞股份之后，这家公司与ASML签署了批量购买协议;近日，国内半导体企业与ASML的合作接连传来好消息。继近日晶瑞股份成功ASML XT 1900 Gi型光刻机之后，国内第三代半导体......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
，为了进一步扩大业务范围，佳能开始了半导体光刻机的研发，并于1970年成功发售日本首台半导体光刻机PPC-1，正式进入半导体光刻机领域。
佳能于1975年发售的FPA-141F光刻机......
ASML：半导体制造工艺演进三个方向(2022-12-29)
尔与台积电等三巨头坚信先进工艺研发在经济上的必要性而对ASML予以援手，EUV研发很有可能半途而废。沈波表示，从浸润式光刻机到EUV，ASML等厂商与半导体制造业主要客户一步一个脚印，突破原有技术限制，不断为半导体制造技术工艺向前发展取得进展，三巨......
相关企业
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;杭州富阳新颖电子有限公司;;杭州富阳新颖电子有限公司是一家专业从事太阳能光电技术的研发、生产、销售和服务于一体的高新技术企业，继太阳能照明取得成功突破之后,结合控股公司---杭州
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
激光打标机，端泵激光打标机） 泉州晋江，南安，石狮，安溪，永春，惠安，德化，泉港半导体激光打标机,光纤激光打标机，二氧化碳激光打标机，激光雕刻机，激光切割机。程光激光打标机，雕刻机品质好，价格低，稳定
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
良好的客户关系及完善的市场销售体系。在中国成功企业与世界优秀器件生产商之间搭起了一座沟通合作的桥梁。
;上海星捷激光设备有限 公司;;上海星捷激光设备有限公司自成立以来一直致力于激光成套设备的研发、生产、销售和服务的新兴高科技企业。激光打标机021-33586469，上海激光打标机，半导体
;上海星捷激光设 备有限公司;;上海星捷激光设备有限公司自成立以来一直致力于激光成套设备的研发、生产、销售和服务的新兴高科技企业。激光打标机021-33586469，上海激光打标机，半导体
，我们相继开发了微型针孔镜头、半导体光刻机镜头、光刻激光照明系统、双探测器变焦镜头、GPI系列医用光学适配器、GPI医用摄像机、GLN系列激光夜视系统、GLN系列激光照明系统、透雾摄像机等产品。其中
;华晨激光;;激光刀模切割机系列;C02激光切割机系列;C02激光打标机; 无尘布无纺布（双头）切割机;电子模型行业专用镭射切割雕刻机;激光裁床机;半导体激光打标雕刻机;