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至今无法进入大陆市场，不过DUV光刻机还勉强能进来，即便如此，这对我国芯片产业也非常重要，在国内科研人员的努力之下，我国成功突破了14nm工艺芯片的量产。或许有人不知道，14nm是半导体制程工艺中的一个分水岭，能进......
国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 在半导体制造环节，光刻......
国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大”技术。本文引用地址：在半导体制造环节，是不可或缺的材料，其质......
的背景下实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握7纳米芯片的生产工艺，这让中国成为全球半导体行业的领军者之一。 但中国目前的主要问题不是芯片本身，而是生产芯片的工具，它更具垄断性，其关键是光刻机......
扫描的办法就可以得到超越衍射极限的光学成像。 遵循这个思路，华中科技大学国家光电实验室的甘棕松教授在国外攻读博士学位期间，采用类似方法在光刻制造技术上取得进展，成功突破光学衍射极限，首次在世界范围内实现了创记录的单线9纳米......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功......
产能力。” 该公司曾宣布，计划在2025年至2026年，将EUV光刻机的年产能提高到90台，将DUV光刻机的年产能提高至600台（相关阅读：）。 此外，Peter Wennink也警告，美国领导的对中国半导体......
相对保守，不过也于今年将在1γ（1-gamma）制程进行EUV技术试产，三大原厂集结，存储市场EUV光刻机时代开启。 美光1γ DRAM开启EUV试产 与其他半导体大厂相比，美光并不急于为DRAM芯片......
元。 除了半导体设备，中国大陆对半导体材料的需求量也在明显增加。 以光刻胶为例，这种精密材料约占晶圆材料制造成本的 13%，按照配套使用的光刻机类型，半导体光刻胶可划分为 g/I 线胶、KrF 胶、ArF......
DUV光刻机的年产能提高至600台。 此外，Peter Wennink也警告，美国领导的对中国半导体出口管制，可能最终促使中国成功开发自己的先进半导体......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
衡量工艺进步的就是线宽，常说的xxnm工艺就代表这个，这个数字越小就代表晶体管越小，晶体管密度就越大。现在半导体公司已经进军10nm工艺，但面临的物理限制越来越高，半导体工艺提升需要全新的设备。EUV极紫外光刻机就是制程突破......
国内晶圆厂的产能仍不能满足市场需求，而其技术水平落后于全球同行。 业内分析人士认为，中芯国际的利润率在过去几年一定程度上受到了半导体短缺的保护，尤其是在成熟节点方面，但是随着全球芯片需求放缓，中国成......
、良率和稳定性接近世界先进水平。国家主导的项目也取得了重大进展，自主研制的首台EUV光刻机成功通过验收。这一系列的突破为我国光刻机行业的发展提供了有力支撑。 ASML公司对华出口限制的影响 ASML公司对华出口限制可能打破世界半导体......
着芯片制造技术的提升，一些半导体设备，制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识，只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的，一方......
出货量最多的厂商。凭借在光刻机领域的强大统治力，ASML的市值也达到了1855亿美元，这一数据也超过了昔日的全球半导体霸主英特尔的1200亿美元。 掌握了光刻机就相当于掌握了全球芯片产业的命脉，因此......
终端研发制造基地，涵盖研发测试、生产制造、成品检测、仓储配套等，形成完整的北斗装备智能制造及应用服务链。 光刻机在半导体芯片制造中扮演着至关重要的角色，决定了芯片制程、性能和成本。光刻机......
半导体制造大PK 工艺or大佬 谁定输赢？; 当今的半导体行业竞争激烈，而晶圆制造作为关键的环节，厂商之间的竞争也是空前激烈，特别是英特尔（Intel）、台积电（TSMC）、三星......
SK海力士计划升级在华工厂，DRAM生产设备提升至第四代10nm工艺; 【导读】据韩媒《首尔经济》报道，韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，对其中国半导体......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全面禁止出口半导体......
技术实现更小的特征尺寸，半导体制程引入了多重pattern技术。光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。 但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片......
程工艺可满足 65nm-90nm 光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。 此外，实现技术突破的还有彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞股份等等。 中国内资光刻胶公司当前产品突破及未来规划情况梳理 随着中国半导体光刻胶逐步突破......
新增产能而非继续增加产能。从业务划分来看，2024年EUV业务将出现增长；而非EUV部分会小幅下滑，主要因为浸润式光刻机的销售预计将少于2023年。 业界表示，近年，存储芯片DRAM的制程进入了10nm级别，而且......
节点上进行验证和学习，然后再将High-NA EUV光刻机应用于Intel 14A制程的量产。 上个月英特尔晶圆代工（Intel Foundry）宣布，已在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国在半导体......
，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及......
，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D......
EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产品命名NXE系列，包括已有的3400B/C......
耗越来越低，传输速度越来越快、存储容量也越来越大；而从制程工艺的进展来看，早前产品的更新时间大致在3到5年更新一代，在步入20nm以内的制程后，DDR在制程上的突破进展呈现放缓趋势。 △全球半导体......
采访称，全球半导体供应链当中，任何单一国家想要与别人脱钩，“即便不是不可能，也会极为困难与昂贵”。日本光刻机制造商佳能和尼康便是前车之鉴。他们迟早要明白，半导体业的成功之道只有合作。他形容脱钩是“躲回......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破......
622 万亿韩元，韩国建半导体产业超级集群;据了解，韩国芯片制造巨头 SK 海力士正在考虑打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，以提升其在中国的半导体工厂的技术水平。本文引用地址：业内......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
赛科首席执行官孙在亨介绍，英诺赛科于今年第二季度引进ASML光刻机，改善了光刻工艺窗口，进一步提高了产能和产线良率，随后在短短三个月内实现试生产，最终在10月进入正式量产阶段。 孙在亨表示，通过与半导体......
一定比例的提升。 比如说工艺，实际的晶体管金属间距大约为16-12nm，之后将继续缩减到14-10nm。 Low/High/Hyper三种光刻机会共同使用单一的EUV平台，大量的模块都会彼此通用，从而......
安装EUV光刻机，以量产10nm 1a DRAM。该报道指出，EUV光刻机的安装时程需要3-6个月，因此SK海力士最快可以在今年上半年量产第一批产品。 封面图片来源：SK Hynix......
制造技术在追赶西方的过程中始终被国外拉出一段距离。而近年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于中国半导体产业追赶西方来说是一大利好。 摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀......
」引述知情人士报导，明年苹果将会在手机中采用A11应用处理器，而台湾的半导体巨头台积电，已经获得了苹果晶片的代工订单。Digitime」引用内部人士消息称，台积电将在苹果A11处理器上使用10nm......
ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！ ▲首台设备搬入 造芯：预计......
资金。 成立短短4年，哈勃投资累计已投资公司有69家，其中电子产业的占比达到了 53.6%，主要投资在半导体领域，在所有投资的企业中，成功上市的企业已有9家。 华为大举投资半导体领域并取得了成功，也正反映了中国......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
量产的话，将具有革新意义，压倒性地降低逻辑电路生产成本”。 “这个设备目前还在做量产评价，目前十几纳米已经成功实现。”“我们相信将来是能够做到的。” 3.面对半导体光刻机供不应求的市场现状，佳能......
《苹果的芯片帝国雄心》 回复 张汝京 ，看《中国半导体教父张汝京的“三落三起”》 回复 国产 ，看《国产手机崛起背后的最大受益者》 回复 ASR ，看《ASR收购Marvell......
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
产业链的优势支撑，如尼康、佳能仍占有全球光刻机市场近40%的份额，几乎垄断硅片、光刻胶等原料市场，日本还研发出无需光刻机的NIL工艺并且突破到10nm等。但日本试图借Rapidus重振......
1990年代的ASML，正处于爆发前夕。在过去的20年里，其光刻机几乎遍布全球主要半导体产业集中地，成功树立了ABM光刻机的国际品牌。未来，ABM将持续打造为光刻设备的国际化产业平台。作为中国光刻机......
集成电路创新应用高峰论坛上，SEMI中国区总裁居龙给出了一张去年全球前10的IC设备厂商排名，且营收增长惊人，但是排名中无一中国厂商，并且中国本土厂商的半导体设备只占全球市场份额的1~2%。显然，此次国产超分辨力光刻机......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机;据报道，中国将于年底推出首款 ，这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。本文引用地址：据《证券日报》报道，北京半导体......
产品的增长需求是主要原因。 目前，日本生产半导体制造设备的企业主要包括Nikon(尼康)和Canon(佳能)，这两家公司在全球光刻机......

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