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通过改进透镜和镜台等光学零部件，来提高曝光精度，增加布线密度，从而实现3D光刻，用以满足人工智能领域所需的大型半导体的生产需求，佳能新型3D光刻机有望于明年上半年上市。 TSS 2022亮点......
-2026年每年扩大到90台低数值孔径极紫外光刻机，以及20台高数值孔径极紫外光刻系统（High NA EUV）；到2027年-2028年，每年将推出新光刻工具。 新的发展赛道即将来临 ASML、尼康、是全球光刻机......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳能......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日，据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！;据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
划将于2025年12月31日之前执行。 公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机企业尼康和佳能......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
了大部分的市场。根据统计数据显示，2020年全球半导体光刻机总销量约413台，销售额约130亿美元，其中用于晶圆制造的基本均为ASML、尼康和佳能三家公司的产品。如果以销量来看，ASML销量为258台占比62%（其中......
%左右，其他的对手包括尼康，佳能等。 当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售了四台，单台的平均售价达1.1亿美元，最新......
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
。 对比当前型号，它的整体生产效率可提高10-15%，创下尼康光刻设备的新高，每小时可生产280片晶圆，停机时间也更短。 尼康还表示，在不牺牲生产效率的前提下，新光刻机......
丽的报表： 可以看出尼康的芯片光刻机惨不忍睹，算上尼康的面板光刻机（至少比佳能强多了），一共33台，平均单价只有14亿日元多（其中包含了solution的销售额，扣除solution销售......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
本的尖端芯片。 根据报道，佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。 佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的DUV和EUV工具，而是......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印光刻......
提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品;提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品 在日趋复杂的先进半导体制造工序中实现高精度的校准测量 佳能将于2023年2月21日推......
订单，占比已经达到约45%。 当季，ASML售出光刻机整整100台，比一季度增加30台，其中全新光刻机89台、二手光刻机11台，分别增加23台、7台。 其中，在0.33数值......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。 7......
的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。 图片来源：全球半导体观察制图 目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。 据外媒公开消息，俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂，分别是Mikron和......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂; 正在东京以北的栃木县宇都宫建厂，估计耗资 500 亿日元(约合 3.66 亿美元)。 该工厂将用于制造 KrF 和 i-line......
率为50.5%，净利润为56亿欧元。 另外，2022年底，ASML未交付订单创下历史新高，达404亿欧元，该年总共销售317台新光刻机，较前一年增长31台，此外还出货了28台二手光刻机......
1041.34美元。今年以来，ASML的股价累计上涨约35%。 ASML的最新光刻机能在上刻画宽度仅为8纳米的线条，为上一代设备的1.7分之一，这将被用于生产支持人工智能应用和先进消费电子的芯片。 这款......
所能达到的1.8nm更先进，这可能会要了ASML的命。 其实ASML称霸光刻机市场也不过是自2008年开始，此前光刻机市场的两强是日本的佳能和尼康，ASML通过与台积电研发浸润式光刻机，共同......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
收获存储客户多个订单，2552亿美元光刻机巨头公布最新财报;4月20日，半导体设备光刻机巨头ASML公布了最新财报。 数据显示，2022年第一季度，ASML实现了净销售额35.34亿欧元，毛利......
%。 按产品来看，一季度，ASML共售出100台光刻机，其中全新光刻机96台，二手光刻机4台。该季度ASML新增订单金额为37.5亿欧元，较上......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
最终将是截至2021年3月的财政年度规模的两倍左右。 光刻机设备厂商佳能也宣布将在宇都宫建造一座新工厂，计划于2025年春季启动，它将使全公司的产能翻一番。佳能高级管理执行官Hiroaki......
是半导体芯片的核心生产部件，是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备，被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等，在国产化的浪潮下，如上......
%；净利润12亿欧元（当前约92.4亿元人民币），环比下降 40%，低于分析师预期。 在光刻机产品出货方面，该公司第一季度售出的全新光刻系统和二手光刻系统分别为66台和4台，相比上一季度的113......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极......
市场高度集中，全球掌握该技术的只有少数几家企业，其中荷兰ASML是全球最大的光刻机企业，也是全球最先进的光刻机企业，此外，尼康、佳能、上海微电子装备等公司亦在积极布局光刻机领域。 而用于曝光半导体的极紫外光刻......
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业：不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外，还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻......
日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场，也是唯一能量产EUV光刻机（可生产7nm/5nm的芯片）的厂商。 据半导体咨询公司VLSI Research发布的“2019年全......
链进口替代浪潮呼声越来越高，国内掩膜版厂商以此为契机发展迅速。 光刻机企业回应市场需求 全球光刻机市场，ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额，面对日益高涨的市场需求，三家光刻机......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......

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