日本研发木基光阻剂,可满足2纳米制程需求

发布时间:2025-01-25  

日本两大纸业巨头之一的Oji Holdings正在向成为一家木制材料综合企业转型,其最新目标是开发一种采用木基生物质材料的正性光阻剂,目标是到2028年达成商业化。

根据日本媒体报导,Oji Holdings在光阻剂生产上的技术路线,原则是从木材中提取可用于光阻剂的前体材料,然后将前体材料和特定溶剂混合聚合、并采用净化技术去除杂质之后,这样就得到了光阻剂的成品。对此,Oji Holdings宣称其木基光阻剂可满足2纳米先进制程需求,这代表的也是针对日本新创晶圆代工厂商Rapidus的商机而来。

事实上,传统的正性光阻剂通常需要添加有害的永久化学品PFAS来提高光敏感度。而Oji Holdings的木基光阻剂在EUV极紫外光下的降解速率,相较传统产品高出8倍,特性取消了了PFAS的使用需求,而且更为环保的同时也可提升先进制成图案化的质量。

此外,传统光阻剂多为石油基塑胶制品,木基光阻剂在生产原料上也可降低了温室气体的排放数量。Oji Holdings表示,其在木基光阻剂上的商业目标是到2030年之前每年达到100亿日元的销售金额。

文章来源于:全球半导体观察    原文链接
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