韩国存储器大厂三星宣布,开始大规模生产全球业界最薄12纳米级LPDDR5X DRAM封装,巩固低功耗DRAM市场领导地位。四层堆叠,每层堆叠两层结构,有12GB和16GB两种容量。
三星表示,利用芯片封装专业知识,提供超薄LPDDR5X DRAM封装,以便行动设备有更多空间,提升散热效果。支援更简单热控制,因需求越来越重要,特别是高效能运算功能应用,如数据中心AI服务器。
三星以最佳化印刷电路板(PCB)和环氧树脂模塑胶(EMC),结合晶圆背面研磨,最大限度降低封装高度,LPDDR5X DRAM存储器封装薄如指甲,高度仅0.65mm,打造12GB以上同类产品最薄存储器封装模组,比上代厚度减少约9%,耐热性能提高约21.2%。
三星将以新0.65mm LPDDR5X DRAM扩大低功耗DRAM市场,更小封装尺寸的高性能、高密度行动存储器解决方案需求持续成长,三星也继续打造六层堆叠24GB和八层堆叠32GB模组,提供最薄LPDDR DRAM封装。
封面图片来源:拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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