韩媒:三星3nm制程良率大幅提升

发布时间:2023-01-10  

【导读】据韩国经济日报报道,据业内人士消息,三星电子大幅提高了3nm芯片的产量,似乎是良率问题得到了解决。

韩媒:三星3nm制程良率大幅提升


据韩国经济日报报道,据业内人士消息,三星电子大幅提高了3nm芯片的产量,似乎是良率问题得到了解决。


相比于此前受困了良率问题,三星一位高管在受访时表示,三星第一代的3nm制程良率“接近完美”,第二代3nm芯片技术也迅速展开。“我们现在正在马不停蹄地开发第二代3nm芯片。”他告诉韩国经济日报。


产量意味着晶圆上还剩下多少芯片,因此是半导体工艺节点盈利能力的关键。


中国台湾媒体报道称,台积电的3nm工艺实现了高达85%的生产良率,高于三星。韩媒称,这一数字过于夸张,韩国行业消息人士认为实际可能在50%。他们表示,考虑到台积电向苹果大规模生产和交付业界最小的芯片的周期,其产量最多为50%。


据台媒DIGITIMES报道,三星电子将在其3nm工艺中采用透光率超过90%的最新EUV薄膜(pellicle)以提高良率,这些薄膜将来自韩国公司S&S Tech。

(来源:集微网)


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