5月7日消息，由于质疑竞争对手的技术进展，三星决定公开自家DRAM产品的电路线宽，以显示三星在该领域的技术领先地位。据韩媒 BusinessKorea 报导，三星准备打破DRAM业界传统，将公布自家DRAM产品电路线宽。

上述报导指出，DRAM 电路线宽被业界认定为衡量存储器公司技术能力的重要指标，DRAM的电路线宽越窄，其功率效率就越高。 因此，过去DRAM业界的传统就是不明确公开相关产品的确切电路线宽。 

并且，随着DRAM制程技术在2016年进入10纳米级制程后，DRAM制造商也普遍达成共识，通过不公开相关参数来避免过度竞争。 原因主要在于进入到10纳米级制程后，电路线宽每缩小1纳米，需要2到3年的研发投入，如此长的研发时间意味着以技术议题为营销卖点的意义并不大。

基于以上因素，在过去的5到6年间，全球DRAM厂商事实上从未确实的发表过DRAM产品的电路线宽数字。 这也是DRAM产业普遍将2016年推出的10纳米级制程归类为第一代1x纳米制程，将2018年推出的10纳米级制程归类为第二代1y纳米制程，以及在同一年推出的10纳米级制程归类为第三代1z纳米制程，之后于2021年初问世的第四代10纳米级制程，将其称之为1a纳米制程。

报导强调，就因为DRAM厂商普遍将10纳米级制程以1x纳米制程、1y纳米制程、1z纳米制程等来称呼，所以很难确切比较如三星的1z纳米制程DRAM和美光的1z纳米制程DRAM在电路线宽上的差异。为此，三星决定放弃传统的模糊化表述，预计将公布旗下各 10 纳米级制程 DRAM 产品电路线宽。除了揭示三星对自身制程技术的信心外，这似乎也预示着这一领域的技术竞争将再次激烈化。

三星表示，将在2021年下半年量产1a纳米制程DRAM，该产品的电路线宽为14纳米。 事实上，三星是全球第一家在 2016 年初开始量产第一代 1x 纳米制程 DRAM 的公司，量产时间领先SK 海力士和美光大约半年到1年。 到了2019年开发出1z纳米制程DRAM前，即使三星没有公布其DRAM电路线宽，却也无人否认三星在DRAM产业中处于技术领先地位。

领先局面在第四代1a纳米制程DRAM产品上被打破。 全球第三大DRAM制造商美光在2021年1月宣布，已开发出全球首个1a纳米制程DRAM，且已投入量产，这使得美光在技术上一口气超越了此前的龙头三星。 面对这一情况，三星主管DRAM的DS业务高层表示了忧心与不满，他认为三星过去生产的1x、1y和1z纳米制程DRAM的性能远远优于竞争对手，如今在技术上被超越是很大的冲击，并且对美光宣称的1a纳米制程DRAM的实际情况表示怀疑。

报导强调，三星不仅怀疑美光夸大其1a纳米制程DRAM的效能，而且，由于至今未看到美光发表相关产品的照片，也质疑其1a纳米制程DRAM是否已真的可进行大规模量产。 因此，三星决定明确公布其下各代10纳米级制程DRAM的电路线宽数字。

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