9 月 19 日消息,据英特尔官网新闻稿报道,英特尔日前推出了用于下一代先进封装的玻璃基板,英特尔公司高级副总裁兼装配与测试开发总经理 Babak Sabi 表示,“这项创新历经十多年的研究才得以完善。”
▲ 图源 英特尔
IT之家从文中注意到,与现代有机基板相比,该玻璃基板具有“更好的热性能、物理性能和光学性能”,可将互连密度提高 10 倍。该玻璃基板还能承受更高的工作温度,并能通过增强的平面度将图案失真减少 50%,从而提高光刻的聚焦深度,并为设计人员提供了更多的电源传输和信号布线灵活性。
得益于以上特性,增强的玻璃基板性能够提高装配良率,减少浪费,从而令使芯片设计人员能够在单个封装的较小尺寸内封装更多的芯片(或芯片单元),同时最大限度地降低成本和功耗。
英特尔表示,几十年来,该公司一直是“半导体行业的领头羊”。上世纪 90 年代,这家芯片制造商率先从陶瓷封装过渡到有机封装,并率先推出了无卤素和无铅封装。
英特尔同时声称,下一代玻璃基板最初将用于需要较大尺寸封装的应用,如涉及数据中心和人工智能的商业方面。该公司预计将从 2025 年后开始提供完整的玻璃基板解决方案,并有望在 2030 年之前在封装上实现 1 万亿个晶体管。
文章来源于:电子工程世界 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的,且明确注明来源,不希望被转载的媒体或个人可与我们联系,我们将立即进行删除处理。
相关文章
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具?(2023-10-10)
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具?;近期,俄罗斯国际新闻通讯社报道,俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。
据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用......
EUV将成主流,哪些公司将受伤?(2017-04-05)
EUV有望在未来几年成为主流。
随着半导体制程工艺演变,工艺推进的成本也越来越高,如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家:GlobalFoundries,Intel,三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?(2023-04-06)
实现更高的分辨率,提高芯片的质量和良率,帮助芯片制造实现更小的特征尺寸和更高的集成度,制造出更先进和更复杂的芯片,因此在先进制程中计算光刻的重要性愈发凸显。
cuLitho是否对传统计算光刻技术带来冲击?核心技术有哪些......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪,整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
在不使用EUV光刻机的情况下,实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。
封面图片来源:拍信网......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期,国际新闻通讯社报道,在开发可以替代的工具。据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于在微电子领域技术......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具:还要生产7nm芯片(2023-10-10)
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具:还要生产7nm芯片;
10月10日消息,这对于ASML来说是不是有点魔幻,俄罗斯号称开发出可以替代的芯片制造工具。
据俄罗斯国际新闻通讯社报道,圣彼......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂(2022-12-13)
,还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。
KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术,但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商(2022-01-26)
中,ASML公司还新增了71亿欧元的新订单,其中就有一套NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售,这是ASML下一代光刻机,订购这个光刻机的是Intel,据说成本高达3亿美元,约合19亿元。
4年来......
俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
日本尼康和荷兰ASML。然而,其对于半导体的生产相当重要。
Vasily Shpak表示,2024年就将拨款2114亿卢布用于俄罗斯电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米光刻机的......
EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?(2017-02-06)
经历波折无数,未来也注定不会是平坦大道。它的魅力究竟在哪里,未来又会有哪些发展趋势呢?就让我们带着对浸入式光刻的疑问一探究竟吧。
为什么是浸入式光刻?
自从摩尔定律被提出,人类......