拼命追赶还是惨输台积电 三星3纳米最新良率曝光

发布时间:2024-03-28  

的先进制程技术遥遥领先其他竞争对手,也获得全球大客户肯定。不过南韩电子仍努力追赶,想要分一杯羹。据最新爆料,的已大幅提升到原本的3倍,但仍是落后。

本文引用地址:

科技网站Wccftech引述知名爆料者Revegnus在社群平台X(前身为推特)的发文报导,的制程一开始虽然只有10~20%,但最近已拉升至3倍以上。

尽管三星如今制程已达30~60%之间,但Revegnus直言,相较于使用FinFET制程的,三星的良率数据依然偏低。不过三星对于第二代3纳米制程寄予厚望,据传其效能、功耗及面积(Performance、Power、Area;PPA)相当于台积电的N3P。

Revegnus还表示,据消息人士透露,三星3纳米制程的能源效率、逻辑区域,都较4纳米4纳米FinFET改善20~30%。

[Exclusive] Samsung's 3nm Yield-related News

Currently, Samsung's 3nm yield, which initially hovered around 10-20%, has recently improved by over threefold.

Of course, this figure remains lower compared to TSMC, which still utilizes FinFET technology.

However, Samsung has high…

— Revegnus (@Tech_Reve) March 22, 2024

不过Wccftech在报导中直言,随着台积电今年积极将3纳米晶圆产能扩大到每月约10万片的规模,三星几乎没有机会赶上,「在过去的几年里,这家台湾半导体巨头(台积电)在这个领域几乎看不到竞争」。

报导中指出,三星必须将良率进一步提高70%,才能重拾高通等先前客户的信心。不过到目前为止,三星的3纳米GAA芯片只有加密挖矿行业客户的订单,并没有加入更多其他客户。很可能是因为许多公司对三星的早期样品印象不佳,因此决定在可预见的未来继续使用台积电。三星虽仍致力于做出调整,但要对其代工劲敌台积电构成威胁还需要一段时间。

文章来源于:电子产品世界    原文链接
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