日前韩国今日电子新闻报道称计划斥巨资进口大量的半导体设备，其中包括更多的 极紫外（EUV）光刻设备。尽管因为合同中的保密条款未能披露具体细节，但证券市场消息称，该协议将使 ASML 在五年内提供总共 50 套设备，而每台单价约为 2000 亿韩元（当前约合人民币 11.16 亿），总价值可达 10 万亿韩元（当前约合人民币 558 亿）。

目前尚不清楚其合同中的产品是现有 EUV 光刻设备还是下一代 “High NA EUV” 光刻设备。不过目前 EUV 光刻设备最大的问题是产量有限。官方称其比卫星部件还复杂，每年只能生产很有限的数量。

据说，去年只生产了 40 台，而今年 ASML 估计是 60 台。目前需要且能购买到 EUV 光刻设备的厂商有五家：三星电子、台积电、英特尔、SK 海力士和美光。其中，台积电约占供应量的 70%，剩下四家公司争夺剩下的 30%。

去年 6 月三星电子推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的 3nm 代工技术，因此该公司一直在努力确保采购更多 EUV 光刻设备，目标是在明年上半年进入 3nm 世代的第二代工艺，在 2025 年进入 2nm 工艺，在 2027 年进入 1.4nm 工艺。

因此，去年 6 月三星电子董事长李在镕访问了 ASML 总部，与 首席执行官 Peter·Bennink 讨论了 EUV 采购问题，并在同年 11 月访问韩国期间与 Bennink 进行了进一步会谈。鉴于 EUV 的交付周期（从下单到收货）至少需要一年，这些会议看起来确实取得了实际成果。

实际上，半导体领域分析师也对三星电子增购 EUV 光刻设备的计划持积极态度。祥明大学系统半导体工程教授 Lee Jong-hwan 表示：“三星已引进数十台 EUV 光刻设备，据说每台设备的成本约为 2000 亿韩元，这表明该公司打算扩大 3nm 量产机会，并在未来实现 2nm 计划。”

此前，三星电子宣布计划到 2025 年拥有 100 台 EUV 。市场估计三星目前的 EUV 机群约为 40 台。如果这 50 台设备的能够顺利交付，那么到 2028 年将能够拥有约 100 台设备。

荷兰应用科学研究所（TNO）韩国代表 Byung-hoon Park 解释称说：“通常情况下，半导体工艺可以将每台机器的 10% 用于工艺研发和测试，拥有 100 台机器则意味着它们可以全天候用于研发。”

他还指出，“通过这样做，我们将能够确保有足够的工艺能力来正确使用设备”，他补充说，“ 预计这将减少工艺过程中的时间和成本，并提高产量。”

“一旦我们拥有了大量的（EUV）设备，并且技术趋于稳定，我们将能够提高产量，并在代工方面取得进展” ，工业研究所的专家研究员金阳邦（Kim Yang-pang）说。