近日，纳晶科技全球首发最高分辨率(300PPi)的喷墨打印主动式矩阵量子点发光二极管(AM-QLED)，这意味着纳晶AM-QLED技术量产进程又迈出了里程碑式的一步。

传统量子点背光技术是用量子点材料制成量子点膜或量子点扩散板来赋能液晶产品实现色域的提升。与之不同的是，AMQLED显示屏基于量子点“电致发光”原理，采用了新型氧化物TFT和喷墨打印技术，顶发射器件结构，无需背光源，实现真正的“主动式量子点自发光全彩显示”。

量子点材料，是尺寸在1nm-100nm之间，具有“量子限域效应”的半导体纳米晶。它具有可溶液加工、化学/光学/电光稳定性优异、发光峰位随尺寸可调、荧光光谱窄、荧光量子产率高等一系列优异的特点。将其应用于显示领域时，展现出色域广(完美适配BT2020的标准)、响应速度快(微秒级)、驱动电压低(功耗低)等各类优秀的特性。

近年来，喷墨打印技术一直受限于分辨率的问题难以应用于中小尺寸。使用喷墨打印制备高分辨率产品具备极大的挑战，需要解决各种潜在的问题，例如打印精度相对较低、像素间串色、成膜均匀性差等多项技术难题。为了攻克这一难关，纳晶光电研发团队通过独特的像素设计在保证高分辨的打印同时降低了对打印精度的要求，并通过优化打印工艺解决串色问题，同时调配适合打印的墨水配方及优化干燥工艺解决成膜均匀性的问题。最终，在两条试验线的基础上，采用氧化物TFT背板，制备出目前喷墨打印最高分辨率(300PPi)的AM-QLED DEMO，显示峰值亮度达到1000nit，色域超过110% NTSC。

纳晶科技长期坚持科技创新，继自主研发100ppi、150ppi等多款电致发光AMQLED后，再一次引领了量子点显示的行业技术发展方向，300ppi喷墨打印AMQLED显示样机的行业首发，标志着纳晶AMQLED技术在打印工艺端的产业化工艺验证逐步走向成熟，进一步助力中国显示实现引领的跨越式发展。

值得一提的是，使用纳晶量子点制备的QLED，蓝绿光QLED效率为目前已知公开报道最高水平，绿光QLED EQE达到28.7%，蓝光QLED EQE达到21.9%，绿光QLED寿命达到了T95 200h@10000nit。同时，纳晶还布局了光刻工艺技术路线，未来可实现在显示领域的全尺寸覆盖。据悉，“十三五”显示方向总体实现突破印刷OLED/QLED/电子纸发光与显示材料、印刷TFT材料与器件的关键共性技术，而十四五期间将要实现产业化，纳晶参与了国家十三五/十四五重点研发计划，其中十三五项目获得A级评定，预期在十四五期间建设全球首条具有量产能力的AM-QLED印刷显示示范线。

中国虽已是全球最大的显示行业的供应基地，但距离“显示强国”目标仍存在一定差距，其中最大瓶颈在于部分关键性材料和装备仍然依赖进口。特别是面对国际显示产业竞争日趋激烈当下，对中国整个显示产业链、供应链也敲响了警钟，对材料和设备的国产化、本地化的需求迫在眉睫，纳晶在量子点新材料及电致发光QLED的重要进展，让我们看到了中国显示产业崛起的希望。