分立式氮化镓(GaN)晶体管已投入生产十多年了,目前这项技术已成熟了很多。事实证明,GaN器件比硅功率MOSFET器件具有更高的性能和更低的成本。但是,GaN晶体管现在的优势还仅在于器件本身;未来则可以通过将多个GaN器件集成到单个芯片上,构建完整的电源系统,而发挥更大的优势。
ASPENCORE第三届“全球CEO峰会”即将于2020年11月5日在深圳召开,大会的主题是“重思、重构、重升”( ,)。本届大会将邀请到EPC公司首席执行官Alex Lidow这位重要演讲嘉宾,为我们带来“Redefining Power Conversion with Gallium Nitride Integrated Circuits”(用GaN IC重新定义电源转换)的主题演讲。
宜普公司(EPC)联合创始人兼CEO Alex Lidow
Alex Lidow是宜普公司(EPC)联合创始人兼CEO,曾任国际整流器(IR)公司CEO。他是HEXFET功率MOSFET的共同发明者,拥有21项功率半导体技术专利。Lidow曾获得2015年北美SEMI奖,以表彰他在新材料功率器件商业化方面做出的贡献。他获得了加州理工的应用物理学士,以及斯坦福大学应用物理博士学位。
据了解,今年初,宜普电源转换公司(EPC)推出了首个全新的IC系列产品,为DC/DC转换、电机驱动及D类放大器等高功率密度应用提供了更高性能及更小型化的解决方案。
EPC推出的这款80V、12.5A功率级IC EPC2152,专为48V DC/DC转换而设计,用于具有高功率密度的计算应用以及针对电动汽车的电机驱动器。这款GaN IC器件内部集成了一个单芯片驱动器,以及一个基于eGaN FET、采用EPC专有GaN IC技术的半桥功率级。在单芯片上集成了输入逻辑接口、电平转换电路、自举充电电路、栅极驱动器的缓冲电路以及配置为半桥器件的输出eGaN FET,从而实现芯片级LGA封装、细小的外形尺寸(3.9mm×2.6mm×0.63mm)。
当48V转12V降压转换器在1MHz的开关频率下工作时,EPC2152 ePower功率级IC可实现高于96%的峰值效率,相比采用多个分立器件的解决方案,这个IC在PCB的占板面积少33%。
EPC2152是该系列的首个产品。该系列在未来会进一步推出采用芯片级封装(CSP)及多芯片四方扁平模块(QFM)的功率级IC。EPC还将在未来一年内将推出可在高达3至5MHz频率范围工作、每级功率级的电流可高达15A至30A的产品。
借助这一产品系列,设计人员就可以更容易地发挥GaN技术的性能优势。集成多个器件在单芯片上,设计师可以更容易设计、布局、组装、节省占板面积及提高效率。
Alex Lidow表示,分立式功率晶体管正在进入它的最后发展阶段。硅基氮化镓IC可以实现更高的性能、占板面积更小,并可省去很多的所需工程。“这个全新的功率级IC系列是氮化镓功率转换领域的最新发展里程,从集成多个分立式器件,以至集成更复杂的解决方案都可以,从而实现硅基解决方案所不能实现的电路性能,使得功率系统工程师可以更容易设计出高效的功率系统。”他补充说。
本次全球CEO峰会上,Alex Lidow将从以下四个部分系统性地讲解GaN技术的来龙去脉:
1. GaN发展的历史背景及其背后的推动力;
2. 目前最先进的技术;
3. 制造IC的实际方法及其最先进的技术和优势;
4. 展望未来数年内GaN技术带来的变化。
综上所述,GaN技术的崛起,以及全新的GaN IC,正在重新定义电源转换,并将为业界带来最大的性能优势。
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