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，CNews称，莫斯科电子技术学院 (MIET）承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。
研发光刻机计划达到EUV级别，但技术原理......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
| 编辑
1、像盖章一样造芯片
纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。[2]
虽然从名字上来看，纳米压印概念非常高深，但实际上它的原理......
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绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
lithography)技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。
在制程技术进入5nm节点之后，EUV光刻......
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是在晶圆上压印印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头ASML的EUV设备相比，其能耗降低了90%。
去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（NIL）设备，该设备可以与ASML的极紫外（EUV......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
nanowire ）技术。
上图显示了不同工艺节点用到的技术，据此不同的工艺节点用到的掩膜层数如下图所示：
新的光刻技术
从20nm节点开始，为了使用传统光刻技术......
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