技术咨询
代买器件
商务客服
研发客服据央视新闻报道，9月14日晚，国际顶级学术期刊《自然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。
报道称，南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队，发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部，通过控制激光移动的方向，在晶体内部形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除。
这一新技术，突破了传统飞秒激光的光衍射极限，把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸，从传统的1微米量级（相当于头发丝的五十分之一），首次缩小到纳米级，达到30纳米，大大提高了加工精度。
这一重大发明，未来或可开辟光电芯片制造新赛道，有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备，在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的，且明确注明来源，不希望被转载的媒体或个人可与我们联系，我们将立即进行删除处理。
相关文章
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
力更生、自主研发的斗志。
这不，近日就传来一则好消息——1月31日，中国第一条量子芯片生产线在安徽合肥首次向公众亮相了。我国最新量子计算机“悟空”即将在这里面世，当前......
晶圆有怎样的市场需求呢？布局成熟工艺芯片有何意义？(2023-01-12)
晶圆有怎样的市场需求呢？布局成熟工艺芯片有何意义？;
中国芯是指由中国自主研发并生产制造的计算机处理。实施“中国芯”工程，采用动态流水线结构，研发生产了一系列中国芯。
通用......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。
我国光刻机技术的突破
相比于对华出口光刻机受限，我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机，产能......
荷兰专家：美国遏制光刻机、芯片策略将适得其反 加速中国自研(2024-09-09)
荷兰专家：美国遏制光刻机、芯片策略将适得其反 加速中国自研;
9月9日消息，近日，荷兰在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对的管制范围。
荷兰专家认为，荷兰......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！(2024-07-04)
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌
编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
的技术难度和成本高筑进入壁垒。
中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
来自东方晶源官网)
东方晶源自2014年成立之初即预见性地提出GPU加速的全芯片反向光刻掩模优化技术,从根本上异于其他公司的技术路线。历经九年自主研发,已经形成PanGen 计算光刻......
美国牵头组建“三国同盟”围堵中国芯片，日荷两方最新回应来了！(2023-01-30)
中企能够从ASML采购到足量的DUV光刻设备，自然也就没有了必须进行自主研发的理由。
▲相关报道截图
另外，他还表示自己只是个商人，希望公司能够正常进行交易。限制......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
仍需要大量的核心技术理论验证，该技术被率先应用在DUV光刻领域要更高，可以以此推动国产DUV光刻机在芯片制程精度上的迭代。
众所周知，在光刻机领域里，ASML公司是一家独大的，依靠着自主研发......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
必须在真空环境中传输，机械精确度要达到皮秒级，光学透镜平整度达到皮米级。
中国开展了光刻机自主研发，2000年开始，我国团队参观ASML，遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机，ASML态度......