ModCap �C 面向直流链路应用的模块化电容器概念

发布时间:2021-04-23  

TDK专为直流链路应用开发了模块化且通用的电力电容器概念。该系列电容器结合新一代的IGBT模块,有望快速为牵引、可再生能源和工业应用带来紧凑型逆变器。

市场对逆变器和所需直流链路电容器的要求日益严格,其中包括以紧凑尺寸提供高能量密度、控制快速开关操作、大电流能力、高工作温度、与IGBT模块的机械兼容性,以及长使用寿命。为满足上述的所有要求,TDK基于在ModCap™电力电容器方面长期积累的专业知识,开发了一种新的模块化、标准化和可扩展的直流母线电容器概念。该系列不同于多数传统的直流链路电容器,改用方形设计,配备塑料外壳,并且有两种型号可选:243 x 169.5 x 90 mm或258 x 215 x 115 mm(图1)。

ModCap采用并联的扁平绕组结构设计,并填充聚氨酯树脂。这种设计使其能尽可能靠近 IGBT 模块安装,最大限度缩短了引线。加上低至 14 nH 的超低自感,可确保在断电时有效防止 IGBT 模块上出现明显电压过冲。如此一来,一般情况下就无需额外的缓冲电容器,从而能减小空间需求并降低新型逆变器的设计成本。

图1:方形设计使得电容器能靠近IGBT模块安装,有效降低电感,并方便并联连接。

通过热建模和电磁建模缩短上市时间。

该系列电容器采用双轴取向聚丙烯 (BOPP) 作为电介质,可实现一致的90°C热点温度,同时显著增强自愈性。借助仿真软件,TDK还能根据客户指定的频谱、最大电流和安装方式等参数计算电容器的热反应(图2),并能评估可能出现的热点位置。必要时,我们可将评估结果附加在型式认证中。这样能为客户带来极大优势,如无需复杂和冗长的测试和重新设计工作,大幅缩短了产品上市时间,从而赢得明显的竞争优势。

图2:电容器内部的温度分布仿真。在上图示例中,最低温度与最高温度之间的温差约为20 K。

我们还能模拟时间和频率范围内的电磁特性和热性能,以便轻松确定损耗及其在电容器内的分布情况,从而进一步帮助客户缩短产品上市时间。

宽泛的电容和电压范围

ModCap系列的新型B25645A*电容器的额定电压范围为1100 V至2300 V,电容范围为365 μF至2525 μF,额定电流范围为105 A至180 A,具体视型号而定。此外,所有型号都专为5 kA周期脉冲电流而设计,具备UL94 V-0的阻燃等级,满足EN 45545-2 HL2 R22-HL3 R23关于材料的防火和烟雾排放要求,非常适合牵引应用。

文章来源于:ECCN    原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的,且明确注明来源,不希望被转载的媒体或个人可与我们联系,我们将立即进行删除处理。

相关文章

    中国台湾地区半导体产业强化布局EUV技术,引发韩国三星警戒;相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术,相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《Business Korea》报导,近期......
    投资100亿美元,补贴8.25亿美元,美国发力EUV光刻技术; 近日,美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术......
    生产导入EUV(极紫外光)设备,其DRAM芯片产品皆采用DUV(深紫外光)光刻机制造。 近期,媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产,预计该制程技术......
    消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术;7 月 29 日消息,台媒《电子时报》(DIGITIMES)今日报道称,台积电最快在 2028 年推......
    于相当于从地球上照出手电筒并击中放置在月球上的 50欧分硬币; EUV系统包含一个重达7600公斤的大型真空室。 那么,不用EUV行吗? 除了EUV,也不是没有其它技术,全世界对光刻的研究一直都很积极,已经足足有将近60年历史,光刻技术......
    极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业的标准界限;据科技日报报道称,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
    逼近极限!ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址:在科技日新月异的今天,芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业,近日发布的第三代EUV......
    极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本;据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
    EUV、NIL等下一代光刻专利数量上,台积电远超三星电子; 【导读】TechInsights 1月27日发布报告称,在包括EUV在内的下一代光刻技术方面,台积......
    ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前......

我们与500+贴片厂合作,完美满足客户的定制需求。为品牌提供定制化的推广方案、专属产品特色页,多渠道推广,SEM/SEO精准营销以及与公众号的联合推广...详细>>

利用葫芦芯平台的卓越技术服务和新产品推广能力,原厂代理能轻松打入消费物联网(IOT)、信息与通信(ICT)、汽车及新能源汽车、工业自动化及工业物联网、装备及功率电子...详细>>

充分利用其强大的电子元器件采购流量,创新性地为这些物料提供了一个全新的窗口。我们的高效数字营销技术,不仅可以助你轻松识别与连接到需求方,更能够极大地提高“闲置物料”的处理能力,通过葫芦芯平台...详细>>

我们的目标很明确:构建一个全方位的半导体产业生态系统。成为一家全球领先的半导体互联网生态公司。目前,我们已成功打造了智能汽车、智能家居、大健康医疗、机器人和材料等五大生态领域。更为重要的是...详细>>

我们深知加工与定制类服务商的价值和重要性,因此,我们倾力为您提供最顶尖的营销资源。在我们的平台上,您可以直接接触到100万的研发工程师和采购工程师,以及10万的活跃客户群体...详细>>

凭借我们强大的专业流量和尖端的互联网数字营销技术,我们承诺为原厂提供免费的产品资料推广服务。无论是最新的资讯、技术动态还是创新产品,都可以通过我们的平台迅速传达给目标客户...详细>>

我们不止于将线索转化为潜在客户。葫芦芯平台致力于形成业务闭环,从引流、宣传到最终销售,全程跟进,确保每一个potential lead都得到妥善处理,从而大幅提高转化率。不仅如此...详细>>