近期，Micro-LED和氮化镓（GaN）材料技术厂商Porotech将在美国DisplayWeek展会,发表PoroGaN®微显示平台上的动态像素调整(DynamicPixelTuning™)专利技术。这是使用单个晶圆上的相同像素来创造全彩或可调色彩的表现，不但实现Micro-LED微型显示器目前在色彩均匀度的挑战，同时减化了复杂的制造过程。该创新将加速Micro-LED、Mini-LED和LED在AR/MR/VR眼镜、智能可穿戴设备、智能显示器和高解析大营幕电视應用的普及化。

Porotech是世界上第一个在LED芯片和像素开发出动态颜色调整的公司。其PoroGaN微显示平台使外延片上的每个单独的微型LED都可以呈现视觉范围内光谱的所有色彩。

近期，Micro-LED和氮化镓（GaN）材料技术厂商Porotech将在美国DisplayWeek展会,发表PoroGaN®微显示平台上的动态像素调整(DynamicPixelTuning™)专利技术。这是使用单个晶圆上的相同像素来创造全彩或可调色彩的表现，不但实现Micro-LED微型显示器目前在色彩均匀度的挑战，同时减化了复杂的制造过程。该创新将加速Micro-LED、Mini-LED和LED在AR/MR/VR眼镜、智能可穿戴设备、智能显示器和高解析大营幕电视應用的普及化。

Porotech是世界上第一个在LED芯片和像素开发出动态颜色调整的公司。其PoroGaN微显示平台使外延片上的每个单独的微型LED都可以呈现视觉范围内光谱的所有色彩。

现阶段Porotech原型概念展示的是可调节色彩的单色显示器，在微米(µm)和纳米(nm)像素的表现上具有均匀的亮度和颜色，这项突破促使该公司更加快脚步准备将动态像素调整技术落实到全彩RGB显示器。

此外，PoroGaN微显示平台支持一步式晶圆与晶圆的键合工艺，消除了微型显示器的关键制造障碍，从而提高产量并降低生产成本和上市时间。

Porotech执行长兼联合创始人朱彤彤博士表示：「由于我们彻底巅覆GaN的半导体材料和结构技术，让我们突破在单位像素上呈现全光谱颜色。同时，PoroGaN微显示平台的光电特性，简化了电子和光电系统设计集成的过程。目前微米纳米级的Micro-LED和Mini-LED显示器在制造所需的多阶段工艺仍然具有挑战性，凭借Porotech的多孔氮化镓(GaN)技术和架构平台，可以大幅简化现有质量转移(MassTransfer)或拾取和放置(Pick-and-Place)等Micro-LED制程。」

朱博士并表示：「在微型显示器方面，透过PoroGaN微显示平台，外延片与背板进行晶圆级键合只要一个步骤，从而消除了转移的需要。工艺的简化提供了高效率和高良率的解决方案，为下一代显示应用提供了市场化的解决方案。」

PoroGaN微显示平台目前提供的解决方案包括：用于Micro-LED和Mini-LED芯片处理的LED外延片，晶圆上芯片（chip-on-wafer）、带上芯片（chip-on-tape）和材料平台。

现阶段Porotech原型概念展示的是可调节色彩的单色显示器，在微米(µm)和纳米(nm)像素的表现上具有均匀的亮度和颜色，这项突破促使该公司更加快脚步准备将动态像素调整技术落实到全彩RGB显示器。

此外，PoroGaN微显示平台支持一步式晶圆与晶圆的键合工艺，消除了微型显示器的关键制造障碍，从而提高产量并降低生产成本和上市时间。

Porotech执行长兼联合创始人朱彤彤博士表示：「由于我们彻底巅覆GaN的半导体材料和结构技术，让我们突破在单位像素上呈现全光谱颜色。同时，PoroGaN微显示平台的光电特性，简化了电子和光电系统设计集成的过程。目前微米纳米级的Micro-LED和Mini-LED显示器在制造所需的多阶段工艺仍然具有挑战性，凭借Porotech的多孔氮化镓(GaN)技术和架构平台，可以大幅简化现有质量转移(MassTransfer)或拾取和放置(Pick-and-Place)等Micro-LED制程。」

朱博士并表示：「在微型显示器方面，透过PoroGaN微显示平台，外延片与背板进行晶圆级键合只要一个步骤，从而消除了转移的需要。工艺的简化提供了高效率和高良率的解决方案，为下一代显示应用提供了市场化的解决方案。」

PoroGaN微显示平台目前提供的解决方案包括：用于Micro-LED和Mini-LED芯片处理的LED外延片，晶圆上芯片（chip-on-wafer）、带上芯片（chip-on-tape）和材料平台。