三星2022技术日公布三大重要计划

发布时间:2022-10-13  

三星最近公布了其半导体技术路线图,包括 1.4 nm、新内存技术和“无晶圆厂的整体解决方案”的计划。

自 2017 年以来,三星每年举办一次“技术日”研讨会,期间将发布新技术、讨论行业状况并公布未来计划。在 2022 年代工论坛之后举行的 2022 年技术日上,三星为其即将推出的 1.4nm 工艺节点、内存路线图以及扩大其行业影响力的目标制定了计划。在本文中,我们将讨论会议的一些主要亮点。

三星将着眼于 1.4nm

在三星 2022 年代工论坛上,该公司宣布了继续扩展其工艺技术的计划。今年早些时候,三星开始生产其 3nm 节点,这是业内第一家完成这一壮举的代工厂。现在,三星已经将目光投向了下一代工艺技术,特别是 2nm 节点。

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MOSFET 演进达到先进节点。

三星计划到 2025 年实现 2nm 生产。实现这一规模将需要三星基于环栅 (GAA) 的晶体管技术。除此之外,该公司设想到 2027 年达到 1.4nm 节点,并计划在同年将其先进节点产量提高两倍。

Big V-NAND 和 DRAM 计划正在进行中

三星还推出了其第八代和第九代 V-NAND 产品以及第五代 DRAM 产品。

该公司目前为 V-NAND 提供 512 Gb TLC产品,但预计今年晚些时候会发布 1 TB的TLC 版本。第五代 DRAM 产品将是 10nm (1b) 器件,将于 2023 年进入量产阶段。即将推出的其他 DRAM 解决方案包括 32 Gb DDR5 解决方案、8.5 Gbps LPDDR5X DRAM 和 36 Gbps GDDR7 DRAM。

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三星最新 DDR5 解决方案

三星对其 V-NAND 有很大的计划,声称到 2030 年,它将实现 1000 层的 V-NAND。为了实现这一目标,三星正在从其当前的 TLC 架构过渡到QLC架构,以提高密度并启用更多层。

三星还将在 DRAM 研发上投入更多资源,研究新的架构和材料,例如 High-K,以帮助将 DRAM 工艺扩展到 10 纳米以下。该公司打算进一步开发其他 DRAM 解决方案,例如内存处理 (PIM)。

三星与整个行业的合作

三星以 2022 年技术日为契机,制定了一些行业外展计划。

三星的系统 LSI 业务宣布打算成为“无晶圆厂的整体解决方案”。通过这种设计服务的方式,该集团意味着它将利用其产品,包括 SoC、PMIC 和安全解决方案,整合到一个供客户使用的单一平台中。通过这种方式,三星可以在没有晶圆厂的情况下为其客户设计定制解决方案。

三星还通过扩大贸易伙伴关系来扩大其行业影响力。具体来说,该公司将开设三星内存研究中心 (SMRC),客户和供应商可以在该中心在各种应用和环境中测试三星内存设备。该中心将与包括红帽和谷歌在内的合作伙伴合作设计。

文章来源于:ECCN    原文链接
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